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公開番号2024059676
公報種別公開特許公報(A)
公開日2024-05-01
出願番号2024017371,2021557274
出願日2024-02-07,2020-03-13
発明の名称較正ツール
出願人ブイエムアイ・ホラント・ビー.ブイ.,VMI Holland B.V.
代理人弁理士法人鈴榮特許綜合事務所
主分類G01B 11/24 20060101AFI20240423BHJP(測定;試験)
要約【課題】測定システム、特にレーザ三角測量測定システムを較正するための較正ツール及び方法を提供することであり、較正を改善する。
【解決手段】本発明は、レーザ三角測量測定システムを較正するための較正ツール及び方法に関し、較正ツールは、基準平面を画定し、基準平面に対して垂直な回転軸を中心としてレーザ三角測量測定システムに対して回転可能なツール本体を備え、ツール本体は、較正位置のパターンを画定する1つ以上の較正面を設けられ、パターンは、回転軸から離れて半径方向に延在する少なくとも3つの列と、回転軸を中心として円周方向に延在する少なくとも3つの行とを備え、各列について、それぞれの列内の較正位置は、基準平面に対して垂直な高さ方向の基準平面に対する高さが変動し、各行について、それぞれの行内の較正位置は、基準平面に対する高さ方向の高さが変動する。
【選択図】図4
特許請求の範囲【請求項１】
レーザ三角測量測定システムを較正するための較正ツールであって、前記較正ツールは、基準平面に対して垂直な回転軸を中心として前記レーザ三角測量測定システムに対して回転可能なツール本体を備え、前記ツール本体は、較正位置のパターンを画定する１つ以上の較正面を設けられ、前記パターンは、前記回転軸から離れて半径方向に延在する少なくとも３つの列と、前記回転軸を中心として円周方向に延在する少なくとも３つの行とを備え、各列について、それぞれの前記列内の前記較正位置は、前記基準平面に対して垂直な高さ方向の前記基準平面に対する高さが変動し、各行について、それぞれの前記行内の前記較正位置は、前記基準平面に対する前記高さ方向の高さが変動する、較正ツール。
続きを表示（約 780 文字）【請求項２】
前記パターンは、較正位置の放射状グリッドを形成する、請求項１に記載の較正ツール。
【請求項３】
各列について、それぞれの前記列内の前記較正位置の少なくとも半分及び好ましくは全ての較正位置は、前記基準平面に対する前記高さ方向の異なる高さを有する、請求項１又は２に記載の較正ツール。
【請求項４】
各列について、それぞれの前記列内の前記較正位置は、前記回転軸から離れる前記半径方向に前記基準平面に対する高さが順次低減される、請求項１～３のうちのいずれか一項に記載の較正ツール。
【請求項５】
高さの前記順次低減は、前記基準平面に対する一定の減分を有する、請求項４に記載の較正ツール。
【請求項６】
高さの前記順次低減は、曲率に従う、請求項４に記載の較正ツール。
【請求項７】
各行について、それぞれの前記行内の前記較正位置の少なくとも半分及び好ましくは全ての較正位置は、前記基準平面に対する前記高さ方向の異なる高さを有する、請求項１～６のうちのいずれか一項に記載の較正ツール。
【請求項８】
各行について、それぞれの前記行内の前記較正位置は、前記円周方向に前記基準平面に対する高さが順次増大される、請求項１～７のうちのいずれか一項に記載の較正ツール。
【請求項９】
高さの前記順次増大は、前記基準平面に対する一定の増分を有する、請求項８に記載の較正ツール。
【請求項１０】
前記パターン内の各較正位置は、同じ列及び同じ行中に前記基準平面に対する他の較正位置の高さとは異なる前記基準平面に対する前記高さ方向の高さを有する、請求項１～９のうちのいずれか一項に記載の較正ツール。
（【請求項１１】以降は省略されています）
発明の詳細な説明【背景技術】
【０００１】
本発明は、測定システム、特に三角測量測定システムを較正するための較正ツール及び方法に関する。
続きを表示（約 2,100 文字）【０００２】
測定システムは、１つ以上のタイヤ構成要素の品質及び／又は特性を測定するために、生産の様々なステージ中にタイヤ成形の分野で使用される。前記ステージのうちの１つは、ビードエイペックスの生産である。ビードエイペックスは、ビードエイペックスドラムの円周の周りにビード及びエイペックスを順次適用することによって形成される。ビードエイペックスドラムは、多種多様な形状及びサイズのビード及びエイペックスを受け入れ得る。その上、ビードエイペックスドラムもまた、様々な形状及びサイズで提供され、適宜、別のビードエイペックスドラムによって置き換えられ得る。最後に、エイペックスを支持するビードエイペックスドラムの一部は、典型的には、半径方向に対して斜角でエイペックスを支持するために円錐形である。
【発明の概要】
【０００３】
既知のレーザ三角測量測定システムの欠点は、経時的に不正確になり得ることである。所定の寸法を有する静止物体を測定することによって、及び測定値を所定の寸法と比較することによって、レーザ三角測量測定システムを較正することが知られている。しかしながら、この較正プロセスは、静止物体の寸法に基づいて限られた量のフィードバックしか提供しない。測定システムは、静止物体の寸法に対して適切に較正され得るが、他の寸法範囲中の測定値は、依然として較正されておらず、不正確であり得る。
【０００４】
本発明の目的は、測定システム、特にレーザ三角測量測定システムを較正するための較正ツール及び方法を提供することであり、較正を改善することができる。
【０００５】
第１の態様によると、本発明は、レーザ三角測量測定システムを較正するための較正ツールを提供し、較正ツールは、基準平面に対して垂直な回転軸を中心としてレーザ三角測量測定システムに対して回転可能なツール本体を備え、ツール本体は、較正位置のパターン、特に放射状グリッドを画定する１つ以上の較正面を設けられ、パターンは、回転軸から離れて半径方向に延在する少なくとも３つの列と、回転軸を中心として円周方向に延在する少なくとも３つの行とを備え、各列について、それぞれの列内の較正位置は、基準平面に対して垂直な高さ方向の基準平面に対する高さが変動し、各行について、それぞれの行内の較正位置は、基準平面に対する高さ方向の高さが変動する。
【０００６】
ツール本体は、ビードエイペックスドラムと同じ方法で測定システムに対して都合よく回転させることができる。ツール本体を回転させることによって、列は、測定システムによって各列内の較正位置を測定するための測定位置に１つずつ位置付けることができる。特に、測定システムは、列のそれぞれ１つ中の全ての較正位置を同じ投影されたレーザラインに沿って同時に測定することができるように、レーザラインを半径方向に又は半径方向に対して平行してツール本体上に投影し得る。較正位置の各列は、測定システムについての較正としての役割を果たすことができる特定の高さプロファイルを表すか又は形成する。較正位置は、列及び行の両方において高さが変動するので、かなりの数の較正位置について測定値を較正することができ、このことから、様々な高さ位置について比較的大量のフィードバックを測定システムに提供することができる。
【０００７】
好ましくは、各列について、それぞれの列内の較正位置の少なくとも半分及び好ましくは全ての較正位置は、基準平面に対する高さ方向の異なる高さを有する。故に、それぞれの列内の較正位置の少なくとも半分は、測定システムの較正についての固有の較正情報を生成する。
【０００８】
一実施形態では、各列について、それぞれの列内の較正位置は、回転軸から離れる半径方向に基準平面に対する高さが順次低減される。高さの順次低減は、ビードエイペックスドラム上に支持されたビードエイペックスの下降する高さと同様であるか又はそれを表すことができ、従って、測定システムの較正についての有用な較正情報を提供することができる。
【０００９】
好ましくは、高さの順次低減は、基準平面に対する一定の減分を有する。このことから、それぞれの列内の較正位置によって生成された較正情報を使用して、測定システムの尺度、特に画素を現実世界の単位、即ちミリメートルに変換するための尺度を決定することができる。代替として、高さの順次低減は、曲率に従う。前記曲率は、例えば、測定システム中で使用されるカメラの結果としてのある特定のレンズ歪み効果に一致する又はそれを補正するように選択することができる。
【００１０】
加えて又は代替として、各行について、それぞれの行内の較正位置の少なくとも半分及び好ましくは全ての較正位置は、基準平面に対する高さ方向の異なる高さを有する。故に、それぞれの行内の較正位置の少なくとも半分は、測定システムの較正についての固有の較正情報を生成する。
（【００１１】以降は省略されています）

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