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公開番号2025070253
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-05-02
出願番号2023180426
出願日2023-10-19
発明の名称位置検出装置、レンズモジュールおよび撮像装置
出願人TDK株式会社
代理人弁理士法人つばさ国際特許事務所
主分類G01D 5/12 20060101AFI20250424BHJP(測定;試験)
要約【課題】所定の位置検出範囲を確保しつつ、よりコンパクトな構成を有する位置検出装置を提供する。
【解決手段】位置検出装置は、第1軸方向に延在する延在部分を有するヨークと、第1軸方向と交差する第2軸方向に着磁され、第1磁場を発生する第1磁場発生部と、第2軸方向においてヨークの延在部分から見て第1磁場発生部と反対側に設けられ、バイアス磁場を発生するバイアス磁場発生部と、磁場検出部とを備える。第1磁場発生部は、ヨーク、バイアス磁場発生部、および磁場検出部に対して第1軸方向に移動可能である。磁場検出部は、第1磁場のうちの第1軸方向に沿った第1の向きの強度の変化を検出する。
【選択図】図1A
特許請求の範囲【請求項１】
第１軸方向に延在する延在部分を有するヨークと、
前記第１軸方向と交差する第２軸方向に着磁され、第１磁場を発生する第１磁場発生部と、
前記第２軸方向において前記ヨークの前記延在部分から見て前記第１磁場発生部と反対側に設けられ、バイアス磁場を発生するバイアス磁場発生部と、
磁場検出部と
を備え、
前記第１磁場発生部は、前記ヨーク、前記バイアス磁場発生部、および前記磁場検出部に対して前記第１軸方向に移動可能であり、
前記磁場検出部は、前記第１磁場のうちの第１の向きの強度を検出する
位置検出装置。
続きを表示（約 1,600 文字）【請求項２】
前記ヨークは、前記第１軸方向および前記第２軸方向を含む第１の面に沿って曲がった形状を有し、
前記第１磁場発生部は、前記延在部分から見て前記ヨークが取り囲む空間と反対側に配置されている
請求項１記載の位置検出装置。
【請求項３】
前記ヨークは、前記第１軸方向および前記第２軸方向を含む第１の面に沿って周回する環状の物体の一部分である第１ヨーク部分および第２ヨーク部分を有する部分環状ヨークであり、
前記バイアス磁場発生部は、前記部分環状ヨークが周回する周回方向に沿って前記第１ヨーク部分と前記第２ヨーク部分との間に配置されている
請求項１記載の位置検出装置。
【請求項４】
前記バイアス磁場発生部は、前記ヨークの周回方向に沿って着磁されている
請求項３記載の位置検出装置。
【請求項５】
前記ヨークは、前記磁場検出部を挟んで対向する一対の対向部分をさらに有する
請求項１記載の位置検出装置。
【請求項６】
前記第１磁場発生部は、前記延在部分と前記第２軸方向に対向する範囲内で前記第１軸方向に移動可能である
請求項１記載の位置検出装置。
【請求項７】
前記磁場検出部は、前記第２軸方向において前記ヨークの前記延在部分から見て前記第１磁場発生部と反対側に設けられている
請求項１記載の位置検出装置。
【請求項８】
前記第１の向きは、前記第１軸方向および前記第２軸方向を含む第１の面に平行である
請求項１記載の位置検出装置。
【請求項９】
第１軸方向に延在する第１延在部分を有する第１ヨークと、
前記第１軸方向と交差する第２軸方向に着磁され、第１磁場を発生する第１磁場発生部と、
前記第２軸方向において前記第１ヨークの前記第１延在部分から見て前記第１磁場発生部と反対側に設けられ、第１バイアス磁場を発生する第１バイアス磁場発生部と、
第１磁場検出部と、
前記第２軸方向において前記第１磁場発生部から見て前記第１ヨークの前記第１延在部分と反対側に設けられ、前記第１軸方向に延在する第２延在部分を有する第２ヨークと、
前記第２軸方向において前記第２ヨークの前記第２延在部分から見て前記第１磁場発生部と反対側に設けられ、第２バイアス磁場を発生する第２バイアス磁場発生部と、
第２磁場検出部と
を備え、
前記第１の磁場発生部は、前記第１ヨーク、前記第１バイアス磁場発生部、前記第１磁場検出部、前記第２ヨーク、前記第２バイアス磁場発生部、および前記第２磁場検出部、に対して前記第１軸方向に移動可能であり、
前記第１磁場検出部および前記第２磁場検出部のそれぞれは、前記第１磁場のうちの第１の向きの強度を検出する
位置検出装置。
【請求項１０】
位置検出装置と、
レンズと
を有し、
前記位置検出装置は、
第１軸方向に延在する延在部分を有するヨークと、
前記第１軸方向と交差する第２軸方向に着磁され、第１磁場を発生する第１磁場発生部と、
前記第２軸方向において前記ヨークの前記延在部分から見て前記第１磁場発生部と反対側に設けられ、バイアス磁場を発生するバイアス磁場発生部と、
磁場検出部と
を備え、
前記第１磁場発生部は、前記ヨーク、前記バイアス磁場発生部、および前記磁場検出部に対して前記第１軸方向に移動可能であり、
前記磁場検出部は、前記第１磁場のうちの第１の向きの強度を検出する
レンズモジュール。
（【請求項１１】以降は省略されています）
発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本開示は、磁場検出部を備えた位置検出装置、レンズモジュールおよび撮像装置に関する。
続きを表示（約 2,900 文字）【背景技術】
【０００２】
直線運動する移動体の位置を検出する位置検出装置が知られている。例えば特許文献１には、磁気感知素子と、移動体に間隔をおいて取り付けられた複数の磁気部材とを備えた磁気式位置検出装置が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
特開２０１１－１３７７９６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ところで、このような位置検出装置については、小型化および軽量化が求められている。
【０００５】
したがって、所定の位置検出範囲を確保しつつ、よりコンパクトな構成を有する位置検出装置を提供することが望まれる。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本開示の一実施態様としての位置検出装置は、第１軸方向に延在する延在部分を有するヨークと、第１軸方向と交差する第２軸方向に着磁され、第１磁場を発生する第１磁場発生部と、第２軸方向においてヨークの延在部分から見て第１磁場発生部と反対側に設けられ、バイアス磁場を発生するバイアス磁場発生部と、磁場検出部とを備える。ここで、第１磁場発生部は、ヨーク、バイアス磁場発生部、および磁場検出部に対して第１軸方向に移動可能である。磁場検出部は、第１磁場のうちの第１軸方向に沿った第１の向きの強度を検出する。
【発明の効果】
【０００７】
本開示の一実施態様としての位置検出装置によれば、所定の位置検出範囲を確保しつつ、よりコンパクトな構成を実現できる。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
図１Ａは、本開示の第１の実施の形態に係る位置検出装置の外観を表す斜視図である。
図１Ｂは、図１Ａに示した位置検出装置の断面構成例を表す断面図である。
図１Ｃは、図１Ａに示した位置検出装置を側方から眺めた第１の構成例を表す側面図である。
図１Ｄは、図１Ａに示した位置検出装置を側方から眺めた第２の構成例を表す側面図である。
図１Ｅは、図１Ａに示した位置検出装置を側方から眺めた第３の構成例を表す側面図である。
図２は、図１Ａに示した位置検出装置において、磁場発生部の移動に伴う磁場発生部に付与される磁場強度の変化を表す特性図である。
図３Ａは、第１の参考例としての位置検出装置の断面構成例を表す断面図である。
図３Ｂは、図２Ａに示した位置検出装置において、磁場発生部の移動に伴う磁場発生部に付与される磁場強度の変化を表す特性図である。
図４Ａは、第１の実施の形態に係る第１変形例としての位置検出装置の構成例を表す断面図である。
図４Ｂは、図４Ａに示した位置検出装置において、磁場発生部の移動に伴う磁場発生部に付与される磁場強度の変化を表す特性図である。
図５Ａは、第２の参考例としての位置検出装置の断面構成例を表す断面図である。
図５Ｂは、図５Ａに示した位置検出装置において、磁場発生部の移動に伴う磁場発生部に付与される磁場強度の変化を表す特性図である。
図６は、第１の実施の形態に係る第２変形例としての位置検出装置の構成例を表す断面図である。
図７Ａは、本開示の第２の実施の形態に係る位置検出装置の構成例を表す断面図である。
図７Ｂは、図７Ａに示した位置検出装置において、磁場発生部の移動に伴う磁場発生部に付与される磁場強度の変化を表す特性図である。
図８Ａは、第２の実施の形態に係る第１変形例としての位置検出装置の構成例を表す断面図である。
図８Ｂは、図８Ａに示した位置検出装置において、磁場発生部の移動に伴う磁場発生部に付与される磁場強度の変化を表す特性図である。
図９Ａは、本開示の第３の実施の形態に係る位置検出装置の構成例を表す断面図である。
図９Ｂは、図９Ａに示した位置検出装置を側方から眺めた第１の構成例を表す側面図である。
図９Ｃは、図９Ａに示した位置検出装置を側方から眺めた第２の構成例を表す側面図である。
図９Ｄは、図９Ａに示した位置検出装置を側方から眺めた第３の構成例を表す側面図である。
図１０は、図９Ａに示した位置検出装置において、磁場発生部の移動に伴う磁場発生部に付与される磁場強度の変化を表す特性図である。
図１１Ａは、本開示の第４の実施の形態に係る位置検出装置の構成例を表す断面図である。
図１１Ｂは、図１１Ａに示した位置検出装置において、磁場発生部の移動に伴う磁場発生部に付与される磁場強度の変化を表す特性図である。
図１２は、本開示の第５の実施の形態に係る位置検出装置組立体の構成例を表す概略図である。
図１３Ａは、本開示の第６の実施の形態に係る撮像装置の全体構成例を表す概略斜視図である。
図１３Ｂは、本開示の第７の実施の形態に係る撮像装置の全体構成例を表す概略斜視図である。
図１４は、本開示のその他の変形例としての位置検出装置の全体構成例を表す概略側面図である。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
以下、本発明の実施の形態について、図面を参照して詳細に説明する。なお、説明は以下の順序で行う。
１．第１の実施の形態およびその変形例
１つの部分環状ヨークと、１つの磁場発生部と、１つの磁場検出部と、１つのバイアス磁場発生部とを備えた位置検出装置の例。
２．第２の実施の形態およびその変形例
２つの切り欠きを有する部分環状ヨークと、１つの磁場発生部と、２つの磁場検出部と、１つのバイアス磁場発生部とを備えた位置検出装置の例。
３．第３の実施の形態およびその変形例
１つの切り欠きを有する部分環状ヨークと、１つの磁場発生部と、１つの磁場検出部とを有する位置検出ユニットを２つ備えた位置検出装置の例。
４．第４の実施の形態およびその変形例
２つの切り欠きを有する部分環状ヨークと、１つの磁場発生部と、２つの磁場検出部と、１つのバイアス磁場発生部とを備えた位置検出装置の他の例。
５．第５の実施の形態
位置検出装置を搭載した位置検出装置組立体の例。
６．第６の実施の形態
第１の実施の形態の位置検出装置とレンズとを備え、レンズの位置検出を行う撮像装置の第１の例。
７．第７の実施の形態
第１の実施の形態の位置検出装置とレンズとを備え、レンズの位置検出を行う撮像装置の第２の例。
８．その他の変形例
【００１０】
＜１．第１の実施の形態＞
［位置検出装置１の構成］
最初に、図１Ａ～１Ｅを参照して、本開示における第１の実施の形態としての位置検出装置１の構成について説明する。
（【００１１】以降は省略されています）

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