TOP
|
特許
|
意匠
|
商標
特許ウォッチ
Twitter
他の特許を見る
10個以上の画像は省略されています。
公開番号
2025072297
公報種別
公開特許公報(A)
公開日
2025-05-09
出願番号
2024167762
出願日
2024-09-26
発明の名称
接地領域を含むイメージセンサー
出願人
三星電子株式会社
,
Samsung Electronics Co.,Ltd.
代理人
弁理士法人共生国際特許事務所
主分類
H10F
39/18 20250101AFI20250430BHJP()
要約
【課題】鮮明な画質を具現することができるイメージセンサーを提供する。
【解決手段】本発明のイメージセンサーは、複数の画素を含み、前記画素の各々が左側サブ画素と右側サブ画素を含む基板と、前記画素の各々で前記基板内に配置され、前記左側サブ画素と前記右側サブ画素を連結するウェル領域と、前記基板内に配置されて前記画素を限定する画素分離部と、前記左側サブ画素上に配置された左側伝送トランジスタ及び第1ロジックトランジスタと、前記右側サブ画素上に配置された右側伝送トランジスタ及び第2ロジックトランジスタと、前記左側サブ画素又は前記右側サブ画素で前記基板内に配置され、前記ウェル領域と接する接地領域と、を含み、前記画素分離部の一部は前記左側サブ画素と前記右側サブ画素との間に挿入され、前記接地領域は前記画素の各々の角の中の1つに隣接する。
【選択図】図1
特許請求の範囲
【請求項1】
複数の画素を含む基板であって、前記画素の各々が左側サブ画素と右側サブ画素を含む前記基板と、
前記画素の各々で前記基板内に配置されるウェル領域であって、前記左側サブ画素と前記右側サブ画素とを連結する前記ウェル領域と、
前記基板内に配置されて前記画素を限定する画素分離部と、
前記左側サブ画素上に配置された左側伝送トランジスタ及び第1ロジックトランジスタと、
前記右側サブ画素上に配置された右側伝送トランジスタ及び第2ロジックトランジスタと、
前記左側サブ画素又は前記右側サブ画素で前記基板内に配置され、前記ウェル領域と接する接地領域と、を含み、
前記画素分離部の一部は、前記左側サブ画素と前記右側サブ画素との間に挿入され、
前記接地領域は、前記画素の各々の角の中の1つに隣接することを特徴とするイメージセンサー。
続きを表示(約 1,800 文字)
【請求項2】
前記画素の各々で前記左側サブ画素及び前記右側サブ画素を同時に覆うマイクロレンズをさらに含むことを特徴とする請求項1に記載のイメージセンサー。
【請求項3】
前記画素の各々の中心で前記基板内に配置された素子分離部をさらに含むことを特徴とする請求項1に記載のイメージセンサー。
【請求項4】
前記左側伝送トランジスタは、前記第1ロジックトランジスタから第1方向に離隔され、
前記右側伝送トランジスタは、前記第2ロジックトランジスタから前記第1方向に離隔され、
前記接地領域は、前記第1ロジックトランジスタと第2方向に隣接し、前記第2方向は、前記第1方向と交差し、
前記第1ロジックトランジスタのゲート電極は、前記第2方向に細長く、
前記第2ロジックトランジスタのゲート電極は、第3方向に細長くて、前記第3方向は、前記第1方向及び前記第2方向と同時に交差することを特徴とする請求項1に記載のイメージセンサー。
【請求項5】
前記基板内に配置された素子分離部をさらに含み、
前記素子分離部は、前記左側伝送トランジスタ、前記右側伝送トランジスタ、前記第1ロジックトランジスタ、前記第2ロジックトランジスタ、及び前記接地領域のための活性領域を限定し、
前記第1ロジックトランジスタ又は前記第2ロジックトランジスタのゲート電極の一部は、前記素子分離部内に挿入され、前記基板の側面を覆うことを特徴とする請求項1に記載のイメージセンサー。
【請求項6】
前記左側伝送トランジスタと前記右側伝送トランジスタのゲート電極の各々は、前記基板内に挿入される少なくとも1つの突出部を含むことを特徴とする請求項1に記載のイメージセンサー。
【請求項7】
複数の画素グループを含む基板であって、前記画素グループの各々は2x2配列の画素を含み、前記画素の各々は左側サブ画素と右側サブ画素を含む前記基板と、
前記画素の各々で前記基板内に配置されるウェル領域であって、前記左側サブ画素と前記右側サブ画素を連結する前記ウェル領域と、
前記基板内に配置されて前記画素を限定する画素分離部と、
前記左側サブ画素上に配置された左側伝送トランジスタ及び左側活性領域と、
前記右側サブ画素上に配置された右側伝送トランジスタ及び右側活性領域と、
前記左側サブ画素又は前記右側サブ画素で前記基板内に配置され、前記ウェル領域と接する接地領域と、
前記画素グループの間で前記基板上を横切る接地ラインと、を含み、
前記画素分離部の一部は、前記左側サブ画素と前記右側サブ画素との間に挿入され、
前記画素の各々で前記接地領域は、前記接地ラインに隣接することを特徴とするイメージセンサー。
【請求項8】
前記画素の各々で前記左側サブ画素及び前記右側サブ画素を同時に覆うマイクロレンズと、
前記画素グループの中の1つを覆う第1カラーフィルターと、
前記画素グループの中の他の1つを覆う第2カラーフィルターと、
前記画素グループの中のその他の1つを覆う第3カラーフィルターと、をさらに含むことを特徴とする請求項7に記載のイメージセンサー。
【請求項9】
前記左側伝送トランジスタは、前記左側活性領域から第1方向に離隔され、
前記右側伝送トランジスタは、前記右側活性領域から前記第1方向に離隔され、
前記接地ラインは、前記第1方向に延長されていることを特徴とする請求項7に記載のイメージセンサー。
【請求項10】
前記画素グループの各々は、第1乃至第4画素を含み、
前記第1画素と前記第2画素は、第1方向に並んで配置されて、第1行を構成し、
前記第3画素と前記第4画素は、前記第1方向に並んで配置されて、第2行を構成し、
前記第1画素と前記第2画素上の左側及び右側伝送トランジスタは、前記第3画素と前記第4画素上の左側及び右側伝送トランジスタに隣接することを特徴とする請求項7に記載のイメージセンサー。
(【請求項11】以降は省略されています)
発明の詳細な説明
【技術分野】
【0001】
本発明は、イメージセンサーに関し、より詳細には接地領域を含むイメージセンサーに関する。
続きを表示(約 3,800 文字)
【背景技術】
【0002】
イメージセンサーは、光学映像(Optical image)を電気信号に変換する半導体素子である。イメージセンサーは、CCD(Charge coupled device)形とCMOS(Complementary metal oxide semiconductor)形に分類される。CMOS形イメージセンサーはCIS(CMOS image sensor)と略称される。CISは2次元的に配列された複数の画素を具備する。画素の各々はフォトダイオードPD(photodiode)を含む。フォトダイオードは入射される光を電気信号に変換する役割を果たす。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
米国特許第11595597号明細書
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
本発明の目的は、鮮明な画質を具現することができるイメージセンサーを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【0005】
上記目的を達成するためになされた本発明の一態様によるイメージセンサーは、複数の画素を含む基板であって、前記画素の各々が左側サブ画素と右側サブ画素を含む前記基板と、前記画素の各々で前記基板内に配置されるウェル領域であって、前記左側サブ画素と前記右側サブ画素とを連結する前記ウェル領域と、前記基板内に配置されて前記画素を限定する画素分離部と、前記左側サブ画素上に配置された左側伝送トランジスタ及び第1ロジックトランジスタと、前記右側サブ画素上に配置された右側伝送トランジスタ及び第2ロジックトランジスタと、前記左側サブ画素又は前記右側サブ画素で前記基板内に配置され、前記ウェル領域と接する接地領域と、を含み、前記画素分離部の一部は前記左側サブ画素と前記右側サブ画素との間に挿入され、前記接地領域は前記画素の各々の角の中の1つに隣接する。
【0006】
上記目的を達成するためになされた本発明の他の態様によるイメージセンサーは、複数の画素グループを含む基板であって、前記画素グループの各々は2x2配列の画素を含み、前記画素の各々は左側サブ画素と右側サブ画素を含む前記基板と、前記画素の各々で前記基板内に配置されるウェル領域であって、前記左側サブ画素と前記右側サブ画素を連結する前記ウェル領域と、前記基板内に配置されて前記画素を限定する画素分離部と、前記左側サブ画素上に配置された左側伝送トランジスタ及び左側活性領域と、前記右側サブ画素上に配置された右側伝送トランジスタ及び右側活性領域と、前記左側サブ画素又は前記右側サブ画素で前記基板内に配置され、前記ウェル領域と接する接地領域と、前記画素グループの間で前記基板上を横切る接地ラインと、を含み、前記画素分離部の一部は前記左側サブ画素と前記右側サブ画素との間に挿入され、前記画素の各々で前記接地領域は前記接地ラインに隣接する。
【0007】
上記目的を達成するためになされた本発明のさらに他の態様によるイメージセンサーは、互いに反対となる第1面と第2面を有する基板であって、複数の画素グループを含み、前記画素グループの各々が2x2配列の画素を含み、前記画素の各々が左側サブ画素と右側サブ画素を含む前記基板と、前記第1面上に配置され、前記画素グループの中の1つを覆う第1カラーフィルターと、前記第1面上に配置され、前記画素グループの中の他の1つを覆う第2カラーフィルターと、前記第1面上に配置され、前記画素グループの中のその他の1つを覆う第3カラーフィルターと、前記第1乃至第3カラーフィルター上に配置され、前記画素の各々を覆うマイクロレンズと、前記画素の各々で前記基板内に配置されるウェル領域であって、前記左側サブ画素と前記右側サブ画素を連結する前記ウェル領域と、前記基板を貫通し、前記画素を限定する画素分離部と、前記第2面に隣接し、前記基板内に配置され、前記左側サブ画素に左側活性領域をそして前記右側サブ画素に右側活性領域を各々限定する素子分離部と、前記左側サブ画素の各々で前記基板内に配置された左側光電変換領域と、前記右側サブ画素の各々で前記基板内に配置された右側光電変換領域と、前記左側サブ画素の各々で前記第2面上に配置された左側伝送トランジスタと、前記右側サブ画素の各々で前記第2面上に配置された右側伝送トランジスタと、前記左側サブ画素又は前記右側サブ画素で前記基板内に配置され、前記ウェル領域と接する接地領域と、を含み、前記画素分離部の一部は前記左側サブ画素と前記右側サブ画素との間に挿入され、前記接地領域は複数で提供されて前記画素グループの各々の角に隣接するように配置される。
【発明の効果】
【0008】
本発明によるイメージセンサーは、2つのサブ画素を含む1つの画素で、接地領域が画素の角部分に配置され、画素分離部のカッティング領域に接地領域が配置されないので、これに隣接するロジックトランジスタのゲート幅が狭くなることを防止することができる。したがって、RTS(Random Telegram Signal)が改善され、鮮明な画質のイメージセンサーを提供することができる。また、カッティング領域に接地領域が配置されず、AF(Auto-Focus)分離比を向上させることができるので、優れた自動焦点機能を遂行することができる。
【図面の簡単な説明】
【0009】
本発明の実施形態によるイメージセンサーの1つの画素を示す平面図である。
本発明の実施形態において図1をA-A’線に沿って切断した断面図である。
本発明の実施形態において図1をA-A’線に沿って切断した断面図である。
本発明の実施形態において図1をB-B’線に沿って切断した断面図である。
本発明の実施形態によるイメージセンサーの画素グループを示す平面図である。
本発明の実施形態によるイメージセンサーの1つの画素グループを示す平面図である。
図5の画素グループの配置とトランジスタの連結関係を示す平面図である。
図6の‘P1’部分を拡大した図である。
図6のイメージセンサーの回路図を示す。
本発明の実施形態において図6の‘P2’部分を拡大した図である。
図9をC-C’線に沿って切断した断面図である。
本発明の実施形態において図6の‘P2’部分を拡大した図である。
図11をC-C’線に沿って切断した断面図である。
本発明の実施形態において図6の‘P2’部分を拡大した図である。
図13をD-D’線に沿って切断した断面図である。
本発明の実施形態によるイメージセンサーの1つの画素グループを示す平面図である。
図15の画素グループの配置とトランジスタの連結関係を示す平面図である。
本発明の実施形態によるイメージセンサーの1つの画素グループを示す平面図である。
図17の画素グループの配置とトランジスタの連結関係を示す平面図である。
図18をE-E’線に沿って切断した断面図である。
図18のイメージセンサーの回路図である。
本発明の実施形態によるイメージセンサーの1つの画素グループを示す平面図である。
図21の画素グループの配置とトランジスタの連結関係を示す平面図である。
本発明の実施形態によるイメージセンサーの1つの画素グループを示す平面図である。
図23の画素グループの配置とトランジスタの連結関係を示す平面図である。
図24のイメージセンサーの回路図である。
本発明の実施形態によるイメージセンサーの1つの画素グループを示す平面図である。
図26の画素グループの配置とトランジスタの連結関係を示す平面図である。
図27のイメージセンサーの回路図である。
本発明の実施形態によるイメージセンサーの1つの画素グループを示す平面図である。
図29の画素グループの配置とトランジスタの連結関係を示す平面図である。
本発明の実施形態によるイメージセンサーの1つの画素グループを示す平面図である。
図31の画素グループの配置とトランジスタの連結関係を示す平面図である。
本発明の実施形態によるイメージセンサーの1つの画素グループを示す平面図である。
図33の画素グループの配置とトランジスタの連結関係を示す平面図である。
本発明の実施形態によるイメージセンサーの断面図である。
【発明を実施するための形態】
【0010】
以下、本発明をより具体的に説明するために本発明による実施形態を図面を参照しながら、より詳細に説明する。本明細書で第1、第2等のような順序を示す用語は同一/類似の機能を有する構成を互いに区分するために使用されており、記載されている順序によってその番号が変わり得る。
(【0011】以降は省略されています)
この特許をJ-PlatPatで参照する
関連特許
三星電子株式会社
半導体素子
2日前
三星電子株式会社
イメージセンサ
25日前
三星電子株式会社
半導体パッケージ
12日前
三星電子株式会社
イメージセンサー
11日前
三星電子株式会社
計測装置及び計測方法
3日前
三星電子株式会社
半導体メモリ素子の製造方法
12日前
三星電子株式会社
イメージセンサー及びその製造方法
19日前
三星電子株式会社
集積回路素子、及びそれを含む電子システム
4日前
三星電子株式会社
熱交換器及びこの熱交換器を用いた空気調和機
18日前
三星電子株式会社
磁気トンネル接合素子及びこれを含むメモリ装置
22日前
三星電子株式会社
メモリ素子、及びそれを利用したマルチレベルメモリ具現化方法
2日前
三星電子株式会社
映像の復号化方法及び装置
9日前
三星電子株式会社
映像の復号化方法及び装置
9日前
三星電子株式会社
映像の復号化方法及び装置
9日前
三星電子株式会社
平行スピン-モーメンタム固定スピン電流を用いた磁気トンネル接合スイッチング
25日前
三星電子株式会社
ソース/ドレインパターン及びソース/ドレインパターンの間の分離パターンを含む半導体素子
2日前
三星電子株式会社
半導体製造装置用センサデバイス、センサデバイスの動作方法、およびセンサデバイスを含むシステム
2日前
東レ株式会社
太陽電池の製造方法
11日前
富士電機株式会社
半導体装置
25日前
個人
FIN TFT電極基板
1か月前
ローム株式会社
半導体発光装置
10日前
ローム株式会社
半導体装置
9日前
ローム株式会社
半導体装置
18日前
三菱電機株式会社
半導体装置
1か月前
株式会社村田製作所
電子部品
11日前
三菱電機株式会社
半導体装置
11日前
富士電機株式会社
半導体装置
1か月前
株式会社エレックス
発光装置の製造方法
9日前
株式会社半導体エネルギー研究所
発光デバイス
10日前
株式会社カネカ
太陽電池モジュール
15日前
日亜化学工業株式会社
発光装置
16日前
日亜化学工業株式会社
発光モジュール
1か月前
株式会社エネコートテクノロジーズ
太陽電池
11日前
ローム株式会社
半導体装置
22日前
ルネサスエレクトロニクス株式会社
半導体装置
1か月前
ローム株式会社
半導体装置
25日前
続きを見る
他の特許を見る