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公開番号2025095926
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-06-26
出願番号2023212323
出願日2023-12-15
発明の名称露光装置、決定方法、物品の製造方法及びプログラム
出願人キヤノン株式会社
代理人弁理士法人大塚国際特許事務所
主分類G03F 7/20 20060101AFI20250619BHJP(写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ)
要約【課題】投影光学系の光学性能の低下を抑制するのに有利な技術を提供する。
【解決手段】原版を介して基板を露光する露光装置であって、前記原版のパターンを前記基板に投影する投影光学系と、前記投影光学系の開口数を変更可能なNA絞りと、前記投影光学系の内部の空間に対して気体の供給及び排出を行うことによって、前記空間の温度及び前記内部に配置された光学部材の温度を調整する温調部と、前記NA絞りによる前記開口数の変更に応じて、前記温調部による前記気体の供給及び排出に関する条件を変更する制御部と、を有する、ことを特徴とする露光装置を提供する。
【選択図】図1
特許請求の範囲【請求項１】
原版を介して基板を露光する露光装置であって、
前記原版のパターンを前記基板に投影する投影光学系と、
前記投影光学系の開口数を変更可能なＮＡ絞りと、
前記投影光学系の内部の空間に対して気体の供給及び排出を行うことによって、前記空間の温度及び前記内部に配置された光学部材の温度を調整する温調部と、
前記ＮＡ絞りによる前記開口数の変更に応じて、前記温調部による前記気体の供給及び排出に関する条件を変更する制御部と、
を有する、ことを特徴とする露光装置。
続きを表示（約 1,500 文字）【請求項２】
前記ＮＡ絞りは、前記投影光学系の瞳位置に配置され、
前記光学部材は、前記ＮＡ絞りを挟んで配置されたミラー及びレンズを含み、
前記温調部は、前記ミラーと前記レンズとの間の空間に対して前記気体の供給及び排出を行う、
ことを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項３】
前記温調部は、前記気体を供給するための複数の供給口と、前記気体を排出するための複数の排出口と、を含む、ことを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項４】
前記条件は、前記複数の供給口のそれぞれからの前記気体の供給の有無、前記複数の排出口のそれぞれからの前記気体の排出の有無、前記複数の供給口のそれぞれから供給する前記気体の供給量、前記複数の排出口のそれぞれから排出する前記気体の排出量、前記複数の供給口のそれぞれの位置、前記複数の排出口のそれぞれの位置、前記複数の供給口のそれぞれの角度、前記複数の排出口のそれぞれの角度、及び、前記気体の供給温度のうちの少なくとも１つを含む、ことを特徴とする請求項３に記載の露光装置。
【請求項５】
前記制御部は、前記ＮＡ絞りによる前記開口数の変更に起因する前記投影光学系の光学性能の変化に基づいて、前記条件を変更する、ことを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項６】
前記光学性能は、フォーカスを含み、
前記制御部は、前記ＮＡ絞りによって前記開口数を変更する前の平衡状態における前記フォーカスと、前記ＮＡ絞りによって前記開口数を変更した後の平衡状態における前記フォーカスとのフォーカス差が最小となるように、前記条件を変更する、ことを特徴とする請求項５に記載の露光装置。
【請求項７】
前記光学性能は、フォーカスを含み、
前記制御部は、前記ＮＡ絞りによって前記開口数を変更する前の平衡状態、及び、前記ＮＡ絞りによって前記開口数を変更した後の平衡状態のそれぞれにおいて、長手方向が互いに異なる複数のパターンのそれぞれに対する前記フォーカスの間のフォーカス差が最小となるように、前記条件を変更する、ことを特徴とする請求項５に記載の露光装置。
【請求項８】
前記条件は、前記気体を供給する供給量を含み、
前記制御部は、前記ＮＡ絞りによって前記開口数を第１開口数から前記第１開口数よりも大きい第２開口数に変更する場合に、前記供給量が増加するように、前記条件を変更する、
ことを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項９】
原版のパターンを基板に投影する投影光学系の内部の空間に対して気体の供給及び排出を行うことによって、前記空間の温度及び前記内部に配置された光学部材の温度を調整する温調部における前記気体の供給及び排出に関する条件を決定する決定方法であって、
前記投影光学系の開口数を変更可能なＮＡ絞りによって前記投影光学系に互いに異なる複数の開口数のそれぞれを設定した状態において、前記条件を変更しながら前記投影光学系の光学性能を計測する第１工程と、
前記複数の開口数のそれぞれを設定した状態において計測された前記光学性能の間の光学性能差に基づいて、前記条件を決定する第２工程と、
を有する、ことを特徴とする決定方法。
【請求項１０】
前記第２工程では、前記光学性能差が最小となるように、前記条件を決定する、ことを特徴とする請求項９に記載の決定方法。
（【請求項１１】以降は省略されています）
発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、露光装置、決定方法、物品の製造方法及びプログラムに関する。
続きを表示（約 1,400 文字）【背景技術】
【０００２】
テレビ、スマートフォン、タブレット端末などの表示装置を製造するためのリソグラフィ工程では、原版（マスク又はレチクル）のパターンを、フォトレジスト（感光剤）が配置された基板に転写する露光装置が用いられている。
【０００３】
近年では、露光装置の生産性を向上させるために、露光光の照度を高くする傾向にあるため、露光光が光学系に照射されることによる光学性能の変化を低減させるための技術が提案されている（特許文献１参照）。特許文献１には、投影光学系の瞳位置近傍に配置された光学素子に対して冷却用気体を供給する供給部と、光学素子の温度分布に応じて冷却用気体を供給する方向が変更されるように供給部を制御する制御部と、を有する露光装置が開示されている。
【０００４】
一方、各種の表示装置などを同一の装置で製造するために、露光装置においては、１μｍ程度の非常に微細なパターンから数十μｍ程度の比較的大きなパターンまでの様々な寸法を有するパターンを基板に転写することが求められている。そこで、露光装置では、投影光学系の開口数（ＮｕｍｅｒｉｃａｌＡｐｅｒｔｕｒｅ：ＮＡ）を変更することによって、様々な寸法を有するパターンに対応するようにしている。
【０００５】
露光装置において、解像力及び焦点深度は、ｋ１及びｋ２を定数とし、Ｒａｙｌｅｉｇｈの式を用いて、以下の式１及び式２で表される。
解像力＝ｋ１×λ／ＮＡ・・・（式１）
焦点深度＝ｋ２×λ／ＮＡ
２
・・・（式２）
従って、大きな寸法を有するパターンに対しては、ＮＡを小さくして焦点深度を大きくすることが有効であり、小さな寸法を有するパターンに対しては、ＮＡを大きくすることが有効であることがわかる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
特開２０１６－９５４１２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、光学系のＮＡを変更するために、光学系の瞳位置近傍に配置された絞りの開口径を変更すると、開口径の大きさによって、光学素子に対する冷却用気体の流れが変化し、冷却効果の変動に起因する光学性能の低下を招いてしまう虞がある。
【０００８】
本発明は、このような従来技術の課題に鑑みてなされ、投影光学系の光学性能の低下を抑制するのに有利な技術を提供することを例示的目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記目的を達成するために、本発明の一側面としての露光装置は、原版を介して基板を露光する露光装置であって、前記原版のパターンを前記基板に投影する投影光学系と、前記投影光学系の開口数を変更可能なＮＡ絞りと、前記投影光学系の内部の空間に対して気体の供給及び排出を行うことによって、前記空間の温度及び前記内部に配置された光学部材の温度を調整する温調部と、前記ＮＡ絞りによる前記開口数の変更に応じて、前記温調部による前記気体の供給及び排出に関する条件を変更する制御部と、を有する、ことを特徴とする。
【００１０】
本発明の更なる目的又はその他の側面は、以下、添付図面を参照して説明される実施形態によって明らかにされるであろう。
【発明の効果】
（【００１１】以降は省略されています）

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