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公開番号2025028471
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-03-03
出願番号2023133306
出願日2023-08-18
発明の名称ガラス基板及びその製造方法
出願人日本電気硝子株式会社
代理人弁理士法人大阪フロント特許事務所
主分類C03C 19/00 20060101AFI20250221BHJP(ガラス;鉱物またはスラグウール)
要約【課題】表面の触り心地や、ペンによる書き心地を効果的に向上させ得る、ガラス基板を提供する。
【解決手段】第1の主面1aに凹凸部2と、凹凸部2を設けるための加工がなされていない非加工部3とを有する、ガラス基板1であって、凹凸部2は、74μm×55μmの領域において、高域フィルタλcのカットオフ値を14μmとし、低域フィルタλsのカットオフ値を0.35μmとしたときに、算術平均高さSaが、1nm以上、100nm以下であり、凹凸部2は、Al、Zr、及びSiからなる群から選択される少なくとも1種の成分を含有し、凹凸部2の任意の100μm四方の範囲におけるAl、Zr、及びSiの合計の質量割合と、非加工部3の任意の100μm四方の範囲におけるAl、Zr、及びSiの合計の質量割合との差が、0.1質量%以上である、ガラス基板1。
【選択図】図1
特許請求の範囲【請求項１】
表面に凹凸部と、前記凹凸部を設けるための加工がなされていない非加工部とを有する、ガラス基板であって、
前記凹凸部は、７４μｍ×５５μｍの領域において、高域フィルタλｃのカットオフ値を１４μｍとし、低域フィルタλｓのカットオフ値を０．３５μｍとしたときに、算術平均高さＳａが、１ｎｍ以上、１００ｎｍ以下であり、
前記凹凸部は、Ａｌ、Ｚｒ、及びＳｉからなる群から選択される少なくとも１種の成分を含有し、
前記凹凸部の任意の１００μｍ四方の範囲におけるＡｌ、Ｚｒ、及びＳｉの合計の質量割合と、前記非加工部の任意の１００μｍ四方の範囲におけるＡｌ、Ｚｒ、及びＳｉの合計の質量割合との差が、０．１質量％以上である、ガラス基板。
続きを表示（約 1,000 文字）【請求項２】
表面に凹凸部と、前記凹凸部を設けるための加工がなされていない非加工部とを有する、ガラス基板であって、
前記凹凸部は、７４μｍ×５５μｍの領域において、高域フィルタλｃのカットオフ値を１４μｍとし、低域フィルタλｓのカットオフ値を０．３５μｍとしたときに、算術平均高さＳａが、１ｎｍ以上、１００ｎｍ以下であり、
前記凹凸部に、Ａｌ、Ｚｒ、及びＳｉのうち少なくとも１種を含む粒子が複合化されている、ガラス基板。
【請求項３】
前記ガラス基板の一方側主面に、前記凹凸部と、前記非加工部との双方が設けられている、請求項１又は２に記載のガラス基板。
【請求項４】
前記ガラス基板が、対向している第１の主面及び第２の主面を有し、
前記ガラス基板の前記第１の主面に、前記凹凸部が設けられており、
前記ガラス基板の前記第２の主面に、前記非加工部が設けられている、請求項３に記載のガラス基板。
【請求項５】
前記凹凸部の任意の１００μｍ四方の範囲におけるＡｌ、Ｚｒ、及びＳｉの合計の質量割合と、前記非加工部の任意の１００μｍ四方の範囲におけるＡｌ、Ｚｒ、及びＳｉの合計の質量割合との差が、１０質量％以下である、請求項１又は２に記載のガラス基板。
【請求項６】
前記ガラス基板が、シリケート系ガラスにより構成されている、請求項１又は２に記載のガラス基板。
【請求項７】
前記粒子が、酸化アルミニウム、窒化アルミニウム、炭化アルミニウム、ケイ酸アルミニウム、酸化ジルコニウム、イットリア安定化ジルコニア、ジルコン、酸化ケイ素、及び窒化ケイ素からなる群から選択される少なくとも１種の粒子である、請求項２に記載のガラス基板。
【請求項８】
前記粒子の平均粒子径が、０．１μｍ以上、１０μｍ以下である、請求項２に記載のガラス基板。
【請求項９】
前記粒子の純度が、９０％以上である、請求項２に記載のガラス基板。
【請求項１０】
請求項１又は２に記載のガラス基板の製造方法であって、
元ガラス基板を準備する工程と、
前記元ガラス基板にブラスト処理を施す工程と、
を備え、
前記ブラスト処理時の処理圧力が、０．１ＭＰａ以上、３．０ＭＰａ以下である、ガラス基板の製造方法。
（【請求項１１】以降は省略されています）
発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、表面に凹凸部を有する、ガラス基板及び該ガラス基板の製造方法に関する。
続きを表示（約 1,500 文字）【背景技術】
【０００２】
近年、電子機器のディスプレイや、筐体、あるいは扉体等に用いられるガラス基板では、表面に凹凸を付与することにより、表面の触り心地や、ペンによる書き心地を向上させる試みがなされている。
【０００３】
例えば、下記の特許文献１には、ペン入力装置におけるディスプレイ装置の前面側に配置されるペン入力装置用ガラス基板が開示されている。特許文献１には、上記ガラス基板が、少なくとも一方の主面に凹凸を有し、凹凸を有する主面における、粗さ曲線の最大谷深さＲｖが１０ｎｍ以上かつ４００ｎｍ以下であり、粗さ曲線の平均長さＲＳｍが５００ｎｍ以上かつ２０００ｎｍ以下であることが記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
特開２０１８－２０９４２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ところで、ガラス基板の表面の触り心地や、ガラス基板の表面に文字を入力する際の書き心地等の趣向は、人や用途によってそれぞれ異なる。例えば、ガラス基板に触れる際には、ガラス基板の表面に強いひっかかりがある方が好ましい場合がある。また、ガラス基板の表面にペンで入力する際には、強い（摩擦の強弱がダイレクトに伝わる）書き心地の方が好ましい場合がある。しかしながら、特許文献１のような凹凸は、比較的さらさら感が強く、ガラス基板の表面の触り心地や、ペンによる書き心地を十分に向上させることが難しい場合がある。
【０００６】
本発明の目的は、表面の触り心地や、ペンによる書き心地を効果的に向上させ得る、ガラス基板及び該ガラス基板の製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記課題を解決するガラス基板及び該ガラス基板の製造方法の各態様について説明する。
【０００８】
本発明の態様１に係るガラス基板は、表面に凹凸部と、前記凹凸部を設けるための加工がなされていない非加工部とを有する、ガラス基板であって、前記凹凸部は、７４μｍ×５５μｍの領域において、高域フィルタλｃのカットオフ値を１４μｍとし、低域フィルタλｓのカットオフ値を０．３５μｍとしたときに、算術平均高さＳａが、１ｎｍ以上、１００ｎｍ以下であり、前記凹凸部は、Ａｌ、Ｚｒ、及びＳｉからなる群から選択される少なくとも１種の成分を含有し、前記凹凸部の任意の１００μｍ四方の範囲におけるＡｌ、Ｚｒ、及びＳｉの合計の質量割合と、前記非加工部の任意の１００μｍ四方の範囲におけるＡｌ、Ｚｒ、及びＳｉの合計の質量割合との差が、０．１質量％以上であることを特徴としている。
【０００９】
本発明の態様２に係るガラス基板は、表面に凹凸部と、前記凹凸部を設けるための加工がなされていない非加工部とを有する、ガラス基板であって、前記凹凸部は、７４μｍ×５５μｍの領域において、高域フィルタλｃのカットオフ値を１４μｍとし、低域フィルタλｓのカットオフ値を０．３５μｍとしたときに、算術平均高さＳａが、１ｎｍ以上、１００ｎｍ以下であり、前記凹凸部に、Ａｌ、Ｚｒ、及びＳｉのうち少なくとも１種を含む粒子が複合化されていることを特徴としている。
【００１０】
態様３のガラス基板では、態様１又は態様２において、前記ガラス基板の一方側主面に、前記凹凸部と、前記非加工部との双方が設けられていてもよい。
（【００１１】以降は省略されています）

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