TOP
|
特許
|
意匠
|
商標
特許ウォッチ
Twitter
他の特許を見る
10個以上の画像は省略されています。
公開番号
2025076845
公報種別
公開特許公報(A)
公開日
2025-05-16
出願番号
2023188756
出願日
2023-11-02
発明の名称
半導体レーザ装置
出願人
ウシオ電機株式会社
代理人
個人
,
個人
主分類
H01S
5/0239 20210101AFI20250509BHJP(基本的電気素子)
要約
【課題】PDの感度の波長依存性に起因する長期的な出力の不安定性を改善した内部PDモニター方式の半導体レーザ装置を提供する。
【解決手段】LDチップ110は端面発光型であり、前方端面S1から前方光出力L1を放射する。ガラス窓150は、LDチップ110の前方端面S1側に設けられ、前方光出力L1の一部を反射する。受光素子170は、LDチップ110の後方端面S2側に、ガラス窓150により反射された前方光出力L3である反射前方光出力L4を受光できるように設けられる。半導体レーザチップの実使用の発振波長帯において、受光素子の感度Sとガラス窓の反射率Rwinは逆の波長依存性を有する。
【選択図】図2
特許請求の範囲
【請求項1】
前方端面から前方光出力を放射する端面発光型の半導体レーザチップと、
前記半導体レーザチップの前記前方端面側に設けられ、前記前方光出力の一部を反射するガラス窓と、
前記半導体レーザチップの後方端面側に、前記ガラス窓により反射された前記前方光出力である反射前方光出力を受光できるように設けられた受光素子と、
を備え、
前記半導体レーザチップの実使用の発振波長帯において、前記受光素子の感度と前記ガラス窓の反射率は逆の波長依存性を有することを特徴とする半導体レーザ装置。
続きを表示(約 510 文字)
【請求項2】
前記半導体レーザチップの実使用の発振波長帯において、前記受光素子の感度をS(λ)、前記ガラス窓の反射率をRwin(λ)とするとき、反射/透過強度比β(λ)=Rwin(λ)/(1-Rwin(λ))は、感度S(λ)と逆の波長依存性を有することを特徴とする請求項1に記載の半導体レーザ装置。
【請求項3】
前記実使用の発振波長帯内のある波長をλ
0
、正規化された感度をS
norm
(λ)=S(λ)/S(λ
0
)とした場合に、正規化された感度S
norm
(λ)が傾きαを有するとき、
正規化された反射/透過強度比β
norm
(λ)=β(λ)/β(λ
0
)は、前記実使用の発振波長帯域において、2本の直線{1-α(λ-λ
0
)}×0.95と{1-α(λ-λ
0
)}×1.05の間に挟まれることを特徴とする請求項2に記載の半導体レーザ装置。
【請求項4】
Rwin≧3%であることを特徴とする請求項1または2に記載の半導体レーザ装置。
発明の詳細な説明
【技術分野】
【0001】
本開示は、半導体レーザ装置に関する。
続きを表示(約 1,400 文字)
【背景技術】
【0002】
半導体レーザ装置として、端面発光型の半導体レーザ(LD:Laser Diode)チップを、フォトダイオード(PD:Photo Diode)とともにCANパッケージなどのパッケージに収容したものがある。パッケージに内蔵される内部PDは、LDチップの後方端面側に配置され、LDチップの後方端面から漏れる後方光出力を受光する。後方光出力のパワーは、LDチップの前方端面から放射される光(前方光出力)のパワーと相関があるため、内部PDの出力は、LDチップの前方光出力のパワーを間接的に示している。
【0003】
内部PDの出力は、パッケージの外部に取り出されている。パッケージの外部の駆動回路は、内部PDの出力が一定となるように、LDチップに供給する駆動電流をフィードバック制御する(APC:Automatic Power Control)。これにより、LDチップの前方光出力を安定化することができる。
【0004】
内部PDモニター方式は、後方光出力Prを利用して、前方光出力Pfを間接的にモニターする。この方式では、PrとPfの比Pr/Pfが、温度や波長によらずに一定であることが求められる。LDチップの前方端面の反射率をRf、後方端面の反射率をRrとする。前方端面から放射される光のパワーPfおよび後方端面から放射される光のパワーPrはそれぞれ、以下の関係を満たす。
Pf∝1/√Rf×(1-Rf)
Pr∝1/√Rr×(1-Rr)
【0005】
したがってPrとPfの比Pr/Pfは、式(1)で表される。
Pr/Pf=√Rf/√Rr×(1-Rr)/(1-Rf) …(1)
【0006】
内部PDは、安価なSiが用いられる場合が多く、その感度は波長依存性を有し、特にGaN/InGaN系のLDチップの発振波長帯では短波長側の感度が低い。一方で、GaN/InGaN系のLDは、外部環境温度が高くなるにつれて発振波長が長波側に変化する。そのため、内部PDの出力を一定に保つようにLDチップの駆動電流を制御する場合、温度の上昇/低下に伴うレーザの出力の低下/増大の変動幅が大きいという問題がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0007】
特許第5319397号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0008】
特許文献1には、式(1)で表されるPr/Pfが、PDの感度の波長依存性と逆向きの波長依存性を持つように、LDチップの端面反射率Rr,Rfの設計を行う技術が開示される。
【0009】
この技術では、LDチップの端面反射率RrおよびRfの少なくともいずれかの値が異なる製品毎に、異なる調整が必要となり、設計通りにモニターPDの感度と出力の相対値が許容範囲内に収まるかどうかの検証が必要となる。したがって、反射膜構造の異なる製品への水平展開や反射膜の新規構造を適用する開発において負担が大きいという問題がある。
【0010】
本開示は係る課題に鑑みてなされたものであり、そのある態様の例示的な目的のひとつは、従来と異なる構造により、PDの波長依存性に起因する出力の不安定性を改善した内部PDモニター方式の半導体レーザ装置の提供にある。
【課題を解決するための手段】
(【0011】以降は省略されています)
この特許をJ-PlatPatで参照する
関連特許
ウシオ電機株式会社
放電ランプ
今日
ウシオ電機株式会社
放電ランプ
1日前
ウシオ電機株式会社
放電ランプ
19日前
ウシオ電機株式会社
半導体レーザ装置
5日前
ウシオ電機株式会社
半導体レーザ装置
5日前
ウシオ電機株式会社
プラズマ処理装置
23日前
ウシオ電機株式会社
プラズマ生成機構及び光源装置
7日前
ウシオ電機株式会社
紫外線処理装置及び紫外線処理方法
7日前
ウシオ電機株式会社
反射型位相差構造体およびその製造方法
2日前
ウシオ電機株式会社
紫外線照射装置及び紫外線照射装置の制御方法
5日前
ウシオ電機株式会社
ビルドアップ基板の加工方法、ビルドアップ基板の加工装置
20日前
ウシオ電機株式会社
樹脂ガラス、樹脂ガラスの製造方法、及び樹脂ガラスの製造装置
2日前
APB株式会社
二次電池
6日前
甲神電機株式会社
変流器
12日前
ローム株式会社
半導体装置
8日前
ローム株式会社
チップ部品
2日前
オムロン株式会社
電磁継電器
20日前
太陽誘電株式会社
全固体電池
7日前
オムロン株式会社
電磁継電器
20日前
株式会社GSユアサ
蓄電装置
19日前
トヨタ自動車株式会社
二次電池
7日前
日本特殊陶業株式会社
保持装置
19日前
トヨタ自動車株式会社
集合導線
8日前
TDK株式会社
コイル部品
27日前
株式会社バンダイ
電池収容構造及び玩具
19日前
トヨタバッテリー株式会社
組電池
28日前
住友電装株式会社
コネクタ
27日前
株式会社プロテリアル
シート状磁性部材
13日前
APB株式会社
二次電池セルの製造方法
6日前
三菱電機株式会社
半導体装置
28日前
新電元工業株式会社
磁性部品
2日前
三菱電機株式会社
半導体装置
7日前
日本圧着端子製造株式会社
コネクタ
今日
トヨタ自動車株式会社
充電システム
8日前
ニチコン株式会社
コンデンサ
1日前
株式会社AESCジャパン
二次電池
19日前
続きを見る
他の特許を見る