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公開番号2025009462
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-01-20
出願番号2023112483
出願日2023-07-07
発明の名称積層体、化粧材、転写シート及び積層体の製造方法
出願人大日本印刷株式会社
代理人個人,個人,個人
主分類B32B 3/30 20060101AFI20250110BHJP(積層体)
要約【課題】手で触れることにより知覚できる凹部を有しながらも全体として滑らかな触感を有する艶消物品を提供する。
【解決手段】積層体20は、第1面20a及び第2面20bを含み、第2面から第1面に向けてベース層30及び艶消層40をこの順に備え、艶消層は、第1面を構成するシワ構造45を有し、ベース層は、艶消層を向く面に凹部32を有し、凹部と重なる位置における第1面に表面凹部49が形成され、第1面は、表面凹部が位置する第1領域A1と、表面凹部が位置しない第2領域A2とを含み、第1領域A1における、JIS B0601:2013に規定される平均長さRSmの値をRSm1とし、第2領域A2における平均長さの値をRSm2としたときに、RSm1のRSm2に対する比(RSm1/RSm2)の値の最大値およびRSm2のRSm1に対する比(RSm2/RSm1)の値の最大値は1.5以下である。
【選択図】図1
特許請求の範囲【請求項１】
第１面及び第２面を含み、前記第２面から前記第１面に向けてベース層及び艶消層をこの順に備えた積層体であって、
前記艶消層は、前記第１面を構成するシワ構造を有し、
前記ベース層は、前記艶消層を向く面に凹部を有し、
前記凹部と重なる位置における前記第１面に表面凹部が形成され、
前記第１面は、前記表面凹部が位置する第１領域と、前記表面凹部が位置しない第２領域とを含み、
前記第１領域における、ＪＩＳＢ０６０１：２０１３に規定される平均長さＲＳｍの値をＲＳｍ１とし、前記第２領域における、ＪＩＳＢ０６０１：２０１３に規定される平均長さＲＳｍの値をＲＳｍ２としたときに、
ＲＳｍ１のＲＳｍ２に対する比（ＲＳｍ１／ＲＳｍ２）の値の最大値およびＲＳｍ２のＲＳｍ１に対する比（ＲＳｍ２／ＲＳｍ１）の値の最大値は１．５以下である、積層体。
続きを表示（約 870 文字）【請求項２】
前記第１領域と前記第２領域の高低差が１０μｍ以上である、請求項１に記載の積層体。
【請求項３】
１０ｍｍの間隔をあけて一直線上に並ぶ２０の測定位置にて測定された、ＪＩＳＺ８７４１：１９９７に規定される６０°鏡面光沢度の２０の測定値のうちの、最も大きい方から５つの測定値及び最も小さい方から５つの測定値を除いた１０の測定値の標準偏差は０．５以下である、請求項１に記載の積層体。
【請求項４】
絵柄を有する絵柄層を更に備え、
前記第１領域及び前記第２領域は、前記絵柄に応じて配置される、請求項１に記載の積層体。
【請求項５】
請求項１～４のいずれか一項に記載の積層体と、
前記積層体と積層された支持材と、を備える、化粧材。
【請求項６】
前記支持材は建築材である、請求項５に記載の化粧材。
【請求項７】
請求項１～４のいずれか一項に記載の積層体と、
前記積層体と積層された成形樹脂部と、を備える、化粧材。
【請求項８】
請求項１～３のいずれか一項に記載の積層体と、
電離放射線硬化型樹脂の硬化物を含む硬化樹脂層と、を備え、
前記硬化樹脂層は、前記第１面に接触してシワ構造を有する、転写シート。
【請求項９】
絵柄を有する絵柄層を更に備え、
前記硬化樹脂層は、前記絵柄層及び前記積層体の間に位置する、請求項８に記載の転写シート。
【請求項１０】
凹部を有する第１面を有するベース層と、前記第１面と対面して配置された艶消層とを備えた積層体の製造方法であって、
前記凹部を覆うように前記ベース層に前記艶消層を積層する工程であって、前記凹部と重なる位置における前記ベース層と反対に位置する面に表面凹部が形成される工程と、
前記艶消層に、１００ｎｍ以上３８０ｎｍ以下の波長を有する光を照射する工程と、を備える、積層体の製造方法。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本開示は、積層体、化粧材、転写シート及び積層体の製造方法に関する。
続きを表示（約 1,700 文字）【背景技術】
【０００２】
艶消物品を作製する方法として、エキシマ光等の光を用いて樹脂の表面にシワ構造を有する凹凸面を形成する方法が提案されている。このような凹凸面の製造方法の一例が、特許文献１に開示されている。特許文献１では、まず、光硬化性を有する樹脂からなる塗膜の表面にエキシマ光を照射する。その後、当該塗膜に紫外線を照射して塗膜の全体を硬化させる。これにより、塗膜の表面にシワ構造が形成される。特許文献１では、このようにして形成されたシワ構造により、低光沢性を有する塗膜が得られる。また、表面にこのような凹凸面を有する艶消物品は、滑らかな触感を提供する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
特開２０２１－２４１０２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
人が触れることができる箇所で用いられる艶消物品では、手で触れることにより知覚できる凹部を当該艶消物品に形成したいというニーズがある。このような艶消物品では、凹部の存在により所望の触感を提供できる。艶消剤を用いて艶消しされた従来の艶消物品は、全体的に荒い触感を有している。すなわち、従来の艶消物品では、凹部により所望の触感を提供できたとしても、滑らかな触感を提供することはできない。
【０００５】
エキシマ光等の光を用いて表面にシワ構造が形成された艶消物品に凹部を形成することも考えられる。しかし、シワ構造を有する表面にエンボスなどの手法により凹部を形成すると、シワ構造が潰れるおそれがある。この場合、シワ構造が潰れた部分の艶消効果が低減する。これにより、所望の意匠が得られなくなる。したがって、表面に手で触れることにより知覚できる凹部を形成しながらも、全体として滑らかな触感を有する艶消物品を作製することは困難である。
【０００６】
本開示の実施形態は、手で触れることにより知覚できる凹部を有しながらも全体として滑らかな触感を有する艶消物品を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本開示の一実施形態による積層体は、
［１］第１面及び第２面を含み、前記第２面から前記第１面に向けてベース層及び艶消層をこの順に備えた積層体であって、
前記艶消層は、前記第１面を構成するシワ構造を有し、
前記ベース層は、前記艶消層を向く面に凹部を有し、
前記凹部と重なる位置における前記第１面に表面凹部が形成され、
前記第１面は、前記表面凹部が位置する第１領域と、前記表面凹部が位置しない第２領域とを含み、
前記第１領域における、ＪＩＳＢ０６０１：２０１３に規定される平均長さＲＳｍの値をＲＳｍ１とし、前記第２領域における、ＪＩＳＢ０６０１：２０１３に規定される平均長さＲＳｍの値をＲＳｍ２としたときに、
ＲＳｍ１のＲＳｍ２に対する比（ＲＳｍ１／ＲＳｍ２）の値の最大値およびＲＳｍ２のＲＳｍ１に対する比（ＲＳｍ２／ＲＳｍ１）の値の最大値は１．５以下である、積層体、である。
【０００８】
本開示の一実施形態による積層体は、
［２］前記第１領域と前記第２領域の高低差が１０μｍ以上である、［１］に記載の積層体、である。
【０００９】
本開示の一実施形態による積層体は、
［３］１０ｍｍの間隔をあけて一直線上に並ぶ２０の測定位置にて測定された、ＪＩＳＺ８７４１：１９９７に規定される６０°鏡面光沢度の２０の測定値のうちの、最も大きい方から５つの測定値及び最も小さい方から５つの測定値を除いた１０の測定値の標準偏差は０．５以下である、［１］又は［２］に記載の積層体、である。
【００１０】
本開示の一実施形態による積層体は、
［４］絵柄を有する絵柄層を更に備え、
前記第１領域及び前記第２領域は、前記絵柄に応じて配置される、［１］～［３］のいずれか１つに記載の積層体、である。
（【００１１】以降は省略されています）

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