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公開番号2025163512
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-10-29
出願番号2024066824
出願日2024-04-17
発明の名称情報処理装置、情報処理方法、プログラム、パターン形成装置、および物品製造方法
出願人キヤノン株式会社
代理人弁理士法人大塚国際特許事務所
主分類G03F 9/00 20060101AFI20251022BHJP(写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ)
要約【課題】パターン形成装置の最適条件を効率よく決定するために有利な技術を提供する。
【解決手段】情報処理装置は、パターン形成の性能指標の目標値を取得する取得手段と、複数の回帰モデルのそれぞれに対して、前記取得手段により取得した前記目標値に基づいて、基板上の複数のショット領域のうちから複数のサンプルショット領域を決定し、前記決定された複数のサンプルショット領域に回帰モデルを適用して推定される前記複数のショット領域の配列を補正してパターン形成を行った場合の、前記性能指標の評価値を推定する推定手段と、前記複数の回帰モデルのそれぞれに対する前記推定された評価値を、比較可能な形態で表示部に表示させる制御手段とを有する。
【選択図】図6
特許請求の範囲【請求項１】
パターン形成の性能指標の目標値を取得する取得手段と、
複数の回帰モデルのそれぞれに対して、前記取得手段により取得した前記目標値に基づいて、基板上の複数のショット領域のうちから複数のサンプルショット領域を決定し、前記決定された複数のサンプルショット領域に回帰モデルを適用して推定される前記複数のショット領域の配列を補正してパターン形成を行った場合の、前記性能指標の評価値を推定する推定手段と、
前記複数の回帰モデルのそれぞれに対する前記推定された評価値を、比較可能な形態で表示部に表示させる制御手段と、
を有することを特徴とする情報処理装置。
続きを表示（約 1,300 文字）【請求項２】
前記取得手段は、複数の性能指標のそれぞれの目標値を取得し、
前記推定手段は、前記複数の性能指標のそれぞれの評価値を推定し、
前記制御手段は、前記複数の回帰モデルのそれぞれに対して、前記推定された複数の評価値を前記表示部に表示させる、
ことを特徴とする請求項１に記載の情報処理装置。
【請求項３】
前記複数の性能指標は、スループットと、前記複数のショット領域の前記配列を補正したときの補正残差とを含む、ことを特徴とする請求項２に記載の情報処理装置。
【請求項４】
前記複数の性能指標は、前記スループットと前記補正残差とを用いた総合評価点を更に含む、ことを特徴とする請求項３に記載の情報処理装置。
【請求項５】
前記取得手段は、前記総合評価点を求めるための評価式の指定を更に取得し、
前記制御手段は、前記取得手段で指定された前記評価式を用いて前記総合評価点を求めて前記表示部に表示させる、
ことを特徴とする請求項４に記載の情報処理装置。
【請求項６】
前記制御手段は、前記複数の回帰モデルのそれぞれについて、前記推定された複数の評価値をリストで前記表示部に表示させる、ことを特徴とする請求項３に記載の情報処理装置。
【請求項７】
前記取得手段は、前記複数の性能指標のうちのいずれかに対する優先指定を更に取得し、
前記制御手段は、前記優先指定を受けた性能指標の評価値が昇順または降順になるように前記リストをソートして前記表示部に表示させる、
ことを特徴とする請求項６に記載の情報処理装置。
【請求項８】
前記取得手段は、前記表示部に表示された前記リストのうちから比較対象とする２つの回帰モデルの指定を更に取得し、
前記制御手段は、前記２つの回帰モデルのそれぞれに対して、決定される複数のサンプルショット領域の前記基板における位置の情報と、前記複数のショット領域の前記補正残差の情報とを、前記表示部に更に表示させる、
ことを特徴とする請求項６に記載の情報処理装置。
【請求項９】
前記制御手段は、前記複数のショット領域それぞれにおける、前記２つの回帰モデル間の前記補正残差の差分の情報を、前記表示部に更に表示させる、ことを特徴とする請求項８に記載の情報処理装置。
【請求項１０】
パターン形成の性能指標の目標値を取得する取得工程と、
複数の回帰モデルのそれぞれに対して、前記取得工程で取得した前記目標値に基づいて基板上の複数のショット領域のうちから複数のサンプルショット領域を決定し、前記決定された複数のサンプルショット領域に回帰モデルを適用して推定される前記複数のショット領域の配列を補正してパターン形成を行った場合の、前記性能指標の評価値を推定する推定工程と、
前記複数の回帰モデルのそれぞれに対する前記推定された評価値を、比較可能な形態で表示部に表示させる制御工程と、
を有することを特徴とする情報処理方法。
（【請求項１１】以降は省略されています）
発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、情報処理装置、情報処理方法、プログラム、パターン形成装置、および物品製造方法に関する。
続きを表示（約 1,800 文字）【背景技術】
【０００２】
基板にパターンを形成するパターン形成装置の一つにリソグラフィ装置がある。リソグラフィ装置（例えば露光装置）は、原版のパターンを基板上の複数の層において重ね合わせて転写しうる。各層を高精度に重ね合わせるためには、基板の各ショット領域を原版に対して位置合わせ（アライメント）する必要がある。アライメントは、例えば、基板上の各ショット領域に対して配置されたアライメントマークを検出し、該検出により得られたアライメントマークの位置情報と原版のパターンの位置情報とに基づいて行われうる。
【０００３】
高精度なアライメントを実現するためには、基板上の全ショット領域に対してアライメントマークの検出を行うことが理想的である。しかし、それは生産性の観点からは現実的ではない。そこで一般には、基板上の全ショット領域と原版とのアライメントには、グローバルアライメント方式が採用される（特許文献１及び２参照）。
【０００４】
グローバルアライメント方式では、基板上の全ショット領域の相対位置がショット領域の位置座標の関数で表現できると想定する。その想定のもと、基板上の複数のショット領域のうちの一部のショット領域（サンプルショット領域）に対してのみ、アライメントマークの実測が行われる。次いで、想定した関数モデルおよび位置計測の結果から回帰分析的な統計演算処理を用いて、関数モデルのパラメータが推定される。そして、推定されたパラメータおよび関数モデルを用いて、ステージ座標系における各ショット領域の位置座標が算出され、位置合わせが行われる。グローバルアライメント方式では、一般的には、ステージ座標を変数とする多項式モデルが使用される。主には、ステージ座標の一次の多項式であるスケーリング、回転、一律オフセット等が用いられる（特許文献３参照）。
【０００５】
基板上のショット領域の配列の高次成分もパラメータとして考慮した回帰モデルを用いる方法も提案されている（特許文献４参照）。更に、事前に複数のサンプル点を計測し、そのデータと正則化項を持つ回帰モデルにより係数選別を行い、その選別された係数を用いてショット領域の位置情報を算出する方法も提案されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
特開昭６１－４４４２９号公報
特開昭６２－８４５１６号公報
特開平６－３４９７０５号公報
特許第３２３０２７１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
アライメント補正を高精度にかつ高スループットで行うためには、複数の回帰モデルに対して基板上のサンプルショット配列を変えながらテストを繰り返して、製品に適した回帰モデルおよびサンプルショット配列を決める必要がある。複数の回帰モデルから製品に適した条件（最適条件）を自動的に決定する従来手法は存在するが、従来手法では、ユーザが各条件による改善効果を直感的に確認することができず、条件変更の妥当性を判断することが困難であった。また、従来手法では、複数の回帰モデルおよび複数のサンプルショット配列の組み合わせから最適条件を効率よく選定することが難しかった。
【０００８】
本発明は、パターン形成装置の最適条件を効率よく決定するために有利な技術を提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明の一側面によれば、パターン形成の性能指標の目標値を取得する取得手段と、複数の回帰モデルのそれぞれに対して、前記取得手段により取得した前記目標値に基づいて、基板上の複数のショット領域のうちから複数のサンプルショット領域を決定し、前記決定された複数のサンプルショット領域に回帰モデルを適用して推定される前記複数のショット領域の配列を補正してパターン形成を行った場合の、前記性能指標の評価値を推定する推定手段と、前記複数の回帰モデルのそれぞれに対する前記推定された評価値を、比較可能な形態で表示部に表示させる制御手段と、を有することを特徴とする情報処理装置が提供される。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、パターン形成装置の最適条件を効率よく決定するために有利な技術を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
（【００１１】以降は省略されています）

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