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公開番号2024052710
公報種別公開特許公報(A)
公開日2024-04-11
出願番号2024028588,2021195643
出願日2024-02-28,2021-12-01
発明の名称偏光子の製造方法および偏光板の製造方法
出願人日東電工株式会社
代理人個人
主分類G02B 5/30 20060101AFI20240404BHJP(光学)
要約【課題】画像表示装置における表示ムラを抑制できる偏光子および偏光板を製造する方法を提供すること。
【解決手段】本発明の実施形態による偏光子の製造方法は、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを二色性物質で染色する染色工程と;染色工程後のポリビニルアルコール系樹脂フィルムをホウ酸水溶液に接触させる架橋工程と;架橋工程後のポリビニルアルコール系樹脂フィルムを延伸浴中で延伸する延伸工程と;を含む。染色工程前のポリビニルアルコール系樹脂フィルムにおけるホウ酸の含有割合と、染色工程後かつ架橋工程前のポリビニルアルコール系樹脂フィルムにおけるホウ酸の含有割合との差の絶対値が、5.0質量%以下である。
【選択図】図1
特許請求の範囲【請求項１】
ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを二色性物質で染色する染色工程と、
前記染色工程後のポリビニルアルコール系樹脂フィルムをホウ酸水溶液に接触させる架橋工程と、
前記架橋工程後のポリビニルアルコール系樹脂フィルムを延伸浴中で延伸する延伸工程と、を含み、
前記染色工程前のポリビニルアルコール系樹脂フィルムにおけるホウ酸の含有割合と、前記染色工程後かつ前記架橋工程前のポリビニルアルコール系樹脂フィルムにおけるホウ酸の含有割合との差の絶対値が、５．０質量％以下である、偏光子の製造方法。
続きを表示（約 610 文字）【請求項２】
単体透過率が４２％以上４５％以下の偏光子を製造する、請求項１に記載の偏光子の製造方法。
【請求項３】
ポリビニルアルコール系樹脂とハロゲン化物とを含む塗布液を長尺状の熱可塑性樹脂基材上に塗布して、前記ポリビニルアルコール系樹脂フィルムとしてのポリビニルアルコール系樹脂層と前記熱可塑性樹脂基材とを備える積層体を作製する積層体作製工程と、
前記積層体を空中延伸する補助延伸工程と、
前記染色工程と、
前記架橋工程と、
前記延伸工程と、
前記延伸工程後のポリビニルアルコール系樹脂層を、長尺方向に搬送しながら前記長尺方向と直交する幅方向に収縮させる乾燥収縮工程と、をこの順に含む、請求項１または２に記載の偏光子の製造方法。
【請求項４】
前記熱可塑性樹脂基材は、ポリエチレンテレフタレートフィルムである、請求項３に記載の偏光子の製造方法。
【請求項５】
厚みが１２μｍ以下である偏光子を製造する、請求項３または４に記載の偏光子の製造方法。
【請求項６】
前記延伸浴が、ホウ酸水溶液である、請求項１～５のいずれか一項に記載の偏光子の製造方法。
【請求項７】
請求項１～６のいずれかに記載の偏光子の製造方法によって製造される偏光子に、保護フィルムを貼り合わせることを含む、偏光板の製造方法。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、偏光子の製造方法および偏光板の製造方法に関する。
続きを表示（約 2,800 文字）【背景技術】
【０００２】
画像表示装置には、代表的には偏光子が用いられている。そのような偏光子は、例えば、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムをホウ酸水溶液に浸漬して不溶化した後、そのポリビニルアルコール系樹脂フィルムを二色性物質で染色し、その後、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムをホウ酸水溶液中で延伸することにより製造される（例えば、特許文献１）。
近年、偏光子を用いた画像表示装置の高精細化が求められており、画像表示装置の表示ムラのますますの低減が望まれている。しかし、特許文献１に記載の偏光子を備える画像表示装置では、表示ムラの低減に改善の余地が残されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
国際公開第２０１０／１００９１７号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明は上記従来の課題を解決するためになされたものであり、その主たる目的とするところは、画像表示装置における表示ムラを抑制できる偏光子および偏光板を製造する方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明の実施形態による偏光子の製造方法においては、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを二色性物質で染色する染色工程と；前記染色工程後のポリビニルアルコール系樹脂フィルムをホウ酸水溶液に接触させる架橋工程と；前記架橋工程後のポリビニルアルコール系樹脂フィルムを延伸浴中で延伸する延伸工程と；を含む。前記染色工程前のポリビニルアルコール系樹脂フィルムにおけるホウ酸の含有割合と、前記染色工程後かつ前記架橋工程前のポリビニルアルコール系樹脂フィルムにおけるホウ酸の含有割合との差の絶対値が、５．０質量％以下である。
１つの実施形態においては、単体透過率が４２％以上４５％以下の偏光子を製造する。
１つの実施形態においては、上記偏光子の製造方法は、ポリビニルアルコール系樹脂とハロゲン化物とを含む塗布液を長尺状の熱可塑性樹脂基材上に塗布して、前記ポリビニルアルコール系樹脂フィルムとしてのポリビニルアルコール系樹脂層と前記熱可塑性樹脂基材とを備える積層体を作製する積層体作製工程と；前記積層体を空中延伸する補助延伸工程と；前記染色工程と；前記架橋工程と；前記延伸工程と；前記延伸工程後のポリビニルアルコール系樹脂層を、長尺方向に搬送しながら前記長尺方向と直交する幅方向に収縮させる乾燥収縮工程と；をこの順に含む。
１つの実施形態においては、上記熱可塑性樹脂基材は、ポリエチレンテレフタレートフィルムである。
１つの実施形態においては、厚みが１２μｍ以下である偏光子を製造する。
１つの実施形態においては、上記延伸浴が、ホウ酸水溶液である。
本発明の別の局面による偏光板の製造方法は、上記偏光子の製造方法によって製造される偏光子に、保護フィルムを貼り合わせることを含む。
【発明の効果】
【０００６】
本発明の実施形態によれば、画像表示装置における表示ムラを抑制できる偏光子および偏光板を製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００７】
図１は、本発明の１つの実施形態による偏光子の製造方法を説明するための概略図である。
図２（ａ）は、図１に示すポリビニルアルコール系樹脂フィルムの１つの実施形態の概略断面図である。図２（ｂ）は、図１に示すポリビニルアルコール系樹脂フィルムの別の実施形態の概略断面図である。
【発明を実施するための形態】
【０００８】
以下、本発明の代表的な実施形態について説明するが、本発明はこれらの実施形態には限定されない。
【０００９】
Ａ．偏光子の製造方法の概要
本発明の１つの実施形態による偏光子の製造方法は、ポリビニルアルコール系樹脂フィルム（以下、ＰＶＡ系樹脂フィルムとする。）を二色性物質で染色する染色工程と；染色工程後のＰＶＡ系樹脂フィルムをホウ酸水溶液に接触させる架橋工程と；架橋工程後のＰＶＡ系樹脂フィルムを延伸浴中で延伸する延伸工程と；を含む。染色工程前のＰＶＡ系樹脂フィルムにおけるホウ酸の含有割合と、染色工程後かつ架橋工程前のＰＶＡ系樹脂フィルムにおけるホウ酸の含有割合との差の絶対値が、５．０質量％以下であり、好ましくは４．０質量％以下、より好ましくは３．０質量％以下である。
二色性物質で染色された偏光子を用いる画像表示装置では、偏光子における染色の不均一性が、画像表示装置の表示ムラの原因となり得る。そこで、本発明者らは、偏光子における染色の均一性の向上について鋭意検討したところ、染色工程前後におけるＰＶＡ系樹脂フィルムのホウ酸の含有割合差を特定範囲に調整すると、偏光子において生じ得るスジ状の染色ムラを抑制でき、偏光子における染色の均一性を向上できることを見出し、本発明を完成するに至った。より詳しくは、上記した染色工程前後のＰＶＡ系樹脂フィルムにおけるホウ酸の含有割合差の絶対値が上記上限以下であると、偏光子における染色ムラを顕著に抑制できる。
１つの実施形態において、上記した染色工程前後のＰＶＡ系樹脂フィルムにおけるホウ酸の含有割合差の絶対値の下限は、代表的には０質量％以上であり、好ましくは１．０質量％以上、より好ましくは１．５０質量％以上である。上記した染色工程前後のＰＶＡ系樹脂フィルムにおけるホウ酸の含有割合差の絶対値が上記下限以上であると、偏光子における染色ムラをより一層顕著に抑制できる。
【００１０】
１つの実施形態において、ＰＶＡ系樹脂フィルムは、染色工程の前にホウ酸水溶液と接触することなく、染色工程において染色浴（染色液）と接触する。ＰＶＡ系樹脂フィルムをホウ酸水溶液と接触させると、ホウ酸が架橋を形成してＰＶＡ系樹脂フィルムに耐水性が付与される。そのため、偏光子の製造方法では、一般に、染色工程の前にＰＶＡ系樹脂フィルムをホウ酸水溶液と接触させ、染色液に対するＰＶＡ系樹脂フィルムの溶解を抑制する。
しかし、ＰＶＡ系樹脂フィルムを予めホウ酸水溶液に接触させると、染色工程において、ＰＶＡ系樹脂フィルムからホウ酸が脱離して染色液に溶出するので、染色工程で形成される二色性物質とＰＶＡ系樹脂との錯体の分布に影響する可能性がある。そのため、偏光子における染色の均一性に悪影響を与えると推察される。
一方、ＰＶＡ系樹脂フィルムを、染色工程の前にホウ酸水溶液と接触させることなく染色液に接触させると、二色性物質とＰＶＡ系樹脂との錯体を均一に分布させることができ、偏光子における染色ムラを安定して抑制できる。
（【００１１】以降は省略されています）

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