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公開番号2025164126
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-10-30
出願番号2024067923
出願日2024-04-19
発明の名称多層構造型の感光性ドライフィルム、パターン形成方法、表示装置、及びマイクロLEDディスプレイ
出願人信越化学工業株式会社
代理人個人,個人,個人
主分類G02B 5/20 20060101AFI20251023BHJP(光学)
要約【課題】量子ドット含有フォトレジストのプロセスと青色LEDの光を吸収するレジスト材料のプロセスを分けずに一括で行うことができる材料、及びこれを用いたパターン形成方法及び表示装置を提供することを目的とする。
【解決手段】支持フィルムと、前記支持フィルム上に形成された波長450～470nmの少なくとも一部の波長において透過率が2%以下、波長515～535nmの少なくとも一部の波長において透過率が80%以上、波長620～640nmの少なくとも一部の波長において透過率が80%以上である膜厚1～10μmの感光性樹脂皮膜層(A)と、前記感光性樹脂皮膜層(A)上に形成された量子ドットを含有した膜厚1～100μmの感光性樹脂皮膜層(B)とを備えるものであることを特徴とする多層構造型の感光性ドライフィルム。
【選択図】図1
特許請求の範囲【請求項１】
支持フィルムと、
前記支持フィルム上に形成された波長４５０～４７０ｎｍの少なくとも一部の波長において透過率が２％以下、波長５１５～５３５ｎｍの少なくとも一部の波長において透過率が８０％以上、波長６２０～６４０ｎｍの少なくとも一部の波長において透過率が８０％以上である膜厚１～１０μｍの感光性樹脂皮膜層（Ａ）と、
前記感光性樹脂被膜層（Ａ）上に形成された量子ドットを含有した膜厚１～１００μｍの感光性樹脂皮膜層（Ｂ）と
を備えるものであることを特徴とする多層構造型の感光性ドライフィルム。
続きを表示（約 1,300 文字）【請求項２】
前記感光性樹脂皮膜層（Ａ）中に波長４９０～４３０ｎｍのいずれかに吸収極大波長を持つ染料を０．５～１５質量％含むものであることを特徴とする請求項１に記載の多層構造型の感光性ドライフィルム。
【請求項３】
前記感光性樹脂皮膜層（Ｂ）中に前記量子ドットが１５～４５質量％含まれるものであることを特徴とする請求項１に記載の多層構造型の感光性ドライフィルム。
【請求項４】
前記量子ドットは、コアおよび該コアを覆ったシェルを含むコア－シェル構造を有し、前記コアは、Ｉｎ、Ｐ、Ｚｎ、Ｇａ、Ｃｄ、Ｓｅ、Ｓ、Ｔｅ、Ｐｂ、Ａｇ、Ｈｇ、Ｎ、ＡｓおよびＯのうちの２種以上の組み合わせからなる化合物の１種以上を含み、前記シェルは、Ｉｎ、Ｐ、Ｚｎ、Ｇａ、Ｃｄ、Ｓｅ、Ｓ、Ｔｅ、Ｐｂ、Ｈｇ、Ｎ、Ａｓ、Ｏ、ＭｎおよびＳｒのうちの２種以上の組み合わせからなる化合物の１種以上を含むことを特徴とする請求項１に記載の多層構造型の感光性ドライフィルム。
【請求項５】
前記感光性樹脂皮膜層（Ａ）及び前記感光性樹脂皮膜層（Ｂ）の一方又は両方が、樹脂成分として、（メタ）アクリロイル基を側鎖に有するアクリル樹脂を含むことを特徴とする請求項１に記載の多層構造型の感光性ドライフィルム。
【請求項６】
前記感光性樹脂皮膜層（Ａ）及び前記感光性樹脂皮膜層（Ｂ）の一方又は両方が、樹脂成分として、シリコーン骨格及びシルフェニレン骨格を有する樹脂を含むことを特徴とする請求項１に記載の多層構造型の感光性ドライフィルム。
【請求項７】
パターン形成方法であって、
（ｉ）請求項１から請求項６のいずれか一項に記載の多層構造型の感光性ドライフィルムの前記感光性樹脂皮膜層（Ｂ）側を基板上に貼り付けて、前記基板上に感光性樹脂皮膜を形成する工程、
（ｉｉ）前記感光性樹脂皮膜を露光する工程、及び
（ｉｉｉ）前記露光した感光性樹脂皮膜を現像液にて現像し、非露光部を溶解除去してパターンを形成する工程
を含むことを特徴とするパターン形成方法。
【請求項８】
請求項１から請求項６のいずれか一項に記載の多層構造型の感光性ドライフィルムの前記感光性樹脂皮膜層（Ａ）及び前記感光性樹脂皮膜層（Ｂ）の硬化皮膜からなるパターンを備えるものであることを特徴とする表示装置。
【請求項９】
請求項１から請求項６のいずれか一項に記載の多層構造型の感光性ドライフィルムの前記感光性樹脂皮膜層（Ａ）及び前記感光性樹脂皮膜層（Ｂ）の硬化皮膜からなるパターンを青色ＬＥＤ上部に備え、量子ドットにより色変換した光を各サブピクセルから取り出すものであることを特徴とする表示装置。
【請求項１０】
請求項１から請求項６のいずれか一項に記載の多層構造型の感光性ドライフィルムの前記感光性樹脂皮膜層（Ａ）及び前記感光性樹脂皮膜層（Ｂ）の硬化皮膜からなるパターンを青色ＬＥＤ上部に備え、前記硬化皮膜からなるパターンのサイズが０．０１ｍｍ
２
以下であり、量子ドットにより色変換した光を各サブピクセルから取り出すものであることを特徴とするマイクロＬＥＤディスプレイ。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、多層構造型の感光性ドライフィルム、パターン形成方法、表示装置、及びマイクロＬＥＤディスプレイに関する。
続きを表示（約 1,500 文字）【背景技術】
【０００２】
赤色、緑色および青色のサブピクセルを含むディスプレイを形成するために、様々な方法が提案されている。その中の一つの方法として、色変換構造体を通してＬＥＤアレイからの光を青色であるより短い波長から、赤色および緑色であるより長い波長の光に変換する方法がある。この色変換を担うものとしては量子ドットが用いられている。
【０００３】
近年、このＬＥＤアレイはマイクロサイズとなっており、これを用いたマイクロＬＥＤディスプレイが注目されている。色変換構造体をＬＥＤアレイ上に形成する方法としては感光性材料を用いたリソグラフィープロセスがあるが（特許文献１）、パターンを形成するためにリソグラフィープロセス中の露光波長の透過率を確保すると、硬化膜に下から青色ＬＥＤの光を当てた際に量子ドットにより色変換されずに透過してしまう青色光が表に出てきてしまいディスプレイの鮮明さを欠いてしまう問題がある（一般的に量子ドットの吸光度がリソグラフィープロセス中の露光波長＞青色ＬＥＤ光波長のため）。これを解決するためには、赤色に発光する量子ドット含有フォトレジスト硬化膜が青色ＬＥＤ上に積層されたサブピクセル上と緑色に発光する量子ドット含有フォトレジスト硬化膜が青色ＬＥＤ上に積層されたサブピクセル上にだけリソグラフィープロセスを用いて選択的に青色の光の吸収層を形成する必要がある。しかしながら、量産の観点から量子ドット含有フォトレジストのプロセスと青色ＬＥＤの光を吸収するレジスト材料のプロセスを別々に行うことは効率が悪く改善が求められている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
特開２０２１－０８９３４７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明は、前記事情に鑑みなされたもので、量子ドット含有フォトレジストのプロセスと青色ＬＥＤの光を吸収するレジスト材料のプロセスを分けずに一括で行うことができる材料、及びこれを用いたパターン形成方法及び表示装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記課題を解決するために、本発明では、
支持フィルムと、
前記支持フィルム上に形成された波長４５０～４７０ｎｍの少なくとも一部の波長において透過率が２％以下、波長５１５～５３５ｎｍの少なくとも一部の波長において透過率が８０％以上、波長６２０～６４０ｎｍの少なくとも一部の波長において透過率が８０％以上である膜厚１～１０μｍの感光性樹脂皮膜層（Ａ）と、
前記感光性樹脂被膜層（Ａ）上に形成された量子ドットを含有した膜厚１～１００μｍの感光性樹脂皮膜層（Ｂ）と
を備えるものである多層構造型の感光性ドライフィルムを提供する。
【０００７】
このような感光性ドライフィルムは、量子ドット含有フォトレジストのプロセスと青色ＬＥＤの光を吸収するレジスト材料のプロセスを分けずに一括で行うことができる材料となる。
【０００８】
また、前記感光性樹脂皮膜層（Ａ）中に波長４９０～４３０ｎｍのいずれかに吸収極大波長を持つ染料を０．５～１５質量％含むものであることが好ましい。
【０００９】
染料の含有率が上記の範囲内であれば良好な青色ＬＥＤ光の吸収特性を維持したまま、微細なパターン形成を行うことができる。
【００１０】
また、前記感光性樹脂皮膜層（Ｂ）中に前記量子ドットが１５～４５質量％含まれるものであることが好ましい。
（【００１１】以降は省略されています）

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