特許ウォッチ

公開番号2025103037
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-07-08
出願番号2025066060,2021031981
出願日2025-04-14,2021-03-01
発明の名称ホウ化物分散型Ni基合金
出願人山陽特殊製鋼株式会社
代理人弁理士法人有古特許事務所
主分類C22C 19/05 20060101AFI20250701BHJP(冶金;鉄または非鉄合金;合金の処理または非鉄金属の処理)
要約【課題】耐摩耗性、耐食性及び靱性のバランスに優れたホウ化物分散型Ni基合金の提供。
【解決手段】ホウ化物分散型Ni基合金は、
Cr:18質量%以上26質量%以下、
Mo:22質量%以上30質量%以下
及び
B:1.05質量%以上1.75質量%以下
を含有する。残部は、Ni及び不可避的不純物である。この合金のロックウェル硬さHrは、下記数式(1)を満たす。
34.0 ≦ Hr ≦ Hn - 2.0 (1)
この数式(1)において、Hnは標準硬さを表し、下記の式によって算出される。
Hn = 23.44 + 0.48 * Mo% + 5.08 * B%
この式において、Mo%はMoの質量含有率を表し、B%はBの質量含有率を表す。
【選択図】図1
特許請求の範囲【請求項１】
Ｃｒ：１８質量％以上２６質量％以下、
Ｍｏ：２２質量％以上３０質量％以下
及び
Ｂ：１．０５質量％以上１．７５質量％以下
を含有し、
残部がＮｉ及び不可避的不純物であり、
そのロックウェル硬さＨｒ（常温で円すい形ダイヤモンドにて測定された硬さ記号ＨＲＣの値）が下記数式（１）を満たす、ホウ化物分散型Ｎｉ基合金。
３４．０ ≦ Ｈｒ ≦ Ｈｎ－２．０（１）
（この数式（１）において、Ｈｎは標準硬さを表し、下記の数式によって算出される。
Ｈｎ＝２３．４４＋０．４８＊Ｍｏ％＋５．０８＊Ｂ％
この数式において、Ｍｏ％はＭｏの質量含有率を表し、Ｂ％はＢの質量含有率を表す。）
続きを表示（約 94 文字）【請求項２】
上記ロックウェル硬さＨｒが下記数式（２）を満たす、請求項１に記載のホウ化物分散型Ｎｉ基合金。
３４．０ ≦ Ｈｒ ≦ Ｈｎ－３．２（２）

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、ホウ化物分散型Ｎｉ基合金に関する。詳細には、本発明は、Ｃｒ、Ｍｏ及びＢを含有するホウ化物分散型のＮｉ基合金に関する。
続きを表示（約 1,100 文字）【背景技術】
【０００２】
樹脂成形品は、射出成形法、押出形成法等によって得られうる。これらの方法に用いられる成形機の部品には、樹脂に対する耐摩耗性が要求される。これらの部品には、樹脂の溶融によって生じる腐食性ガスに対する耐食性も、要求される。
【０００３】
耐摩耗性及び耐食性が要求される用途に、Ｎｉ基合金が用いられている。より厳しい環境での使用が意図された、このＮｉ基合金に関する種々の改良が、提案されている。
【０００４】
特開２００４－１３７５７０公報には、Ｎｉを主成分とするマトリックスにホウ化物が分散したＮｉ－Ｃｒ－Ｍｏ系合金が開示されている。このホウ化物は、硬質である。このホウ化物は、合金の耐摩耗性に寄与しうる。
【０００５】
特開２０１２－２４６５１７公報には、マトリックス中に適切な量のＣｒ及びＭｏが含まれたホウ化物分散型Ｎｉ基合金が開示されている。この合金は、耐食性に優れている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
特開２００４－１３７５７０公報
特開２０１２－２４６５１７公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
成形機のスクリューは、複雑な形状を有している。従来のホウ化物分散型Ｎｉ基合金の靱性は、不十分である。この合金は、複雑な形状を有する製品（例えばスクリュー）への加工に適していない。
【０００８】
本発明の目的は、耐摩耗性、耐食性及び靱性のバランスに優れたホウ化物分散型Ｎｉ基合金の提供にある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明に係るホウ化物分散型Ｎｉ基合金は、
Ｃｒ：１８質量％以上２６質量％以下、
Ｍｏ：２２質量％以上３０質量％以下
及び
Ｂ：１．０５質量％以上１．７５質量％以下
を含有する。残部は、Ｎｉ及び不可避的不純物である。この合金のロックウェル硬さＨｒは、下記数式（１）を満たす。
３４．０ ≦ Ｈｒ ≦ Ｈｎ－２．０（１）
この数式（１）において、Ｈｎは標準硬さを表し、下記の数式によって算出される。
Ｈｎ＝２３．４４＋０．４８＊Ｍｏ％＋５．０８＊Ｂ％
この数式において、Ｍｏ％はＭｏの質量含有率を表し、Ｂ％はＢの質量含有率を表す。
【００１０】
好ましくは、このホウ化物分散型Ｎｉ基合金では、ロックウェル硬さＨｒが下記数式（２）を満たす。
３４．０ ≦ Ｈｒ ≦ Ｈｎ－３．２（２）
【発明の効果】
（【００１１】以降は省略されています）

関連特許