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公開番号2025148383
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-10-07
出願番号2025111539,2021527438
出願日2025-07-01,2020-05-08
発明の名称医療機器洗浄用過酢酸組成物及びその製造方法
出願人三菱瓦斯化学株式会社
代理人個人,個人,個人
主分類C11D 7/38 20060101AFI20250930BHJP(動物性または植物性油,脂肪,脂肪性物質またはろう;それに由来する脂肪酸;洗浄剤;ろうそく)
要約【課題】過酸化物の安定性が高く、かつ排水が下水排除基準を満たし、かつタンパク除去
力が向上した、医療機器殺菌及び洗浄用組成物。
【解決手段】過酢酸を0.001～15質量%、酢酸及び/又はその塩を0.01～70
質量%、過酸化水素を0.001～25質量%、及び水を含み、
添加剤を含み、
前記組成物のpH値が、4.0～10.0である、殺菌及び洗浄用組成物。
【選択図】なし
特許請求の範囲【請求項１】
過酢酸を０．００１～１５質量％、酢酸及び／又はその塩を０．０１～７０質量％、過
酸化水素を０．００１～２５質量％、及び水を含み、
添加剤を含み、
前記組成物のｐＨ値が、４．０～１０．０である、殺菌及び洗浄用組成物。
続きを表示（約 930 文字）【請求項２】
前記添加剤が、ポリオキシエチレンラウリルエーテル酢酸及び／又はその塩、リン系安
定剤、カルボン酸系安定剤、及びすず酸塩からなる群より選択される１種以上である、
請求項１に記載の殺菌及び洗浄用組成物。
【請求項３】
前記添加剤がポリオキシエチレンラウリルエーテル酢酸及び／又はその塩である、請求
項１又は２に記載の殺菌及び洗浄用組成物。
【請求項４】
前記添加剤がリン系安定剤である、請求項１～３のいずれか一項に記載の殺菌及び洗浄
用組成物。
【請求項５】
前記添加剤がカルボン酸系安定剤である、請求項１～４のいずれか一項に記載の殺菌及
び洗浄用組成物。
【請求項６】
前記添加剤が、ポリオキシエチレンラウリルエーテル酢酸及び／又はその塩、リン系安
定剤、及びカルボン酸系安定剤である、請求項１又は２に記載の殺菌及び洗浄用組成物。
【請求項７】
前記リン系安定剤が、１－ヒドロキシエチリデン－１，１－ジホスホン酸（ＨＥＤＰ）
又はその塩、ジエチレントリアミンペンタメチレンホスホン酸（ＤＴＰＰ）又はその塩の
いずれかを含む、請求項６に記載の殺菌及び洗浄用組成物。
【請求項８】
前記カルボン酸系安定剤が、エチレンジアミン四酢酸（ＥＤＴＡ）又はその塩、ジエチ
レントリアミン五酢酸（ＤＴＰＡ）又はその塩のいずれかを含む、請求項６に記載の殺菌
及び洗浄用組成物。
【請求項９】
前記リン系安定剤が、１－ヒドロキシエチリデン－１，１－ジホスホン酸（ＨＥＤＰ）
又はその塩であって、
前記カルボン酸系安定剤が、エチレンジアミン四酢酸（ＥＤＴＡ）又はその塩である、
請求項６に記載の殺菌及び洗浄用組成物。
【請求項１０】
前記ポリオキシエチレンラウリルエーテル酢酸及び／又はその塩を０．００１～５質量
％含む、請求項６～９のいずれか一項に記載の殺菌及び洗浄用組成物。
（【請求項１１】以降は省略されています）
発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、医療機器の殺菌・洗浄に適する殺菌及び洗浄用過酢酸組成物並びにその製造
方法に関する。
続きを表示（約 2,500 文字）【背景技術】
【０００２】
従来、医療機器の殺菌・洗浄には、酸性やアルカリ性の薬品が使用されており、過酸水
溶液もその１つである。しかしながら、酸性やアルカリ性の薬品が使用されるために、そ
の廃液が下水排除基準を満たさないまま排水されて、コンクリート製の下水道管が損傷し
ている例が後を絶たない。下水道管の損傷は、下水への排水ができなくなると共に、道路
陥没を引き起こす可能性もあり、早急な対応が必要である。このような背景のもと、東京
都下水道局は、２０１９年１月に、透析排水と下水道管についての注意喚起を発表した。
東京都下水道局では、排水についての下水排除基準を水素イオン濃度（ｐＨ）が５を超え
９未満の範囲内に収めることを求めている。
【０００３】
医療機器の殺菌・洗浄に用いる殺菌及び洗浄用過酢酸組成物としては、酸性の過酢酸水
溶液（特許文献１）、アルミニウム腐食抑制性の酸性酸化剤含有組成物（特許文献２）、
アルカリ性の殺菌洗浄用製剤（特許文献３）などが知られている。しかしながら、これら
の組成物は、必ずしも排水についての下水排除基準を満たすものとは言えない。よって、
依然として、配水管を傷めない洗浄剤が求められている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
特開2010-184868号公報
ＷＯ2010/095231号公報
特表2016-532634号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
過酸化物の安定性が高く、かつ排水が下水排除基準を満たす、医療機器殺菌及び洗浄用
組成物が求められている。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明者らは、鋭意検討を重ねた結果、添加剤を添加することにより、過酸化物の安定
性が高く、排水が下水排除基準を満たし、かつタンパク除去力が向上した、医療機器殺菌
及び洗浄用組成物を提供することができることを見出した。
【０００７】
すなわち、本発明は、下記の実施形態を含む。
【０００８】
＜１＞
過酢酸を０．００１～１５質量％、酢酸及び／又はその塩を０．０１～７０質量％、過
酸化水素を０．００１～２５質量％、及び水を含み、
添加剤を含み、
前記組成物のｐＨ値が、４．０～１０．０である、殺菌及び洗浄用組成物。
＜２＞
前記添加剤が、ポリオキシエチレンラウリルエーテル酢酸及び／又はその塩、リン系安
定剤、カルボン酸系安定剤、及びすず酸塩からなる群より選択される１種以上である、
＜１＞に記載の殺菌及び洗浄用組成物。
＜３＞
前記添加剤がポリオキシエチレンラウリルエーテル酢酸及び／又はその塩である、＜１
＞又は＜２＞に記載の殺菌及び洗浄用組成物。
＜４＞
前記添加剤がリン系安定剤である、＜１＞～＜３＞のいずれかに記載の殺菌及び洗浄用
組成物。
＜５＞
前記添加剤がカルボン酸系安定剤である、＜１＞～＜４＞のいずれかに記載の殺菌及び
洗浄用組成物。
＜６＞
前記添加剤が、ポリオキシエチレンラウリルエーテル酢酸及び／又はその塩、リン系安
定剤、及びカルボン酸系安定剤である、＜１＞又は＜２＞に記載の殺菌及び洗浄用組成物
。
＜７＞
前記リン系安定剤が、１－ヒドロキシエチリデン－１，１－ジホスホン酸（ＨＥＤＰ）
又はその塩、ジエチレントリアミンペンタメチレンホスホン酸（ＤＴＰＰ）又はその塩の
いずれかを含む、＜６＞に記載の殺菌及び洗浄用組成物。
＜８＞
前記カルボン酸系安定剤が、エチレンジアミン四酢酸（ＥＤＴＡ）又はその塩、ジエチ
レントリアミン五酢酸（ＤＴＰＡ）又はその塩のいずれかを含む、＜６＞に記載の殺菌及
び洗浄用組成物。
＜９＞
前記リン系安定剤が、１－ヒドロキシエチリデン－１，１－ジホスホン酸（ＨＥＤＰ）
又はその塩であって、
前記カルボン酸系安定剤が、エチレンジアミン四酢酸（ＥＤＴＡ）又はその塩である、
＜６＞に記載の殺菌及び洗浄用組成物。
＜１０＞
前記ポリオキシエチレンラウリルエーテル酢酸及び／又はその塩を０．００１～５質量
％含む、＜６＞～＜９＞のいずれかに記載の殺菌及び洗浄用組成物。
＜１１＞
前記リン系安定剤を０．０００１質量％以上０．５質量％未満、及び前記カルボン酸系
安定剤を０．０００１質量％以上０．５質量％未満含む、＜６＞～＜９＞のいずれかに記
載の殺菌及び洗浄用組成物。
＜１２＞
前記組成物のｐＨ値が、５．０～９．０である＜１＞～＜１１＞のいずれかに記載の組
成物。
＜１３＞
少なくとも下記成分を混合する混合工程を含む、＜１＞～＜１２＞のいずれかに記載の
組成物の製造方法。
（ｉ）添加剤
（ｉｉ）過酸化水素水及び酢酸
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、添加剤を添加することにより、過酸化物の安定性が高く、排水が下水
排除基準を満たし、かつタンパク除去力が向上した、医療機器殺菌及び洗浄用組成物を提
供することができる。本発明の組成物は、ｐＨ値が下水排除基準を満たすため、使用後の
廃液を中和処理する必要なく排水することができる。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
１．殺菌及び洗浄用組成物
本発明の一実施形態において、殺菌及び洗浄用組成物は、過酢酸、過酸化水素、酢酸及
び／又はその塩、及び水、ならびに添加剤を含む。
（【００１１】以降は省略されています）

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