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公開番号2025029954
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-03-07
出願番号2023134878
出願日2023-08-22
発明の名称電気光学装置および電子機器
出願人セイコーエプソン株式会社
代理人弁理士法人旺知国際特許事務所
主分類G02F 1/1335 20060101AFI20250228BHJP(光学)
要約【課題】光学特性の悪化を抑制することができる電気光学装置、および電子機器を提供すること。
【解決手段】電気光学装置は、複数の画素を有する表示領域と、表示領域の外側に位置する周辺領域とを含む電気光学装置であって、第1基板と、第2基板と、第1基板と第2基板との間に配置され、電界に応じて光学的特性が変化する電気光学層と、を備え、第1基板または第2基板は、基板と、基板と電気光学層との間に配置されるレンズ層と、を備え、レンズ層は、表示領域に設けられ、複数の画素に対応して配置される複数の第1レンズと、周辺領域に設けられ、複数の第1レンズの各平面積とは異なる平面積の複数の第2レンズと、を備える。
【選択図】図5
特許請求の範囲【請求項１】
複数の画素を有する表示領域と、前記表示領域の外側に位置する周辺領域とを含む電気光学装置であって、
第１基板と、第２基板と、前記第１基板と前記第２基板との間に配置され、電界に応じて光学的特性が変化する電気光学層と、を備え、
前記第１基板または前記第２基板は、
基板と、
前記基板と前記電気光学層との間に配置されるレンズ層と、を備え、
前記レンズ層は、
前記表示領域に設けられ、複数の画素に対応して配置される複数の第１レンズと、
前記周辺領域に設けられ、前記複数の第１レンズの各平面積とは異なる平面積の複数の第２レンズと、を備える、
ことを特徴とする電気光学装置。
続きを表示（約 1,000 文字）【請求項２】
前記複数の第２レンズの各平面積は、前記複数の第１レンズの各平面積よりも小さい、
請求項１に記載の電気光学装置。
【請求項３】
前記複数の第２レンズのピッチは、前記複数の第１レンズのピッチと等しい、
請求項２に記載の電気光学装置。
【請求項４】
前記複数の第２レンズの各平面積は、前記複数の第１レンズの各平面積よりも大きい、
請求項１に記載の電気光学装置。
【請求項５】
前記周辺領域に設けられ、前記複数の第１レンズの高さ以上であって、表面が平坦な絶縁部を、さらに備える、
請求項１から４のいずれか１項に記載の電気光学装置。
【請求項６】
複数の画素を有する表示領域と、前記表示領域の外側に位置する周辺領域とを含む電気光学装置であり、
第１基板と、第２基板と、前記第１基板と前記第２基板との間に配置され、電界に応じて光学的特性が変化する電気光学層と、を備え、
前記第１基板または前記第２基板は、
基板と、
前記基板と前記電気光学層との間に配置されるレンズ層と、を備え、
前記レンズ層は、
前記表示領域に設けられ、複数の画素に対応して配置される複数の第１レンズと、
前記周辺領域に設けられ、前記複数の第１レンズの高さ以上であって、表面が平坦な絶縁部と、を備える、
ことを特徴とする電気光学装置。
【請求項７】
前記表示領域に設けられ、前記複数の第１レンズに対応する複数の画素電極と、
前記複数の画素電極と前記複数の第１レンズとを接続する複数のコンタクトと、をさらに備え、
前記複数のコンタクトは、前記レンズ層を貫通する、
請求項１または６に記載の電気光学装置。
【請求項８】
前記複数のコンタクトのそれぞれは、タングステンを含む、
請求項７に記載の電気光学装置。
【請求項９】
前記複数の画素に対応する複数の画素電極と、
前記複数の画素電極と同層に設けられる電極と、
前記周辺領域に設けられ、前記複数の第１レンズの各平面積と等しい平面積を有する複数の第３レンズと、をさらに備える、
請求項１または６に記載の電気光学装置。
【請求項１０】
請求項１または６に記載の電気光学装置と、
前記電気光学装置の動作を制御する制御部と、を有することを特徴とする電子機器。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、電気光学装置および電子機器に関する。
続きを表示（約 2,400 文字）【背景技術】
【０００２】
プロジェクター等の電子機器には、例えば、画素ごとに光学的特性を変更可能な液晶表示装置等の電気光学装置が用いられる。当該電気光学装置の例として、特許文献１に記載の電気光学装置が知られている。
【０００３】
特許文献１に記載の電気光学装置は、複数の画素が配列された表示領域と、表示領域の外側に位置する見切り領域と、を有する。また、当該電気光学装置は、素子基板と、素子基板に対向する対向基板と、これら基板間に配置される液晶層と、を備える。また、対向基板は、レンズ層を有する。レンズ層のうちの表示領域の部分には、略楕円球面上の凸部である複数のレンズが設けられる。レンズ層のうちの見切り領域の部分には、当該凸部よりも高さの低い平坦部が設けられる。かかるレンズ層は、パターニングされたレジスト層を保護膜としてドライエッチングにより形成される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
特開２０１６－１５１７３５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ドライエッチングでは、レジスト層の平面積によってエッチングレートが変動する。このため、エッチングレートを調整するためには、使用するエッチングガスの流量調整が必要である。しかし、エッチングガスの流量調整だけでは、目的とする形状のレンズを形成すること、および複数のレンズの形状の均一化を図ることが難しい。また、エッチングガスの流量によっては、レンズの形状が悪化するおそれがある。目的とするレンズ形状が形成された場合、透過率またはコントラスト等の光学特性が悪化するおそれがある。よって、電気光学装置の品質が低下するおそれがある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の電気光学装置の一態様は、複数の画素を有する表示領域と、前記表示領域の外側に位置する周辺領域とを含む電気光学装置であって、第１基板と、第２基板と、前記第１基板と前記第２基板との間に配置され、電界に応じて光学的特性が変化する電気光学層と、を備え、前記第１基板または前記第２基板は、基板と、前記基板と前記電気光学層との間に配置されるレンズ層と、を備え、前記レンズ層は、前記表示領域に設けられ、複数の画素に対応して配置される複数の第１レンズと、前記周辺領域に設けられ、前記複数の第１レンズの各平面積とは異なる平面積の複数の第２レンズと、を備える。
【０００７】
本発明の電気光学装置の一態様は、複数の画素を有する表示領域と、前記表示領域の外側に位置する周辺領域とを含む電気光学装置であり、第１基板と、第２基板と、前記第１基板と前記第２基板との間に配置され、電界に応じて光学的特性が変化する電気光学層と、を備え、前記第１基板または前記第２基板は、基板と、前記基板と前記電気光学層との間に配置されるレンズ層と、を備え、前記レンズ層は、前記表示領域に設けられ、複数の画素に対応して配置される複数の第１レンズと、前記周辺領域に設けられ、前記複数の第１レンズの高さ以上であって、表面が平坦な絶縁部と、を備える。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
第１実施形態に係る電気光学装置の平面図である。
図１に示す電気光学装置のＡ－Ａ線の断面図である。
図１の第１基板の電気的な構成を示す等価回路図である。
図２の第１基板の平面図である。
図４のＡ１―Ａ１線の断面図である。
図５に示すレンズ層の平面図である。
図４のＡ２―Ａ２線の断面図である。
図６に示すレンズ層の平面図である。
図５に示すレンズ層の製造方法を説明するための断面図である。
図７に示すレンズ層の製造方法を説明するための断面図である。
第１比較例のレンズ層の製造方法を説明するための断面図である。
第２比較例のレンズ層の製造方法を説明するための断面図である。
第２実施形態のレンズ層を示す断面図である。
図１３に示すレンズ層の平面図である。
図１３に示すレンズ層の製造方法を説明するための断面図である。
第３実施形態のレンズ層を示す断面図である。
図１６に示すレンズ層の製造方法を説明するための断面図である。
電子機器の一例であるパーソナルコンピューターを示す斜視図である。
電子機器の一例であるスマートフォンを示す平面図である。
電子機器の一例であるプロジェクターを示す模式図である。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
以下、添付図面を参照しながら本発明に係る好適な実施形態を説明する。なお、図面において各部の寸法、縮尺または配置は実際と適宜に異なり、理解を容易にするために模式的に示す部分もある。また、本発明の範囲は、以下の説明において特に本発明を限定する旨の記載がない限り、これらの形態に限られない。
【００１０】
１．電気光学装置
１Ａ．第１実施形態
１Ａ－１．基本構成
図１は、第１実施形態に係る電気光学装置１００の平面図である。図２は、図１に示す電気光学装置１００のＡ－Ａ線の断面図である。以下では、説明の便宜上、互いに直交するＸ軸、Ｙ軸およびＺ軸を適宜用いて説明する。また、Ｘ軸に沿う一方向をＸ１方向と表記し、Ｘ１方向とは反対の方向をＸ２方向と表記する。同様に、Ｙ軸に沿う一方向をＹ１方向と表記し、Ｙ１方向とは反対の方向をＹ２方向と表記する。Ｚ軸に沿う一方向をＺ１方向と表記し、Ｚ１方向とは反対の方向をＺ２方向と表記する。
（【００１１】以降は省略されています）

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