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公開番号2025087383
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-06-10
出願番号2023201988
出願日2023-11-29
発明の名称電子部品
出願人株式会社村田製作所
代理人個人,個人
主分類H10D 1/68 20250101AFI20250603BHJP()
要約【課題】薄膜キャパシタを覆う絶縁膜の平坦化、及び寄生容量の低減を図ることが可能な電子部品を提供する。
【解決手段】基板の一方の面である第1面の上に配置された下部電極、下部電極の上に配置されたキャパシタ誘電体膜、及びキャパシタ誘電体膜の上に配置された上部電極を含む薄膜キャパシタが設けられている。薄膜キャパシタを覆うように、第1面の上に絶縁性の樹脂膜が配置されている。上部電極は、主としてTiを含むチタン膜と主としてPtを含む白金膜との2層を含み、白金膜がチタン膜と樹脂膜との間に配置されている。
【選択図】図1
特許請求の範囲【請求項1】
基板と、
前記基板の一方の面である第1面の上に配置された下部電極、前記下部電極の上に配置されたキャパシタ誘電体膜、及び前記キャパシタ誘電体膜の上に配置された上部電極を含む薄膜キャパシタと、
前記薄膜キャパシタを覆うように、前記第1面の上に配置された絶縁性の樹脂膜と
を備え、
前記上部電極は、主としてTiを含むチタン膜と主としてPtを含む白金膜との2層を含み、前記白金膜が前記チタン膜と前記樹脂膜との間に配置されている電子部品。
続きを表示(約 730 文字)【請求項2】
前記上部電極は、前記白金膜と前記樹脂膜との間に配置された主としてAuを含む金膜を、さらに含む請求項1に記載の電子部品。
【請求項3】
前記上部電極と前記樹脂膜との間に配置された無機絶縁材料からなる無機絶縁膜を、さらに備えた請求項1または2に記載の電子部品。
【請求項4】
前記樹脂膜の上に配置された配線を、さらに備えており。
前記配線は、前記樹脂膜に設けられた第1開口及び前記無機絶縁膜に設けられた第2開口を通って前記上部電極に接続されており、
前記第1面を平面視したとき、前記第1開口の縁の少なくとも一部分は、前記第2開口より外側に配置されている請求項3に記載の電子部品。
【請求項5】
前記第1面を平面視したとき、前記第2開口は前記第1開口に包含されており、前記第2開口の縁から前記第1開口の縁までの最短距離が、前記無機絶縁膜の厚さより長い請求項4に記載の電子部品。
【請求項6】
前記第1面のうち、前記薄膜キャパシタが配置されていない領域の上に配置され、前記配線を介して前記薄膜キャパシタに接続された電子回路素子を、さらに備えた請求項4に記載の電子部品。
【請求項7】
前記第1面を平面視したとき、前記下部電極の縁の少なくとも一部分が、前記上部電極の外側に配置されている請求項1または2に記載の電子部品。
【請求項8】
前記キャパシタ誘電体膜は窒化シリコンを含み、前記下部電極の側面を覆っている請求項1または2に記載の電子部品。
【請求項9】
前記白金膜の厚さが5nm以上である請求項1または2に記載の電子部品。

発明の詳細な説明【技術分野】
【0001】
本発明は、電子部品に関する。
続きを表示(約 2,000 文字)【背景技術】
【0002】
小型の電子機器にMIMキャパシタ等の薄膜キャパシタが用いられる(特許文献1)。薄膜キャパシタは、基板の上に配置された下部電極、キャパシタ誘電体膜、及び上部電極で構成される。特許文献1に開示された薄膜キャパシタは、Al



、TiO

、Ta



、SiN等の絶縁性水素バリア膜、及びAl



、SiO

等の絶縁膜で覆われる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
特開2010-109014号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
薄膜キャパシタを覆う絶縁膜の上に電子回路を配置する場合、絶縁膜の上面を平坦化することが好ましい。また、薄膜キャパシタと絶縁膜上の電子回路との寄生容量を低減させることが望まれている。本発明の目的は、薄膜キャパシタを覆う絶縁膜の平坦化、及び寄生容量の低減を図ることが可能な電子部品を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【0005】
本発明の一観点によると、
基板と、
前記基板の一方の面である第1面の上に配置された下部電極、前記下部電極の上に配置されたキャパシタ誘電体膜、及び前記キャパシタ誘電体膜の上に配置された上部電極を含む薄膜キャパシタと、
前記薄膜キャパシタを覆うように、前記第1面の上に配置された絶縁性の樹脂膜と
を備え、
前記上部電極は、主としてTiを含むチタン膜と主としてPtを含む白金膜との2層を含み、前記白金膜が前記チタン膜と前記樹脂膜との間に配置されている電子部品が提供される。
【発明の効果】
【0006】
薄膜キャパシタを樹脂膜で覆うことにより、無機絶縁材料からなる絶縁膜で覆う場合と比べて、樹脂膜の上面を平坦化しやすい。また、一般的に、絶縁性樹脂の誘電率は無機絶縁材料の誘電率より低いため、薄膜キャパシタと樹脂膜の上の電子回路との間の寄生容量を小さくすることができる。さらに、白金膜が、樹脂膜からチタン膜への水分の浸入を防止するバリア膜として機能する。その結果、キャパシタ誘電体膜への水分の浸入も抑制され、キャパシタ誘電体膜の劣化を抑制することができる。
【図面の簡単な説明】
【0007】
図1は、第1実施例による電子部品の断面図である。
図2は、第2実施例による電子部品の断面図である。
図3Aから図3Dまでの図面は、第2実施例による電子部品の製造途中段階における断面図である。
図4は、第3実施例による電子部品の断面図である。
図5は、第4実施例による電子部品の断面図である。
図6は、第5実施例による電子部品の断面図である。
図7は、第6実施例による電子部品の断面図である。
図8は、第7実施例による電子部品の断面図である。
図9は、第7実施例による電子部品の第1開口と第2開口との平面視における位置関係を示す図である。
図10は、第8実施例による電子部品の断面図である。
【発明を実施するための形態】
【0008】
[第1実施例]
図1を参照して第1実施例による電子部品について説明する。
図1は、第1実施例による電子部品の断面図である。絶縁性の表層部を有する基板10の絶縁性表面(以下、第1面10Aという。)の上に、薄膜キャパシタ20が配置されている。薄膜キャパシタ20は、第1面10Aの上に配置された下部電極21、下部電極21の上に配置されたキャパシタ誘電体膜22、及びキャパシタ誘電体膜22の上に配置された上部電極23を含む。なお、キャパシタ誘電体膜22は、異なる誘電体材料からなる複数の誘電体膜で構成されていてもよい。
【0009】
第1面10Aを平面視したとき(以下、「平面視において」という場合がある。)キャパシタ誘電体膜22は下部電極21に包含されている。上部電極23は、平面視においてキャパシタ誘電体膜22に包含されている。
【0010】
薄膜キャパシタ20を覆うように第1面10Aの上に絶縁性の樹脂膜40が配置されている。樹脂膜40の上面は、ほぼ平坦化されている。樹脂膜40に、上部電極23の一部を露出させる第1開口40Hが形成されている。樹脂膜40の上に配線50が配置されており、配線50は、第1開口40Hを通って上部電極23に接続されている。
(【0011】以降は省略されています)

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