TOP特許意匠商標
特許ウォッチ Twitter
公開番号2024137076
公報種別公開特許公報(A)
公開日2024-10-07
出願番号2023048444
出願日2023-03-24
発明の名称R-T-B系永久磁石の製造方法
出願人TDK株式会社
代理人個人,個人,個人
主分類H01F 41/02 20060101AFI20240927BHJP(基本的電気素子)
要約【課題】本開示は、結晶配向度が高く、残留炭素量が低いR-T-B系永久磁石を得ることができるR-T-B系永久磁石の製造方法を提供する。
【解決手段】希土類元素R、遷移金属元素T及びBを含有するR-T-B系永久磁石の製造方法であって、R-T-B系永久磁石用の原料合金を準備する準備工程と、原料合金を粉砕して合金粉末を得る粉砕工程と、合金粉末を成形して成形体を得る成形工程と、成形体を焼結させる焼結工程と、を備える。粉砕工程において、潤滑剤が、原料合金、及び合金粉末のうち少なくともいずれかへ添加され、潤滑剤は、下記式(1)で示される化合物(但し、イソブチルアミドを除く)を含む。
<com:Image com:imageContentCategory="Drawing"> <com:ImageFormatCategory>TIFF</com:ImageFormatCategory> <com:FileName>2024137076000006.tif</com:FileName> <com:HeightMeasure com:measureUnitCode="Mm">25</com:HeightMeasure> <com:WidthMeasure com:measureUnitCode="Mm">149</com:WidthMeasure> </com:Image>
R1は極性を有する官能基、R2は水素原子、ベンゼン環を有する炭化水素基、アルキル基、アルケニル基又はアルキニル基、R3及びR4は夫々独立に、ベンゼン環を有する炭化水素基、アルキル基、アルケニル基又はアルキニル基を表す。
【選択図】なし
特許請求の範囲【請求項1】
希土類元素R、遷移金属元素T及びBを含有するR-T-B系永久磁石の製造方法であって、
R-T-B系永久磁石用の原料合金を準備する準備工程と、
前記原料合金を粉砕して合金粉末を得る粉砕工程と、
前記合金粉末を成形して成形体を得る成形工程と、
前記成形体を焼結させる焼結工程と、
を備え、
前記粉砕工程において、潤滑剤が、前記原料合金、及び前記合金粉末のうち少なくともいずれかへ添加され、
前記潤滑剤は、下記一般式(1)で示される化合物(但し、イソブチルアミドを除く)を含む、R-T-B系永久磁石の製造方法。
TIFF
2024137076000005.tif
25
149
[式(1)中、R

は、極性を有する官能基を表し、R

は、水素原子、ベンゼン環を有する炭化水素基、アルキル基、アルケニル基又はアルキニル基を表し、R

及びR

は、それぞれ独立に、ベンゼン環を有する炭化水素基、アルキル基、アルケニル基又はアルキニル基を表す。]
続きを表示(約 780 文字)【請求項2】
前記一般式(1)におけるR

が、アミド基、カルボキシル基、ヒドロキシ基、アミノ基又はアセチル基である、請求項1に記載のR-T-B系永久磁石の製造方法。
【請求項3】
前記一般式(1)で示される化合物の炭素数が、5以上である、請求項1又は2に記載のR-T-B系永久磁石の製造方法。
【請求項4】
前記一般式(1)におけるR

が、ベンゼン環を有する炭化水素基、アルキル基、アルケニル基又はアルキニル基である、請求項1又は2に記載のR-T-B系永久磁石の製造方法。
【請求項5】
前記粉砕工程における前記潤滑剤の添加量が、前記原料合金の全量を基準として、0.1質量%以上である、請求項1又は2に記載のR-T-B系永久磁石の製造方法。
【請求項6】
前記一般式(1)で示される化合物が、ピバル酸アミド、イソ酪酸、2-エチルブタンアミド、2,2-ジエチルブタンアミド、ピバル酸、2-エチル-1-ブタノール、2,2-ジエチル-1-ブタノール、2-エチル-1-ブタンアミン、2,2-ジエチル-1-ブタンアミン、3-メチル-2-ブタノン、3,3-ジメチル-2-ブタノン、2,2-ジメチル-4-ペンテンアミド及び2-ヘキシル-4-ペンチン酸からなる群から選ばれる少なくとも一種である、請求項1又は2に記載のR-T-B系永久磁石の製造方法。
【請求項7】
前記粉砕工程が、前記原料合金を粉砕する第一の粉砕工程と、前記第一の粉砕工程によって得られた前記合金粉末を更に粉砕する第二の粉砕工程と、を含み、
前記第二の粉砕工程において、前記潤滑剤が前記合金粉末へ添加される、請求項1又は2に記載のR-T-B系永久磁石の製造方法。

発明の詳細な説明【技術分野】
【0001】
本開示は、R-T-B系永久磁石の製造方法に関する。
続きを表示(約 2,400 文字)【背景技術】
【0002】
希土類元素R、遷移金属元素T、及びホウ素Bを含有するR-T-B系永久磁石は、優れた磁気特性を有する磁石として広く使用されており、自動車用や産業機械用モーターの小型化及び高性能化に伴いその需要が増加している。R-T-B系永久磁石の製造では、原料合金を粉砕して合金粉末を得る。そして、合金粉末を磁場中にて加圧して成形し、熱処理することで永久磁石が製造される。
【0003】
粉砕工程では、十分な量の潤滑剤が添加される。これにより、粉砕性の向上が期待される。また、潤滑剤の添加により、合金粉末の成形時の粒子間における動摩擦力が低減される。そのため、得られる永久磁石は、結晶配向度が向上し、残留磁束密度(Br)が高くなることが期待される。他方、潤滑剤の添加により残留炭素量が増加するため、永久磁石の保磁力(Hcj)が低下してしまう傾向がある。
【0004】
特許文献1には、総炭素数(n+1)が16以下の脂肪酸アミドを2種類以上含み、かつ総炭素数(n+1)が16以下の脂肪酸アミドが80wt%以上を占めることを特徴とする潤滑剤を用い、添加量を減少させることで、焼結体中の残留炭素量を低減するR-T-B系焼結磁石の製造方法が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0005】
特開2007-197826号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0006】
しかしながら、特許文献1の製造方法により得られた焼結磁石は、残留炭素量が低下するにつれて残留磁束密度が大幅に低下している。つまり特許文献1の製造方法では、高い結晶配向度と低い残留炭素量とを両立することはできなかった。
【0007】
本開示は、結晶配向度が高く、残留炭素量が低いR-T-B系永久磁石を得ることができるR-T-B系永久磁石の製造方法を提供する。
【課題を解決するための手段】
【0008】
[1]希土類元素R、遷移金属元素T及びBを含有するR-T-B系永久磁石の製造方法であって、
R-T-B系永久磁石用の原料合金を準備する準備工程と、
上記原料合金を粉砕して合金粉末を得る粉砕工程と、
上記合金粉末を成形して成形体を得る成形工程と、
上記成形体を焼結させる焼結工程と、
を備え、
上記粉砕工程において、潤滑剤が、上記原料合金、及び上記合金粉末のうち少なくともいずれかへ添加され、
上記潤滑剤は、下記一般式(1)で示される化合物(但し、イソブチルアミドを除く)を含む、R-T-B系永久磁石の製造方法。
TIFF
2024137076000001.tif
25
149
[式(1)中、R

は、極性を有する官能基を表し、R

は、水素原子、ベンゼン環を有する炭化水素基、アルキル基、アルケニル基又はアルキニル基を表し、R

及びR

は、それぞれ独立に、ベンゼン環を有する炭化水素基、アルキル基、アルケニル基又はアルキニル基を表す。]
[2]上記一般式(1)におけるR

が、アミド基、カルボキシル基、ヒドロキシ基、アミノ基又はアセチル基である、[1]に記載のR-T-B系永久磁石の製造方法。
[3]上記一般式(1)で示される化合物の炭素数が、5以上である、[1]又は[2]に記載のR-T-B系永久磁石の製造方法。
[4]上記一般式(1)におけるR

が、ベンゼン環を有する炭化水素基、アルキル基、アルケニル基又はアルキニル基である、[1]~[3]のいずれかに記載のR-T-B系永久磁石の製造方法。
[5]上記粉砕工程における上記潤滑剤の添加量が、上記原料合金の全量を基準として、0.1質量%以上である、[1]~[4]のいずれかに記載のR-T-B系永久磁石の製造方法。
[6]上記一般式(1)で示される化合物が、ピバル酸アミド、イソ酪酸、2-エチルブタンアミド、2,2-ジエチルブタンアミド、ピバル酸、2-エチル-1-ブタノール、2,2-ジエチル-1-ブタノール、2-エチル-1-ブタンアミン、2,2-ジエチル-1-ブタンアミン、3-メチル-2-ブタノン、3,3-ジメチル-2-ブタノン、2,2-ジメチル-4-ペンテンアミド及び2-ヘキシル-4-ペンチン酸からなる群から選ばれる少なくとも一種である、[1]~[5]のいずれかに記載のR-T-B系永久磁石の製造方法。
[7]上記粉砕工程が、上記原料合金を粉砕する第一の粉砕工程と、上記第一の粉砕工程によって得られた上記合金粉末を更に粉砕する第二の粉砕工程と、を含み、
上記第二の粉砕工程において、上記潤滑剤が上記合金粉末へ添加される、[1]~[6]のいずれかに記載のR-T-B系永久磁石の製造方法。
【発明の効果】
【0009】
本開示によれば、結晶配向度が高く、残留炭素量が低いR-T-B系永久磁石を得ることができるR-T-B系永久磁石の製造方法が提供される。
【図面の簡単な説明】
【0010】
図1は、合金粉末の動摩擦係数の測定装置の模式的な斜視図である。
図2中の(a)、図2中の(b)及び図2中の(c)は、図1に示される測定装置を用いた動摩擦係数の測定の手順を示す模式図であって、測定装置及び合金粉末の断面図である。
図3は、図1に示される測定装置によって測定される合金粉末のせん断力及び下部垂直応力の経時的なプロファイルを示す。
【発明を実施するための形態】
(【0011】以降は省略されています)

この特許をJ-PlatPatで参照する
Flag Counter

関連特許

TDK株式会社
磁性部品
9日前
TDK株式会社
電子部品
16日前
TDK株式会社
フィルタ
23日前
TDK株式会社
フィルタ
23日前
TDK株式会社
電子部品
1か月前
TDK株式会社
磁気センサ
10日前
TDK株式会社
コイル装置
1か月前
TDK株式会社
磁気センサ
1か月前
TDK株式会社
音響デバイス
16日前
TDK株式会社
積層型電子部品
9日前
TDK株式会社
磁石用樹脂トレイ
1か月前
TDK株式会社
固体電解コンデンサ
1か月前
TDK株式会社
積層型フィルタ装置
17日前
TDK株式会社
固体電解コンデンサ
1か月前
TDK株式会社
磁気コアおよび磁性部品
9日前
TDK株式会社
光検知装置及び信号処理方法
1か月前
TDK株式会社
導電性フィルム、及び表示装置
1か月前
TDK株式会社
固体電解コンデンサの製造方法
1か月前
TDK株式会社
圧電デバイス及び音響デバイス
1か月前
TDK株式会社
導電性フィルム、及び表示装置
1か月前
TDK株式会社
導電性部材とこれを用いたサーミスタ素子
1か月前
TDK株式会社
R-T-B系永久磁石およびその製造方法
1か月前
TDK株式会社
位置検出装置、レンズモジュールおよび撮像装置
15日前
TDK株式会社
コイル部品
1か月前
TDK株式会社
樹脂組成物、樹脂シート、プリプレグ、樹脂基板、積層基板
23日前
TDK株式会社
積層コンデンサ
16日前
TDK株式会社
セラミック電子部品
11日前
TDK株式会社
R‐T‐B系永久磁石
1か月前
個人
電波吸収体
4日前
愛知電機株式会社
変圧器
2日前
個人
タワー式増設端子台
17日前
個人
接触式電気的導通端子
1か月前
電建株式会社
端子金具
9日前
SMK株式会社
コネクタ
9日前
富士電機株式会社
半導体装置
9日前
三菱電機株式会社
回路遮断器
9日前
続きを見る