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公開番号2025155440
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-10-14
出願番号2024064999
出願日2024-03-27
発明の名称皮膚洗浄用組成物
出願人株式会社マックス
代理人
主分類A61K 8/73 20060101AFI20251002BHJP(医学または獣医学;衛生学)
要約【課題】製剤安定性や泡質に悪影響を及ぼす粉体成分の沈降や凝集を抑え、粉体成分を均一に分散させ、かつ、その分散状態を持続させることができる皮膚洗浄用組成物の提供。
【解決手段】粉体成分を含む皮膚洗浄用組成物であって、成分A:アニオン界面活性剤(ただし、成分Dを除く)、成分B:両性界面活性剤、成分C:アクリレーツコポリマーおよび成分D:アシル化イセチオン酸塩を含有することを特徴とする皮膚洗浄用組成物。
【選択図】なし
特許請求の範囲【請求項1】
粉体成分を含む皮膚洗浄用組成物であって、
下記成分A、下記成分B、下記成分Cおよび下記成分Dを含有することを特徴とする皮膚洗浄用組成物。
成分A:アニオン界面活性剤(ただし、成分Dを除く)
成分B:両性界面活性剤
成分C:アクリレーツコポリマー
成分D:アシル化イセチオン酸塩
続きを表示(約 120 文字)【請求項2】
前記成分Cが未中和物であることを特徴とする請求項1に記載の皮膚洗浄用組成物。
【請求項3】
組成物自体が直接吐出されるポンプ式容器に充填されて用いられることを特徴とする請求項1又は2に記載の皮膚洗浄用組成物。

発明の詳細な説明【技術分野】
【0001】
本発明は、皮膚洗浄用組成物に関する。
続きを表示(約 1,400 文字)【背景技術】
【0002】
従来、皮膚洗浄剤には、洗浄効果を更に高めるべく、界面活性剤などの主な洗浄成分に加えて適度な摩擦により古い角質や皮脂汚れなどを除去するスクラブ剤や、汗や皮脂などを吸着して取り除く吸着除去剤などの粉体成分が配合されている。しかしながら、これら粉体成分は洗浄効果を高める反面、その物性から沈降や凝集が生じ易く、製剤安定性や泡質に悪影響を及ぼすというデメリットがあり、組成物中に均一に分散して維持させる製剤化技術が求められている。
【0003】
これまでも皮膚洗浄剤の技術分野において粉体成分の分散安定性を高める試みが種々検討されてきた。具体的には、炭の分散安定性を高めた洗浄剤組成物(例えば、特許文献1および2を参照)、シリコンの分散安定性を高めた液体洗浄剤組成物(例えば、特許文献3を参照)、樹脂粉末の分散安定性を高めた液状スクラブ洗浄剤(例えば、特許文献4を参照)などが提案されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0004】
特開2015-172187号公報
特開2002-167325号公報
特開2000-319698号公報
特開平07-304651号公報
【0005】
一方、近年の皮膚洗浄剤の技術分野では、老若男女間わず簡便に使用でき、かつ、組成物を一定量吐出することができるポンプ式容器が汎用されている。通常、このようなポンプ式容器を採用する際には、粉体成分の沈降や凝集の懸念がある組成物は吐出時の「目詰まり」や「一定量吐出できない」などの吐出不良が発生するリスクがあるため忌避される傾向にある。そのため、ポンプ式容器に充填したとしても想定されるリスクに耐え得る、粉体成分を含む皮膚洗浄剤の開発が望まれていた。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0006】
本発明は、上記従来技術に鑑みてなされたものである。すなわち、製剤安定性や泡質に悪影響を及ぼす粉体成分の沈降や凝集を抑え、粉体成分を均一に分散させ、かつ、その分散状態を持続させることができる皮膚洗浄用組成物を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【0007】
本発明は、粉体成分を含む皮膚洗浄用組成物であって、下記成分A、下記成分B、下記成分Cおよび下記成分Dを含有することを特徴とする皮膚洗浄用組成物を提供する。
成分A:アニオン界面活性剤(ただし、成分Dを除く)
成分B:両性界面活性剤
成分C:アクリレーツコポリマー
成分D:アシル化イセチオン酸塩
【0008】
本発明の皮膚洗浄用組成物は、上記成分Cが未中和物であることが好ましい。
【0009】
本発明の皮膚洗浄用組成物は、組成物自体が直接吐出されるポンプ式容器に充填されて用いられることが好ましい。
【発明の効果】
【0010】
本発明の皮膚洗浄用組成物は、上記構成要件を満たすことにより、粉体成分の沈降や凝集が生じることなく均一に分散させることができ、その良好な分散状態を持続させることができるという分散安定性に格段に優れた効果を発揮する。当該効果は高温保管時において顕著に認められることから、製剤の保存時の安定性の持続に繋がっていると言える。
(【0011】以降は省略されています)

この特許をJ-PlatPat(特許庁公式サイト)で参照する

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