TOP特許意匠商標
特許ウォッチ Twitter
10個以上の画像は省略されています。
公開番号2024043072
公報種別公開特許公報(A)
公開日2024-03-29
出願番号2022148058
出願日2022-09-16
発明の名称検査装置、方法およびプログラム
出願人株式会社東芝,株式会社ニューフレアテクノロジー
代理人弁理士法人鈴榮特許綜合事務所,弁理士法人鈴榮特許綜合事務所,個人,個人,個人,個人
主分類G06T 7/00 20170101AFI20240322BHJP(計算;計数)
要約【課題】誤検出を低減すること。
【解決手段】一実施形態に係る検査装置は、設計画像取得部と、撮影画像取得部と、画像処理部とを備える。設計画像取得部は、設計ソフトウェアによって作成された設計データに基づく設計画像を取得する。撮影画像取得部は、設計データに基づいて作成された検査対象を撮影した撮影画像を取得する。画像処理部は、設計画像から参照画像を作成する際に用いられる画像変換フィルタの中心位置と重心位置とのずれに起因する位置ずれを補正した補正済み参照画像または前記位置ずれを含むように処理した処理済み撮影画像を生成する。
【選択図】図1
特許請求の範囲【請求項1】
設計ソフトウェアによって作成された設計データに基づく設計画像を取得する設計画像取得部と、
前記設計データに基づいて作成された検査対象を撮影した撮影画像を取得する撮影画像取得部と、
前記設計画像から参照画像を作成する際に用いられる画像変換フィルタの中心位置と重心位置とのずれに起因する位置ずれを補正した補正済み参照画像または前記位置ずれを含むように処理した処理済み撮影画像を生成する画像処理部と
を具備する、検査装置。
続きを表示(約 1,200 文字)【請求項2】
前記画像処理部は、
前記設計画像と前記撮影画像とに基づいて前記画像変換フィルタを算出する画像変換フィルタ算出部と、
前記画像変換フィルタの中心位置と重心位置とのずれ量に基づいて補正値を算出し、前記補正値を用いて前記画像変換フィルタを補正することによって補正済み画像変換フィルタを生成する補正部と、
前記設計画像と前記補正済み画像変換フィルタとに基づいて前記補正済み参照画像を生成する参照画像生成部と
を具備する、請求項1に記載の検査装置。
【請求項3】
前記撮影画像と前記補正済み参照画像とに基づいて誤差情報を生成する誤差情報生成部
を更に具備する、請求項2に記載の検査装置。
【請求項4】
前記誤差情報に基づく検査結果を表示させる表示制御部
を更に具備する、請求項3に記載の検査装置。
【請求項5】
前記画像処理部は、
前記設計画像と前記撮影画像とに基づいて前記画像変換フィルタを算出する画像変換フィルタ算出部と、
前記設計画像と前記画像変換フィルタとに基づいて前記参照画像を生成する参照画像生成部と、
前記画像変換フィルタの中心位置と重心位置とのずれ量に基づいて補正値を算出し、前記補正値を用いて前記参照画像を補正することによって前記補正済み参照画像を生成する補正部と
を具備する、請求項1に記載の検査装置。
【請求項6】
前記撮影画像と前記補正済み参照画像とに基づいて誤差情報を生成する誤差情報生成部
を更に具備する、請求項5に記載の検査装置。
【請求項7】
前記誤差情報生成部は、前記参照画像に更に基づいて前記誤差情報を生成し、
前記誤差情報は、前記撮影画像と前記参照画像とに基づく第1の誤差情報および前記撮影画像と前記補正済み参照画像とに基づく第2の誤差情報を含む、
請求項6に記載の検査装置。
【請求項8】
前記誤差情報に基づく検査結果を表示させる表示制御部
を更に具備する、請求項7に記載の検査装置。
【請求項9】
前記画像処理部は、
前記設計画像と前記撮影画像とに基づいて前記画像変換フィルタを算出する画像変換フィルタ算出部と、
前記設計画像と前記画像変換フィルタとに基づいて前記参照画像を生成する参照画像生成部と、
前記画像変換フィルタの中心位置と重心位置とのずれ量に基づいて補正値を算出し、前記補正値を用いて前記撮影画像を処理することによって前記処理済み撮影画像を生成する補正部と
を具備する、請求項1に記載の検査装置。
【請求項10】
前記参照画像と前記処理済み撮影画像とに基づいて誤差情報を生成する誤差情報生成部
を更に具備する、請求項9に記載の検査装置。
(【請求項11】以降は省略されています)

発明の詳細な説明【技術分野】
【0001】
本発明の実施形態は、検査装置、方法およびプログラムに関する。
続きを表示(約 1,900 文字)【背景技術】
【0002】
半導体デバイスなどの大規模集積回路の製造において、回路パターンが形成される原版となるマスク(フォトマスク)に欠陥がないことを検査することは、歩留まりの低下を抑制するために重要である。フォトマスクの検査方法の一つに、Die to Database検査がある。Die to Database検査は、作成したフォトマスクの回路パターンが撮影された撮影画像と、フォトマスクの設計データの回路パターンに基づいて撮影画像を仮想的に生成した参照画像とを比較し、差が大きい部分をフォトマスクに含まれる欠陥として検出する検査である。この検査は、単純に2枚の画像を比較するだけでよく、原理的に簡単なため、様々な検査装置に実装されている。
【0003】
Die to Database検査では、欠陥が混入していないフォトマスクの撮影画像を忠実に再現するように、フォトマスクの設計データから参照画像を生成することが重要である。なぜなら、2枚の画像の差分の原因が、フォトマスク作成時に欠陥が混入したためか、参照画像の再現性が低いためかの区別がつかなく、もし後者であれば欠陥の誤検出の可能性が高くなるためである。
【0004】
参照画像の生成方法としては、例えば、設計データから回路パターンの有無に応じた2値化画像を作成し、撮像系の光学特性によるエッジボケを撮影画像のエッジパターンから類推して求めた点広がり関数(Point Spread Funciton:PSF)を、2値化画像に畳み込んで参照画像を生成することが知られている。つまり、撮影画像に含まれる光学ボケが、線形演算である畳み込み演算で再現されている。しかし、撮影画像によっては、撮影環境やレンズの収差によって、エッジパターンにおいて上りエッジと下りエッジで非対称な歪みを生じることがあり、対称的なPSFでは非対称な歪みを表現することはできない。
【0005】
そこで、2次元のPSFにおいて、上下左右それぞれ別々のPSFを算出し合成した非対称なPSFを利用することによって、撮影画像におけるエッジパターンの非対称な歪みに対応する技術が知られている。
【0006】
しかし、この技術では、生成した非対称なPSFを表す変換フィルタの重心位置が中心位置からずれてしまう場合があり、このような変換フィルタから生成した参照画像は、画像全体で位置ずれが発生する。そのため、参照画像と撮影画像との誤差が大きくなり、検査における誤検出が増加してしまう恐れがある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0007】
特開2016-197318号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0008】
本発明が解決しようとする課題は、誤検出を低減することができる検査装置、方法およびプログラムを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【0009】
一実施形態に係る検査装置は、設計画像取得部と、撮影画像取得部と、画像処理部とを備える。設計画像取得部は、設計ソフトウェアによって作成された設計データに基づく設計画像を取得する。撮影画像取得部は、設計データに基づいて作成された検査対象を撮影した撮影画像を取得する。画像処理部は、設計画像から参照画像を作成する際に用いられる画像変換フィルタの中心位置と重心位置とのずれに起因する位置ずれを補正した補正済み参照画像または前記位置ずれを含むように処理した処理済み撮影画像を生成する。
【図面の簡単な説明】
【0010】
第1の実施形態に係る検査装置の構成を例示するブロック図。
第1の実施形態における各画像のラインプロファイルを比較する説明図。
図1の検査装置の動作を例示するフローチャート。
図3のフローチャートの参照画像生成処理を例示するフローチャート。
第2の実施形態に係る検査装置の構成を例示するブロック図。
図5の検査装置の参照画像生成処理を例示するフローチャート。
第3の実施形態に係る検査装置の構成を例示するブロック図。
第3の実施形態における各画像のラインプロファイルを比較する説明図。
図7の検査装置の動作を例示するフローチャート。
一実施形態に係るコンピュータのハードウェア構成を例示するブロック図。
従来の検査装置における各画像のラインプロファイルを比較する説明図。
【発明を実施するための形態】
(【0011】以降は省略されています)

この特許をJ-PlatPatで参照する

関連特許

株式会社東芝
電源回路
24日前
株式会社東芝
電解装置
1か月前
株式会社東芝
電解装置
1か月前
株式会社東芝
電子機器
1か月前
株式会社東芝
通信装置
1か月前
株式会社東芝
検査装置
18日前
株式会社東芝
発電設備
12日前
株式会社東芝
半導体装置
1か月前
株式会社東芝
半導体装置
27日前
株式会社東芝
半導体装置
1か月前
株式会社東芝
半導体装置
1か月前
株式会社東芝
半導体装置
1か月前
株式会社東芝
半導体装置
1か月前
株式会社東芝
半導体装置
27日前
株式会社東芝
半導体装置
27日前
株式会社東芝
半導体装置
1か月前
株式会社東芝
半導体装置
27日前
株式会社東芝
半導体装置
14日前
株式会社東芝
半導体装置
14日前
株式会社東芝
半導体装置
14日前
株式会社東芝
半導体装置
24日前
株式会社東芝
半導体装置
26日前
株式会社東芝
半導体装置
1か月前
株式会社東芝
半導体装置
26日前
株式会社東芝
半導体装置
26日前
株式会社東芝
半導体装置
1か月前
株式会社東芝
半導体装置
1か月前
株式会社東芝
半導体装置
1か月前
株式会社東芝
半導体装置
26日前
株式会社東芝
レーダ装置
4日前
株式会社東芝
半導体装置
26日前
株式会社東芝
半導体装置
26日前
株式会社東芝
搬送ローラ
14日前
株式会社東芝
半導体装置
1か月前
株式会社東芝
真空バルブ
1か月前
株式会社東芝
半導体装置
26日前
続きを見る