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公開番号2025037611
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-03-18
出願番号2023144633
出願日2023-09-06
発明の名称光学積層体の管理方法および表示システムの製造方法
出願人日東電工株式会社
代理人弁理士法人籾井特許事務所
主分類G02B 5/30 20060101AFI20250311BHJP(光学)
要約【課題】本発明は、高精細なVRゴーグル等の表示システムの製造方法の提供を主たる目的とする。
【解決手段】第1、第2の光学積層体の管理方法であって;(i)複数の前記第1の光学積層体を面内位相差の平均値が互いに異なるNa個の群に分類すること;(ii)複数の前記第2の光学積層体を面内位相差の平均値が互いに異なるNb個の群に分類すること;(iii)前記面内位相差の平均値に基づいて、前記第1a群と前記第1b群との組み合わせA、および、前記第3a群と前記第3b群との組み合わせBをマッチングすること;(iv)前記第2a群に含まれる第1の光学積層体および前記第2b群に含まれる第2の光学積層体をそれぞれ、前記組み合わせAおよび/または前記組み合わせBにおける前記第1の光学積層体の数と前記第2の光学積層体の数との差が小さくなるように、前記組み合わせAおよび/または前記組み合わせBに振り分けること;を含む。
【選択図】図6
特許請求の範囲【請求項１】
第１のλ／４部材を含む第１の光学積層体および第２のλ／４部材を含む第２の光学積層体の管理方法であって；
（ｉ）複数の前記第１の光学積層体を面内位相差の平均値が互いに異なるＮａ個の群に分類すること（ここで、前記Ｎａ個の群は、前記平均値の大きさ順に並べた際にこの順に連続する第１ａ群、第２ａ群、および第３ａ群を含み、前記第２ａ群における前記第１の光学積層体の面内位相差の最大値が、前記第１ａ群における前記第１の光学積層体の面内位相差の最大値より小さく、前記第２ａ群における前記第１の光学積層体の面内位相差の最小値が、前記第３ａ群における前記第１の光学積層体の面内位相差の最小値より大きい）；
（ｉｉ）複数の前記第２の光学積層体を面内位相差の平均値が互いに異なるＮｂ個の群に分類すること（ここで、前記Ｎｂ個の群は、前記平均値の大きさ順に並べた際にこの順に連続する第１ｂ群、第２ｂ群、および第３ｂ群を含み、前記第２ｂ群における前記第２の光学積層体の面内位相差の最大値が、前記第１ｂ群における前記第２の光学積層体の面内位相差の最大値より小さく、前記第２ｂ群における前記第２の光学積層体の面内位相差の最小値が、前記第３ｂ群における前記第２の光学積層体の面内位相差の最小値より大きい）；
（ｉｉｉ）前記面内位相差の平均値に基づいて、前記第１ａ群と前記第１ｂ群との組み合わせＡ、および、前記第３ａ群と前記第３ｂ群との組み合わせＢをマッチングすること；および
（ｉｖ）前記第２ａ群に含まれる第１の光学積層体および前記第２ｂ群に含まれる第２の光学積層体をそれぞれ、前記組み合わせＡおよび／または前記組み合わせＢにおける前記第１の光学積層体の数と前記第２の光学積層体の数との差が小さくなるように、前記組み合わせＡおよび／または前記組み合わせＢに振り分けること；
を含む、管理方法。
続きを表示（約 1,700 文字）【請求項２】
前記Ｎａ個の群の各群における前記第１の光学積層体の面内位相差のばらつきが、０．１ｎｍ～１０ｎｍである、および／または、
前記Ｎｂ個の群の各群における前記第２の光学積層体の面内位相差のばらつきが、０．１ｎｍ～１０ｎｍである、
請求項１に記載の管理方法。
【請求項３】
前記第２ａ群における前記第１の光学積層体の面内位相差の最大値が、前記第１ａ群における前記第１の光学積層体の面内位相差の最小値より大きい、および／または、
前記第２ｂ群における前記第２の光学積層体の面内位相差の最大値が、前記第１ｂ群における前記第２の光学積層体の面内位相差の最小値より大きい、
請求項１に記載の管理方法。
【請求項４】
前記第２ａ群における前記第１の光学積層体の面内位相差の最大値が、前記第１ａ群における前記第１の光学積層体の面内位相差の平均値以下である、および／または、
前記第２ｂ群における前記第２の光学積層体の面内位相差の最大値が、前記第１ｂ群における前記第２の光学積層体の面内位相差の平均値以下である、
請求項１に記載の管理方法。
【請求項５】
前記第２ａ群における前記第１の光学積層体の面内位相差の最小値が、前記第３ａ群における前記第１の光学積層体の面内位相差の最大値より小さい、および／または、
前記第２ｂ群における前記第２の光学積層体の面内位相差の最小値が、前記第３ｂ群における前記第２の光学積層体の面内位相差の最大値より小さい、
請求項１に記載の管理方法。
【請求項６】
前記第２ａ群における前記第１の光学積層体の面内位相差の最小値が、前記第３ａ群における前記第１の光学積層体の面内位相差の平均値以上である、および／または、
前記第２ｂ群における前記第２の光学積層体の面内位相差の最小値が、前記第３ｂ群における前記第２の光学積層体の面内位相差の平均値以上である、
請求項１に記載の管理方法。
【請求項７】
前記第２ａ群に含まれる前記第１の光学積層体の数が、前記第１ａ群および前記第３ａ群に含まれる前記第１の光学積層体の総数の５０％以上である、および／または、
前記第２ｂ群に含まれる前記第２の光学積層体の数が、前記第１ｂ群および前記第３ｂ群に含まれる前記第２の光学積層体の総数の５０％以上である、請求項１に記載の管理方法。
【請求項８】
前記Ｎａが、３～１０の整数である、および／または、
前記Ｎｂが、３～１０の整数である、
請求項１に記載の管理方法。
【請求項９】
前記分類前の前記複数の第１の光学積層体における面内位相差のばらつきが、１．０ｎｍ～２０ｎｍである、および／または、
前記分類前の前記複数の第２の光学積層体における面内位相差のばらつきが、１．０ｎｍ～２０ｎｍである、請求項１に記載の管理方法。
【請求項１０】
偏光部材を介して画像を表す光を前方に出射する表示面を有する表示素子と、
前記表示素子の前方に配置され、前記表示素子から出射された光を反射する反射型偏光部材と、
前記表示素子と前記反射型偏光部材との間の光路上に配置される第一レンズ部と、
前記表示素子と前記第一レンズ部との間に配置され、前記表示素子から出射された光を透過させ、前記反射型偏光部材で反射された光を前記反射型偏光部材に向けて反射させるハーフミラーと、
前記表示素子と前記ハーフミラーとの間の光路上に配置される第１のλ／４部材と、
前記ハーフミラーと前記反射型偏光部材との間の光路上に配置される第２のλ／４部材と、
を備える、ユーザに対して画像を表示する表示システムの製造方法であって；
請求項１から９のいずれかの管理方法によって同じ組み合わせに配属された前記第１の光学積層体および前記第２の光学積層体を用いて前記表示システムを製造することを含む、製造方法。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学積層体の管理方法および表示システムの製造方法に関する。
続きを表示（約 4,500 文字）【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置およびエレクトロルミネセンス（ＥＬ）表示装置（例えば、有機ＥＬ表示装置）に代表される画像表示装置が急速に普及している。画像表示装置においては、画像表示を実現し、画像表示の性能を高めるために、一般的に、偏光部材、位相差部材等の光学部材が用いられている（例えば、特許文献１を参照）。
【０００３】
近年、画像表示装置の新たな用途が開発されている。例えば、ＶｉｒｔｕａｌＲｅａｌｉｔｙ（ＶＲ）を実現するためのディスプレイ付きゴーグル（ＶＲゴーグル）が製品化され始めている。ＶＲゴーグルは様々な場面での利用が検討されていることから、高精細化等が望まれている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
特開２０２１－１０３２８６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
上記に鑑み、本発明は、高精細なＶＲゴーグル等の表示システムの製造方法の提供を主たる目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
［１］本発明の１つの局面によれば、第１のλ／４部材を含む第１の光学積層体および第２のλ／４部材を含む第２の光学積層体の管理方法であって；
（ｉ）複数の上記第１の光学積層体を面内位相差の平均値が互いに異なるＮａ個の群に分類すること（ここで、上記Ｎａ個の群は、上記平均値の大きさ順に並べた際にこの順に連続する第１ａ群、第２ａ群、および第３ａ群を含み、上記第２ａ群における上記第１の光学積層体の面内位相差の最大値が、上記第１ａ群における上記第１の光学積層体の面内位相差の最大値より小さく、上記第２ａ群における上記第１の光学積層体の面内位相差の最小値が、上記第３ａ群における上記第１の光学積層体の面内位相差の最小値より大きい）；
（ｉｉ）複数の上記第２の光学積層体を面内位相差の平均値が互いに異なるＮｂ個の群に分類すること（ここで、上記Ｎｂ個の群は、上記平均値の大きさ順に並べた際にこの順に連続する第１ｂ群、第２ｂ群、および第３ｂ群を含み、上記第２ｂ群における上記第２の光学積層体の面内位相差の最大値が、上記第１ｂ群における上記第２の光学積層体の面内位相差の最大値より小さく、上記第２ｂ群における上記第２の光学積層体の面内位相差の最小値が、上記第３ｂ群における上記第２の光学積層体の面内位相差の最小値より大きい）；
（ｉｉｉ）上記面内位相差の平均値に基づいて、上記第１ａ群と上記第１ｂ群との組み合わせＡ、および、上記第３ａ群と上記第３ｂ群との組み合わせＢをマッチングすること；および
（ｉｖ）上記第２ａ群に含まれる第１の光学積層体および上記第２ｂ群に含まれる第２の光学積層体をそれぞれ、上記組み合わせＡおよび／または上記組み合わせＢにおける上記第１の光学積層体の数と上記第２の光学積層体の数との差が小さくなるように、上記組み合わせＡおよび／または上記組み合わせＢに振り分けること；
を含む、管理方法が提供される。
［２］上記［１］に記載の管理方法において、上記Ｎａ個の群の各群における上記第１の光学積層体の面内位相差のばらつきが、０．１ｎｍ～１０ｎｍであってよく、および／または、上記Ｎｂ個の群の各群における上記第２の光学積層体の面内位相差のばらつきが、０．１ｎｍ～１０ｎｍであってよい。
［３］上記［１］または［２］に記載の管理方法において、上記第２ａ群における上記第１の光学積層体の面内位相差の最大値が、上記第１ａ群における上記第１の光学積層体の面内位相差の最小値より大きくてよく、および／または、上記第２ｂ群における上記第２の光学積層体の面内位相差の最大値が、上記第１ｂ群における上記第２の光学積層体の面内位相差の最小値より大きくてよい。
［４］上記［１］から［３］のいずれかに記載の管理方法において、上記第２ａ群における上記第１の光学積層体の面内位相差の最大値が、上記第１ａ群における上記第１の光学積層体の面内位相差の平均値以下であってよく、および／または、上記第２ｂ群における上記第２の光学積層体の面内位相差の最大値が、上記第１ｂ群における上記第２の光学積層体の面内位相差の平均値以下であってよい。
［５］上記［１］から［４］のいずれかに記載の管理方法において、上記第２ａ群における上記第１の光学積層体の面内位相差の最小値が、上記第３ａ群における上記第１の光学積層体の面内位相差の最大値より小さくてよく、および／または、上記第２ｂ群における上記第２の光学積層体の面内位相差の最小値が、上記第３ｂ群における上記第２の光学積層体の面内位相差の最大値より小さくてよい。
［６］上記［１］から［５］のいずれかに記載の管理方法において、上記第２ａ群における上記第１の光学積層体の面内位相差の最小値が、上記第３ａ群における上記第１の光学積層体の面内位相差の平均値以上であってよく、および／または、上記第２ｂ群における上記第２の光学積層体の面内位相差の最小値が、上記第３ｂ群における上記第２の光学積層体の面内位相差の平均値以上であってよい。
［７］上記［１］から［６］のいずれかに記載の管理方法において、上記第２ａ群に含まれる上記第１の光学積層体の数が、上記第１ａ群および上記第３ａ群に含まれる上記第１の光学積層体の総数の５０％以上であってよく、および／または、上記第２ｂ群に含まれる上記第２の光学積層体の数が、上記第１ｂ群および上記第３ｂ群に含まれる上記第２の光学積層体の総数の５０％以上であってよい。
［８］上記［１］から［７］のいずれかに記載の管理方法において、上記Ｎａが、３～１０の整数であってよく、および／または、上記Ｎｂが、３～１０の整数であってよい。
［９］上記［１］から［８］のいずれかに記載の管理方法において、上記分類前の上記複数の第１の光学積層体における面内位相差のばらつきが、１．０ｎｍ～２０ｎｍであってよく、および／または、上記分類前の上記複数の第２の光学積層体における面内位相差のばらつきが、１．０ｎｍ～２０ｎｍであってよい。
［１０］本発明の別の局面によれば、偏光部材を介して画像を表す光を前方に出射する表示面を有する表示素子と、上記表示素子の前方に配置され、上記表示素子から出射された光を反射する反射型偏光部材と、上記表示素子と上記反射型偏光部材との間の光路上に配置される第一レンズ部と、上記表示素子と上記第一レンズ部との間に配置され、上記表示素子から出射された光を透過させ、上記反射型偏光部材で反射された光を上記反射型偏光部材に向けて反射させるハーフミラーと、上記表示素子と上記ハーフミラーとの間の光路上に配置される第１のλ／４部材と、上記ハーフミラーと上記反射型偏光部材との間の光路上に配置される第２のλ／４部材と、を備える、ユーザに対して画像を表示する表示システムの製造方法であって；上記［１］から［９］のいずれかの管理方法によって同じ組み合わせに配属された上記第１の光学積層体および上記第２の光学積層体を用いて上記表示システムを製造することを含む、製造方法が提供される。
【発明の効果】
【０００７】
本発明の実施形態による光学積層体の管理方法および表示システムの製造方法によれば、高精細なＶＲゴーグル等の表示システムを効率的に製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
本発明の１つの実施形態に係る表示システムの概略の構成を示す模式図である。
第１ａ群、第２ａ群、および第３ａ群における第１の光学積層体の面内位相差のばらつきの一例を説明する概略図である。
（ａ）～（ｃ）はそれぞれ、第１ａ群、第２ａ群、および第３ａ群における第１の光学積層体の面内位相差のばらつきの一例を説明する概略図である。
第１ｂ群、第２ｂ群、および第３ｂ群における第２の光学積層体の面内位相差のばらつきの一例を説明する概略図である。
ステップｉｉｉの一例を説明する概略図である。
ステップｉｖの一例を説明する概略図である。
ステップｉｖの一例を説明する概略図である。
ステップｉｖの一例を説明する概略図である。
第１の光学積層体の構成の一例を示す概略断面図である。
第２の光学積層体の構成の一例を示す概略断面図である。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
以下、図面を参照して本発明の実施形態について説明するが、本発明はこれらの実施形態には限定されない。図面は説明をより明確にするため、実施の形態に比べ、各部の幅、厚み、形状等について模式的に表される場合があるが、あくまで一例であって、本発明の解釈を限定するものではない。
【００１０】
（用語および記号の定義）
本明細書における用語および記号の定義は下記の通りである。
（１）屈折率（ｎｘ、ｎｙ、ｎｚ）
「ｎｘ」は面内の屈折率が最大になる方向（すなわち、遅相軸方向）の屈折率であり、「ｎｙ」は面内で遅相軸と直交する方向（すなわち、進相軸方向）の屈折率であり、「ｎｚ」は厚み方向の屈折率である。
（２）面内位相差（Ｒｅ）
「Ｒｅ（λ）」は、２３℃における波長λｎｍの光で測定した面内位相差である。例えば、「Ｒｅ（５５０）」は、２３℃における波長５５０ｎｍの光で測定した面内位相差である。Ｒｅ（λ）は、層（フィルム）の厚みをｄ（ｎｍ）としたとき、式：Ｒｅ（λ）＝（ｎｘ－ｎｙ）×ｄによって求められる。
（３）厚み方向の位相差（Ｒｔｈ）
「Ｒｔｈ（λ）」は、２３℃における波長λｎｍの光で測定した厚み方向の位相差である。例えば、「Ｒｔｈ（５５０）」は、２３℃における波長５５０ｎｍの光で測定した厚み方向の位相差である。Ｒｔｈ（λ）は、層（フィルム）の厚みをｄ（ｎｍ）としたとき、式：Ｒｔｈ（λ）＝（ｎｘ－ｎｚ）×ｄによって求められる。
（４）Ｎｚ係数
Ｎｚ係数は、Ｎｚ＝Ｒｔｈ／Ｒｅによって求められる。
（５）角度
本明細書において角度に言及するときは、特段の言及がない限り、当該角度は基準方向に対して時計回りおよび反時計回りの両方を包含する。したがって、例えば「４５°」は±４５°を意味する。また、本明細書において、「略平行」は、０°±１０°の範囲を包含し、好ましくは０°±５°の範囲内である。「略直交」は、９０°±１０°の範囲を包含し、好ましくは９０°±５°の範囲内である。
（【００１１】以降は省略されています）

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