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公開番号2025074762
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-05-14
出願番号2023185786
出願日2023-10-30
発明の名称X線測定装置
出願人株式会社不二越
代理人個人,個人
主分類G01N 23/2055 20180101AFI20250507BHJP(測定;試験)
要約【課題】機構の複雑化を抑制しつつ位置合わせを行う。
【解決手段】表面が曲面の試料2の所定位置に対してX線測定を行うX線測定装置1であって、試料2の表面へX線を照射した場合の回折環を取得する取得部と、回折環に基づいて、X線が照射された試料2の表面におけるX線の入射角を算出する算出部と、入射角に基づいて、X線を試料の表面における所定位置へ照射するためのX線測定の照射位置を補正する補正値を算出する位置補正部と、を備える。
【選択図】図1
特許請求の範囲【請求項１】
表面が曲面の試料の所定位置に対してＸ線測定を行うＸ線測定装置であって、
前記試料の表面へＸ線を照射した場合の回折環を取得する取得部と、
前記回折環に基づいて、Ｘ線が照射された前記試料の表面におけるＸ線の入射角を算出する算出部と、
前記入射角に基づいて、Ｘ線を前記試料の表面における前記所定位置へ照射するための前記Ｘ線測定の照射位置を補正する補正値を算出する位置補正部と、
を備えるＸ線測定装置。
続きを表示（約 480 文字）【請求項２】
前記算出部は、前記回折環における複数のα角における強度に係るパラメータの分布をフーリエ級数展開したフーリエ係数に基づいて、前記入射角を算出する、
請求項１に記載のＸ線測定装置。
【請求項３】
前記フーリエ係数は、前記フーリエ級数展開における一次の余弦波の係数である、
請求項２に記載のＸ線測定装置。
【請求項４】
前記算出部は、前記入射角が前記フーリエ係数の二次式で対応付けられた補正情報に基づいて、前記フーリエ係数から前記入射角を算出する、
請求項２又は３に記載のＸ線測定装置。
【請求項５】
前記補正情報は、表面が平面である基準試料に対して、Ｘ線の前記入射角と、Ｘ線の前記照射位置から前記基準試料までの距離と、をそれぞれ複数変更して取得した複数の基準回折環に基づいて設定される、
請求項４に記載のＸ線測定装置。
【請求項６】
前記試料の表面のおける前記所定位置は、前記試料の表面における頂点である、
請求項１又は２に記載のＸ線測定装置。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、Ｘ線測定装置に関する。
続きを表示（約 1,100 文字）【背景技術】
【０００２】
試料を分析するために、試料へ向けてＸ線を照射し、試料で回折したＸ線の回折環を検出する方法がある。検出された回折環によることで、試料を分析することが可能である。例えば応力を測定する場合、試料の表面形状が測定精度に影響する。表面の形状は、例えば特許文献１のようなラインセンサや、試料に接触させる治具を用いて検出する場合がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
特開２００６－３１７４６５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
Ｘ線測定装置において、例えば応力測定といったＸ線測定のために試料の表面の頂点に対して位置合わせを行うことがある。このような場合に、ラインセンサや治具を用いて試料表面の頂点を検知しようとすると、機構が複雑化する可能性がある。また、ラインセンサはコストを要する可能性が高く、接触型の治具は試料の表面を損傷させる可能性がある。
【０００５】
上記課題に鑑み、本発明は、機構の複雑化を抑制しつつ位置合わせを行うことができるＸ線測定装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記課題を解決するために、本発明に係るＸ線測定装置は、表面が曲面の試料の所定位置に対してＸ線測定を行うＸ線測定装置であって、前記試料の表面へＸ線を照射した場合の回折環を取得する取得部と、前記回折環に基づいて、Ｘ線が照射された前記試料の表面におけるＸ線の入射角を算出する算出部と、前記入射角に基づいて、Ｘ線を前記試料の表面における前記所定位置へ照射するための前記Ｘ線測定の照射位置を補正する補正値を算出する位置補正部と、を備える。
【０００７】
また、Ｘ線測定装置において、前記算出部は、前記回折環における複数のα角における強度に係るパラメータの分布をフーリエ級数展開したフーリエ係数に基づいて、前記入射角を算出する。
【０００８】
また、Ｘ線測定装置において、前記フーリエ係数は、前記フーリエ級数展開における一次の余弦波の係数である。
【０００９】
また、Ｘ線測定装置において、前記算出部は、前記入射角が前記フーリエ係数の二次式で対応付けられた補正情報に基づいて、前記フーリエ係数から前記入射角を算出する。
【００１０】
また、Ｘ線測定装置において、前記補正情報は、表面が平面である基準試料に対して、Ｘ線の前記入射角と、Ｘ線の前記照射位置から前記基準試料までの距離と、をそれぞれ複数変更して取得した複数の基準回折環に基づいて設定される。
（【００１１】以降は省略されています）

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