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公開番号2025074665
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-05-14
出願番号2023185639
出願日2023-10-30
発明の名称気中環境分析システム
出願人キオクシア株式会社
代理人個人,個人,個人
主分類G01N 1/00 20060101AFI20250507BHJP(測定;試験)
要約【課題】効率良く環境分析を行う事が出来る、気中環境分析システムを提供する。
【解決手段】分析装置と、第1測定場所に設けられた第1端部と、第2端部と、第1端部と第2端部の間に設けられた第1箇所と、を有する第1配管と、第1配管の第2端部と分析装置の間に設けられた第1バルブと、パージガスを供給するガス供給源と、第1配管の第1箇所に接続された第3端部と、ガス供給源に接続された第4端部と、を有する第2配管と、第2配管に設けられた第2バルブと、第2測定場所に設けられた第5端部と、第6端部と、第5端部と第6端部の間に設けられた第2箇所と、を有する第3配管と、第3配管の第6端部と分析装置の間に設けられた第3バルブと、第3配管の第2箇所に接続された第7端部と、ガス供給源に接続された第8端部と、を有する第4配管と、第4配管に設けられた第4バルブと、を備える気中環境分析システムである。
【選択図】図1
特許請求の範囲【請求項１】
分析装置と、
第１測定場所に設けられた第１端部と、
第２端部と、
前記第１端部と前記第２端部の間に設けられた第１箇所と、
を有する第１配管と、
前記第１配管の前記第２端部と前記分析装置の間に設けられた第１バルブと、
パージガスを供給するガス供給源と、
前記第１配管の前記第１箇所に接続された第３端部と、
前記ガス供給源に接続された第４端部と、
を有する第２配管と、
前記第２配管に設けられた第２バルブと、
第２測定場所に設けられた第５端部と、
第６端部と、
前記第５端部と前記第６端部の間に設けられた第２箇所と、
を有する第３配管と、
前記第３配管の前記第６端部と前記分析装置の間に設けられた第３バルブと、
前記第３配管の前記第２箇所に接続された第７端部と、
前記ガス供給源に接続された第８端部と、
を有する第４配管と、
前記第４配管に設けられた第４バルブと、
を備える気中環境分析システム。
続きを表示（約 2,400 文字）【請求項２】
前記第３配管の長さは前記第１配管の長さと異なる、
請求項１記載の気中環境分析システム。
【請求項３】
前記パージガスは、高純度窒素ガス又はＣＤＡガスである、
請求項１記載の気中環境分析システム。
【請求項４】
気中環境分析方法を実行可能な制御装置をさらに有し、
前記気中環境分析方法は、
前記第１測定場所から前記第１端部を介して前記分析装置に第１分析対象物を供給し、
前記分析装置を用いて前記第１分析対象物の第１分析を行い、
前記第１分析を開始してから第１所定時間が経過した後、
前記第１分析により検出された前記第１分析対象物の濃度が、第１閾値濃度以上である場合に、
前記第１バルブを閉じ、
前記第２バルブを開け、
前記ガス供給源から前記第１端部を介して前記第１測定場所に前記パージガスの供給を行い、
前記第２測定場所から前記第５端部を介して前記分析装置に第２分析対象物を供給し、
前記分析装置を用いて前記第２分析対象物の第２分析を行い、
前記第１分析により検出された前記第１分析対象物の濃度が、前記第１閾値濃度以上ではない場合に、
前記パージガスの供給を行うことなく前記第２分析を行う
ことを含む、
請求項１記載の気中環境分析システム。
【請求項５】
前記気中環境分析方法は、
前記パージガスの供給が行われたことによるクリーニング効果を評価する予備分析と、環境空気の評価をする本分析とを含む、
請求項４記載の気中環境分析システム。
【請求項６】
前記気中環境分析方法において、
前記第１分析を開始してから前記第１所定時間が経過した後、
前記第１分析により検出された前記第１分析対象物の濃度が、前記第１閾値濃度以上である場合に、
前記第１測定場所に対する前記パージガスの供給と、前記第２分析と、が同時に行われる、
請求項５記載の気中環境分析システム。
【請求項７】
前記気中環境分析方法において、
前記第１分析により検出された前記第１分析対象物の濃度が、前記第１閾値濃度よりも高い第３閾値濃度以上である場合に、
前記第１分析が中止される、
請求項５記載の気中環境分析システム。
【請求項８】
前記第２分析により検出された前記第２分析対象物の濃度が、前記第１閾値濃度以上である場合に、
前記第３バルブを閉じ、
前記第４バルブを開け、
前記ガス供給源から前記第５端部を介して前記第２測定場所に前記パージガスの供給を行い、
前記第１測定場所から前記第１端部を介して前記分析装置に前記第１分析対象物を供給し、
前記第２分析により検出された前記第２分析対象物の濃度が、前記第１閾値濃度以上でない場合に、
前記第１測定場所から前記第１端部を介して前記分析装置に前記第１分析対象物を供給し、
前記第１分析対象物の濃度が、前記第１閾値濃度より低い第２閾値濃度以下である場合に、
前記第１分析を継続し、
前記第１分析対象物の濃度が、前記第２閾値濃度以下でない場合に、
前記第１バルブを閉じ、
前記第２バルブを開け、
前記ガス供給源から前記第１端部を介して前記第１測定場所に前記パージガスの供給を行う、
請求項５記載の気中環境分析システム。
【請求項９】
前記第１分析対象物の濃度が、前記第２閾値濃度以下でない場合に、
前記第１バルブを閉じ、
前記第２バルブを開け、
前記ガス供給源から前記第１端部を介して前記第１測定場所に前記パージガスの供給を行った後、
第３所定時間の経過後に、
前記第２測定場所から前記第５端部を介して前記分析装置に前記第２分析対象物を供給し、
前記分析装置を用いて前記第２分析対象物の前記第２分析を行い、
前記第３所定時間の経過後の前記第２分析により検出された前記第２分析対象物の濃度が、前記第２閾値濃度以下である場合に、
前記第３所定時間の経過後の前記第２分析を継続し、
前記第３所定時間の経過後の前記第２分析により検出された前記第２分析対象物の濃度が、前記第２閾値濃度以下でない場合に、
前記第３バルブを閉じ、
前記第４バルブを開け、
前記ガス供給源から前記第５端部を介して前記第２測定場所に前記パージガスを供給する、
請求項８記載の気中環境分析システム。
【請求項１０】
分析装置と、
第１測定場所に設けられ、開放端である第１端部と、前記分析装置に接続された第２端部と、を有する第１配管と、
前記第１配管に設けられた第１バルブと、
第２測定場所に設けられ、開放端である第５端部と、前記分析装置に接続された第６端部と、を有する第３配管と、
前記第３配管に設けられた第３バルブと、
前記第１バルブと前記第２端部の間における前記第１配管の第１箇所に接続された第３端部と、第４端部と、を有する第２配管と、
前記第３バルブと前記第６端部の間における前記第３配管の第２箇所に接続された第７端部と、第８端部と、を有する第２配管と、
前記第２配管に設けられた第２バルブと、
前記第４配管に設けられた第４バルブと、
前記第４端部と前記第８端部とに接続されたフィルタユニットと、
前記第２端部及び前記第６端部に接続された第１ポンプと、
を備える気中環境分析システム。
（【請求項１１】以降は省略されています）
発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明の実施形態は、気中環境分析システムに関する。
続きを表示（約 2,800 文字）【背景技術】
【０００２】
半導体デバイスの製造工程において用いられるクリーンルーム内には、環境空気の汚染物質が浮遊していることがある。そのため、クリーンルーム内においては、イオンクロマトグラフィーシステム等を用いた、環境空気の分析が行われる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
特開平１０－３５５６４６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
実施形態の目的は、効率良く環境分析を行う事が出来る、気中環境分析システムを提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
実施形態の気中環境分析システムは、分析装置と、第１測定場所に設けられた第１端部と、第２端部と、第１端部と第２端部の間に設けられた第１箇所と、を有する第１配管と、第１配管の第２端部と分析装置の間に設けられた第１バルブと、パージガスを供給するガス供給源と、第１配管の第１箇所に接続された第３端部と、ガス供給源に接続された第４端部と、を有する第２配管と、第２配管に設けられた第２バルブと、第２測定場所に設けられた第５端部と、第６端部と、第５端部と第６端部の間に設けられた第２箇所と、を有する第３配管と、第３配管の第６端部と分析装置の間に設けられた第３バルブと、第３配管の第２箇所に接続された第７端部と、ガス供給源に接続された第８端部と、を有する第４配管と、第４配管に設けられた第４バルブと、を備える。
【図面の簡単な説明】
【０００６】
第１実施形態の気中環境分析システムの模式図である。
第１実施形態の気中環境分析システムの周囲に配置される、半導体装置の製造システムの構成例を概念的に示す平面図である。
第１実施形態の半導体装置の製造システムに含まれる製造装置６０３を模式的に示す平面図である。
第１実施形態の半導体装置の製造装置に含まれるＥＦＥＭユニットを模式的に示す斜視図である。
メイン処理ユニットの第１例としてのドライエッチングユニットを示す模式図である。
メイン処理ユニットの第２例としての成膜ユニット（スパッタリングユニット）を示す模式図である。
第１実施形態の気中環境分析方法のフローチャートである。
第１実施形態の気中環境分析方法のフローチャートである。
第１実施形態の気中環境分析方法における、第１測定場所Ａ１の濃度、第２測定場所Ａ２の濃度、第１バルブ５２の開閉、第２バルブ５４の開閉、第３バルブ５６の開閉及び第４バルブ５８の開閉の時間変化を模式的に示す図である。
第１実施形態の気中環境分析システムの使用態様の一例を示す模式図である。
第１実施形態の気中環境分析システムの使用態様の一例を示す模式図である。
第１実施形態の気中環境分析システムにおける配管の分析とパージガス供給（クリーニング）の時間経過を模式的に示す図である。
第１実施形態の気中環境分析システムにおける配管の分析とパージガス供給（クリーニング）の時間経過を模式的に示す図である。
第１実施形態の気中環境分析システムにおける配管の分析とパージガス供給（クリーニング）の時間経過を模式的に示す図である。
第２実施形態の気中環境分析システムの模式図である。
第２実施形態の気中環境分析方法のフローチャートである。
第２実施形態の気中環境分析方法のフローチャートである。
第２実施形態の気中環境分析システムの使用態様の一例を示す模式図である。
第２実施形態の気中環境分析システムの使用態様の一例を示す模式図である。
第３実施形態の気中環境分析システムの模式図である。
第３実施形態の気中環境分析方法のフローチャートである。
第３実施形態の気中環境分析方法のフローチャートである。
第４実施形態の気中環境分析システムにおける配管の分析とガス供給（クリーニング）の時間経過を模式的に示す図である。
第４実施形態の気中環境分析システムにおける配管の分析とパージガス供給（クリーニング）の時間経過を模式的に示す図である。
第５実施形態の気中環境分析システムにおける配管の分析とパージガス供給（クリーニング）の時間経過を模式的に示す図である。
第５実施形態の気中環境分析システムにおける配管の分析とパージガス供給（クリーニング）の時間経過を模式的に示す図である。
【発明を実施するための形態】
【０００７】
以下、図面を用いて実施形態を説明する。なお、図面中、同一又は類似の箇所には、同一又は類似の符号を付している。
【０００８】
（第１実施形態）
本実施形態の気中環境分析システムは、分析装置と、第１測定場所に設けられた第１端部と、第２端部と、第１端部と第２端部の間に設けられた第１箇所と、を有する第１配管と、第１配管の第２端部と分析装置の間に設けられた第１バルブと、パージガスを供給するガス供給源と、第１配管の第１箇所に接続された第３端部と、ガス供給源に接続された第４端部と、を有する第２配管と、第２配管に設けられた第２バルブと、第２測定場所に設けられた第５端部と、第６端部と、第５端部と第６端部の間に設けられた第２箇所と、を有する第３配管と、第３配管の第６端部と分析装置の間に設けられた第３バルブと、第３配管の第２箇所に接続された第７端部と、ガス供給源に接続された第８端部と、を有する第４配管と、第４配管に設けられた第４バルブと、を備える。
【０００９】
また、本実施形態の気中環境分析システムは、気中環境分析方法を実行可能な制御装置をさらに有し、気中環境分析方法は、第１測定場所から第１端部を介して分析装置に第１分析対象物を供給し、分析装置を用いて第１分析対象物の第１分析を行い、第１分析を開始してから第１所定時間が経過した後、第１分析により検出された第１分析対象物の濃度が、第１閾値濃度以上である場合に、第１バルブを閉じ、第２バルブを開け、ガス供給源から第１端部を介して第１測定場所にパージガスの供給を行い、第２測定場所から第５端部を介して分析装置に第２分析対象物を供給し、分析装置を用いて第２分析対象物の第２分析を行い、第１分析により検出された第１分析対象物の濃度が、第１閾値濃度以上ではない場合に、パージガスの供給を行うことなく第２分析を行うことを含む。
【００１０】
図１は、本実施形態の気中環境分析システム１００の模式図である。
（【００１１】以降は省略されています）

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