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公開番号2024073054
公報種別公開特許公報(A)
公開日2024-05-29
出願番号2022184045
出願日2022-11-17
発明の名称洗浄装置
出願人株式会社ディスコ
代理人弁理士法人東京アルパ特許事務所
主分類H01L 21/304 20060101AFI20240522BHJP(基本的電気素子)
要約【課題】被加工物の洗浄及び乾燥後に該被加工物に残った洗浄流体の液滴を確実且つ短時間に除去することができる洗浄装置を提供すること。
【解決手段】ワークセット(被加工物)WSを洗浄後に乾燥させる洗浄装置1は、ワークセットWSを洗浄水とエアの二流体(洗浄流体)の噴射によって洗浄するとともに、乾燥エアの噴射によって乾燥させる洗浄・乾燥ノズル52と、乾燥後のワークセットWSに残留する水滴(液滴)を吸引する吸引ノズル53と、該吸引ノズル53に接続された吸引源67と、を備えることを特徴とする。ここで、洗浄・乾燥ノズル52は、二流体または乾燥エアをワークセットWSに向けて選択的に噴射する。また、吸引ノズル52は、ワークセットWSの上方で移動可能な吸引口63を備え、該吸引口63が吸引したエアに含まれる水滴を分離する気液分離部60を備えている。
【選択図】図7
特許請求の範囲【請求項１】
被加工物を洗浄後に乾燥させる洗浄装置であって、
被加工物を洗浄流体の噴射によって洗浄する洗浄手段と、
洗浄後の被加工物を乾燥エアの噴射によって乾燥させる乾燥手段と、
乾燥後の被加工物に残留する液滴を吸引する吸引ノズルと、
該吸引ノズルに接続された吸引源と、
を備えることを特徴とする洗浄装置。
続きを表示（約 380 文字）【請求項２】
該洗浄手段は、被加工物の上方で移動可能な噴射口から洗浄水とエアの二流体を被加工物に向けて噴射する洗浄ノズルを備えていることを特徴とする請求項１記載の洗浄装置。
【請求項３】
該洗浄ノズルは、二流体または乾燥エアを被加工物に向けて選択的に噴射する洗浄・乾燥ノズルであることを特徴とする請求項２記載の洗浄装置。
【請求項４】
該吸引ノズルは、被加工物の上方で移動可能な吸引口を備え、該吸引口が吸引したエアに含まれる液滴を分離する気液分離部を備えることを特徴とする請求項１記載の洗浄装置。
【請求項５】
被加工物の洗浄時に該被加工物を中速で回転させ、被加工物の乾燥時に該被加工物を高速で回転させ、被加工物の水滴吸引時に該被加工物を低速で回転させる回転機構を備えることを特徴とする請求項１記載の洗浄装置。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、ウェーハなどの被加工物の洗浄及び乾燥後に残留する洗浄流体の液滴を吸引によって除去する洗浄装置に関する。
続きを表示（約 1,600 文字）【背景技術】
【０００２】
各種電子機器に用いられるＩＣやＬＳＩなどの半導体デバイスの製造工程においては、半導体デバイスの小型化と軽量化のために、ウェーハの裏面が研削されて該ウェーハが所定の厚さまで薄化されている。そして、研削によって薄化されたウェーハは、格子状の分割予定ラインに沿って表面が切削されて複数の半導体チップに分割された後、洗浄装置によって洗浄されて表面に付着した研削屑や切削屑が除去されるとともに、これらの研削屑や切削屑が除去されたウェーハが乾燥される。
【０００３】
ウェーハの研削加工や切削加工、洗浄・乾燥などにおいては、該ウェーハとその周囲に配されたリングフレームをテープによって貼着して両者を一体化したワークセットがチャックテーブルやスピンナテーブルの保持面上に保持されるが、切削加工後のウェーハを乾燥させる手法には、ワークセットをスピンナテーブルと共に高速で回転させ、ウェーハに付着している洗浄水を遠心力によって吹き飛ばして除去するスピン乾燥方式と、ウェーハに向かってエアなどの気体を吹き付けてウェーハに付着している洗浄水を乾燥させるブロー乾燥方式とがある。
【０００４】
上記スピン乾燥方式やブロー乾燥方式によってウェーハを乾燥させても、リングフレームの内側壁やウェーハの分割溝に残った水滴が周囲に飛び散り、飛び散った水滴がウェーハに付着してウォーターマークやパーティクルとなってしまうという問題がある。また、リングフレームの内側壁やウェーハの分割溝に残った水滴をスピン乾燥によって完全に乾燥させて除去するには、長時間を要して非効率であるという問題がある。
【０００５】
ところで、特許文献１には、洗浄チャンバ内でウェーハを洗浄水によって洗浄するとともに、高圧ガスを用いて乾燥させる洗浄乾燥装置において、洗浄チャンバの天井面への水滴の付着を防ぐために、洗浄チャンバの上部に外気を流入させる外気流入孔を形成するとともに、洗浄チャンバ内からミストを強制的に排出する排出手段を洗浄チャンバの下部に設ける構成が提案されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
特開平８－１６２４３５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、特許文献１において提案された洗浄乾燥装置は、洗浄チャンバ内でウェーハを洗浄及び乾燥させる構成に適用が限定されるとともに、ウェーハとリングフレームを一体化したワークセットの洗浄及び乾燥後にリングフレームの内側壁やウェーハの分割溝に残った液滴を確実且つ短時間に除去することができないという問題がある。
【０００８】
本発明は、上記問題に鑑みてなされたもので、その目的は、被加工物の洗浄及び乾燥後に該被加工物に残った洗浄流体の液滴を確実且つ短時間に除去することができる洗浄装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記目的を達成するための本発明は、被加工物を洗浄後に乾燥させる洗浄装置であって、被加工物を洗浄流体の噴射によって洗浄する洗浄手段と、洗浄後の被加工物を乾燥エアの噴射によって乾燥させる乾燥手段と、乾燥後の被加工物に残留する液滴を吸引する吸引ノズルと、該吸引ノズルに接続された吸引源と、を備えることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、洗浄手段から噴射される洗浄流体によって被加工物を洗浄した後、乾燥手段から噴射される乾燥エアによって被加工物を乾燥させた後に該被加工物に残留する洗浄流体の液滴を吸引ノズルによって吸引して除去するようにしたため、被加工物の洗浄及び乾燥後に該被加工物に残った液滴を確実且つ短時間に除去することができるという効果が得られる。
【図面の簡単な説明】
（【００１１】以降は省略されています）

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