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公開番号2025100143
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-07-03
出願番号2023217295
出願日2023-12-22
発明の名称露光方法、露光装置、および物品製造方法
出願人キヤノン株式会社
代理人弁理士法人大塚国際特許事務所
主分類G03F 7/20 20060101AFI20250626BHJP(写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ)
要約【課題】多重焦点露光を精度よく制御するために有利な技術を提供する。
【解決手段】投影光学系を有する露光装置において、基板と前記投影光学系の焦点との間の距離を複数の距離のそれぞれに変更して前記基板上のフォトレジスト層を露光する多重焦点露光を行う露光方法は、現像後の前記フォトレジスト層に形成される開口の断面形状を評価するための評価指標が許容範囲に収まるように、前記複数の距離のそれぞれにおいて前記フォトレジスト層に照射する光の光量を前記複数の距離のそれぞれに応じて異ならせる。
【選択図】図2
特許請求の範囲【請求項１】
投影光学系を有する露光装置において、基板と前記投影光学系の焦点との間の距離を複数の距離のそれぞれに変更して前記基板上のフォトレジスト層を露光する多重焦点露光を行う露光方法であって、
現像後の前記フォトレジスト層に形成される開口の断面形状を評価するための評価指標が許容範囲に収まるように、前記複数の距離のそれぞれにおいて前記フォトレジスト層に照射する光の光量を前記複数の距離のそれぞれに応じて異ならせる、ことを特徴とする露光方法。
続きを表示（約 1,000 文字）【請求項２】
前記投影光学系の焦点が前記フォトレジスト層の表面にあるときの前記距離を第１距離とし、前記投影光学系の焦点が前記フォトレジスト層と前記基板との界面にあるときの前記距離を第２距離とした場合、前記距離と前記光量との関係が前記第１距離と前記第２距離との平均距離に対して非対称になるように、前記複数の距離のそれぞれに応じて前記光量を異ならせる、ことを特徴とする請求項１に記載の露光方法。
【請求項３】
前記距離に対して前記光量を一定とした場合に得られる前記断面形状を示す情報に基づいて、前記評価指標を前記許容範囲に収めることができる前記距離と前記光量との関係を決定し、前記関係に基づいて前記光量を異ならせる、ことを特徴とする請求項１に記載の露光方法。
【請求項４】
前記多重焦点露光において前記距離が狭くなるほど前記光量を増加または減少させる、ことを特徴とする請求項１に記載の露光方法。
【請求項５】
前記多重焦点露光において前記光量を部分的に変更する、ことを特徴とする請求項１に記載の露光方法。
【請求項６】
前記評価指標は、前記断面形状のテーパ角、前記開口の側面の角度、前記フォトレジスト層の表面における前記開口の幅、前記基板と前記フォトレジスト層との界面における前記開口の幅、および、前記表面と前記界面とでの前記開口の幅の比率のうち少なくとも１つを含む、ことを特徴とする請求項１に記載の露光方法。
【請求項７】
前記基板と前記投影光学系との相対的な駆動、前記基板に転写されるパターンを有する原版と前記投影光学系との相対的な駆動、および、前記投影光学系の光学素子の駆動のうち少なくとも１つによって前記距離が制御される、ことを特徴とする請求項１に記載の露光方法。
【請求項８】
前記投影光学系から射出される光の波長を変更することによって前記距離が制御される、ことを特徴とする請求項１に記載の露光方法。
【請求項９】
前記フォトレジスト層に照射する光の強度、前記フォトレジスト層に光を照射する時間、および、前記距離を変更する速度のうち少なくとも１つによって前記光量が制御される、ことを特徴とする請求項１に記載の露光方法。
【請求項１０】
前記多重焦点露光は、前記距離が互いに異なる複数の状態の各々において前記フォトレジスト層を露光する、ことを特徴とする請求項１に記載の露光方法。
（【請求項１１】以降は省略されています）
発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、露光方法、露光装置、および物品製造方法に関する。
続きを表示（約 1,300 文字）【背景技術】
【０００２】
半導体デバイス等の製造工程（リソグラフィ工程）では、投影光学系を介して基板上のフォトレジスト層を露光することにより原版のパターンを当該フォトレジスト層に転写する露光装置が用いられうる。露光装置では、基板上のフォトレジスト層を露光する方法の１つとして、基板と投影光学系の焦点との距離を変更して基板上のフォトレジスト層を露光する多重焦点露光が知られている（例えば特許文献１）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
特開昭６４－２２４４２５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
近年、露光装置では、厚膜のフォトレジスト層が設けられた基板が用いられることがあり、このような基板に対しては、焦点深度を向上させる観点から多重焦点露光が行われうる。この場合において、現像後に基板上のフォトレジスト層に形成される開口（パターン）が所望の断面形状になるように多重焦点露光を精度よく制御することが望まれる。
【０００５】
そこで、多重焦点露光を精度よく制御するために有利な技術を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記目的を達成するために、本発明の一側面としての露光方法は、投影光学系を有する露光装置において、基板と前記投影光学系の焦点との間の距離を複数の距離のそれぞれに変更して前記基板上のフォトレジスト層を露光する多重焦点露光を行う露光方法であって、現像後の前記フォトレジスト層に形成される開口の断面形状を評価するための評価指標が許容範囲に収まるように、前記複数の距離のそれぞれにおいて前記フォトレジスト層に照射する光の光量を前記複数の距離のそれぞれに応じて異ならせる、ことを特徴とする。
【０００７】
本発明の更なる目的又はその他の側面は、以下、添付図面を参照して説明される好ましい実施形態によって明らかにされるであろう。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、例えば、多重焦点露光を精度よく制御するために有利な技術を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
露光装置の構成例を示す概略図
実施例１の多重焦点露光を説明するための図
実施例２の多重焦点露光を説明するための図
実施例３の多重焦点露光を説明するための図
多重焦点露光の制御例１を示すフローチャート
多重焦点露光の制御例２を示すフローチャート
【発明を実施するための形態】
【００１０】
以下、添付図面を参照して実施形態を詳しく説明する。なお、以下の実施形態は特許請求の範囲に係る発明を限定するものではない。実施形態には複数の特徴が記載されているが、これらの複数の特徴の全てが発明に必須のものとは限らず、また、複数の特徴は任意に組み合わせられてもよい。さらに、添付図面においては、同一若しくは同様の構成に同一の参照番号を付し、重複した説明は省略する。
（【００１１】以降は省略されています）

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