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公開番号2024068862
公報種別公開特許公報(A)
公開日2024-05-21
出願番号2022179481
出願日2022-11-09
発明の名称基板ホルダ、基板保持方法、及び成膜装置
出願人株式会社レゾナック
代理人個人,個人,個人
主分類C23C 14/50 20060101AFI20240514BHJP(金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般)
要約【課題】基板の落下を防止すると共に基板の変形または破損を防止する。
【解決手段】基板ホルダは、円盤状基板が縦置きに配置される孔部と、孔部の周囲に弾性変形可能に取り付けられた少なくとも4個の支持部材と、を備え、4個の支持部材のうちの2個の支持部材は、鉛直方向で円盤状基板の上側に位置する円盤状基板の第1側外周端部及び第2側外周端部で円盤状基板を支持し、4個の支持部材のうちの他の2個の支持部材は、鉛直方向で円盤状基板の下側に位置する円盤状基板の第3側外周端部及び第4側外周端部で円盤状基板を支持し、第1側外周端部及び第2側外周端部の各々と、円盤状基板の最上端部との間における円盤状基板の中心角は、は、15°～40°の範囲内であり、第3側外周端部及び第4側外周端部の各々と、円盤状基板の最下端部との間における円盤状基板の中心角は、10°～15°の範囲内である。
【選択図】図4
特許請求の範囲【請求項１】
円盤状基板が縦置きに配置される孔部と、
前記孔部の周囲に弾性変形可能に取り付けられた少なくとも４個の支持部材と、
を備え、
前記４個の支持部材のうちの２個の支持部材は、鉛直方向で前記円盤状基板の上側に位置する前記円盤状基板の第１側外周端部及び第２側外周端部で前記円盤状基板を支持し、
前記４個の支持部材のうちの他の２個の支持部材は、鉛直方向で前記円盤状基板の下側に位置する前記円盤状基板の第３側外周端部及び第４側外周端部で前記円盤状基板を支持し、
前記第１側外周端部及び前記第２側外周端部の各々と、鉛直方向で前記円盤状基板の最も上側に位置する前記円盤状基板の最上端部との間における前記円盤状基板の中心角は、１５°～４０°の範囲内であり、
前記第３側外周端部及び前記第４側外周端部の各々と、鉛直方向で前記円盤状基板の最も下側に位置する前記円盤状基板の最下端部との間における前記円盤状基板の中心角は、１０°～１５°の範囲内である、基板ホルダ。
続きを表示（約 820 文字）【請求項２】
前記第１側外周端部及び前記第２側外周端部の各々と、前記円盤状基板の前記最上端部との間における前記円盤状基板の中心角が１５°～４０°の範囲内と、
前記第３側外周端部及び前記第４側外周端部の各々と、前記円盤状基板の前記最下端部との間における前記円盤状基板の中心角が１０°～１５°の範囲内と、
を除いた前記円盤状基板の箇所では、前記支持部材は前記円盤状基板を支持しない、請求項１に記載の基板ホルダ。
【請求項３】
基板ホルダによる基板保持方法であって、前記基板ホルダが、
円盤状基板が縦置きに配置される孔部の周囲に弾性変形可能に取り付けられた少なくとも４個の支持部材のうちの２個の支持部材により、鉛直方向で前記円盤状基板の上側に位置する前記円盤状基板の第１側外周端部及び第２側外周端部で前記円盤状基板を支持する工程と、
前記４個の支持部材のうちの他の２個の支持部材により、鉛直方向で前記円盤状基板の下側に位置する前記円盤状基板の第３側外周端部及び第４側外周端部で前記円盤状基板を支持する工程と、
を実行し、
前記第１側外周端部及び前記第２側外周端部の各々と、鉛直方向で前記円盤状基板の最も上側に位置する前記円盤状基板の最上端部との間における前記円盤状基板の中心角を、１５°～４０°とし、
前記第３側外周端部及び前記第４側外周端部の各々と、鉛直方向で前記円盤状基板の最も下側に位置する前記円盤状基板の最下端部との間における前記円盤状基板の中心角を、１０°～１５°とした、基板保持方法。
【請求項４】
円盤状基板に対して成膜処理を行うチャンバと、
少なくとも前記チャンバ内で前記円盤状基板を保持する請求項１又は２に記載の基板ホルダが設けられたキャリアと、
前記キャリアを搬送する搬送機構と、
を備える、成膜装置。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本開示は、基板ホルダ、基板保持方法、及び成膜装置に関する。
続きを表示（約 1,800 文字）【背景技術】
【０００２】
従来から、基板を複数の支持部材により保持する基板ホルダ及び基板保持方法が知られている。また基板に成膜処理を行う成膜装置が知られている（例えば特許文献１を参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
特開平８－２７４１４２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、特許文献１において、成膜装置の生産性を高めるために基板の搬送速度を上げた場合、搬送中の振動または基板に加わる加速度により基板が落下し易くなる虜がある。また、基板の落下を防止するために支持部材による基板の支持力を高めると、基板の変形または破損が生じ易くなる。
【０００５】
そこで、本開示の技術は、上記課題に鑑み、基板の落下を防止すると共に基板の変形または破損を防止することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本開示の一態様によれば、
円盤状基板が縦置きに配置される孔部と、
前記孔部の周囲に弾性変形可能に取り付けられた少なくとも４個の支持部材と、
を備え、
前記４個の支持部材のうちの２個の支持部材は、鉛直方向で前記円盤状基板の上側に位置する前記円盤状基板の第１側外周端部及び第２側外周端部で前記円盤状基板を支持し、
前記４個の支持部材のうちの他の２個の支持部材は、鉛直方向で前記円盤状基板の下側に位置する前記円盤状基板の第３側外周端部及び第４側外周端部で前記円盤状基板を支持し、
前記第１側外周端部及び前記第２側外周端部の各々と、鉛直方向で前記円盤状基板の最も上側に位置する前記円盤状基板の最上端部との間における前記円盤状基板の中心角は、１５°～４０°の範囲内であり、
前記第３側外周端部及び前記第４側外周端部の各々と、鉛直方向で前記円盤状基板の最も下側に位置する前記円盤状基板の最下端部との間における前記円盤状基板の中心角は、１０°～１５°の範囲内である、基板ホルダが提供される。
【０００７】
本開示の他の態様によれば、
基板ホルダによる基板保持方法であって、前記基板ホルダが、
円盤状基板が縦置きに配置される孔部の周囲に弾性変形可能に取り付けられた少なくとも４個の支持部材のうちの２個の支持部材により、鉛直方向で前記円盤状基板の上側に位置する前記円盤状基板の第１側外周端部及び第２側外周端部で前記円盤状基板を支持する工程と、
前記４個の支持部材のうちの他の２個の支持部材により、鉛直方向で前記円盤状基板の下側に位置する前記円盤状基板の第３側外周端部及び第４側外周端部で前記円盤状基板を支持する工程と、
を実行し、
前記第１側外周端部及び前記第２側外周端部の各々と、鉛直方向で前記円盤状基板の最も上側に位置する前記円盤状基板の最上端部との間における前記円盤状基板の中心角を、１５°～４０°とし、
前記第３側外周端部及び前記第４側外周端部の各々と、鉛直方向で前記円盤状基板の最も下側に位置する前記円盤状基板の最下端部との間における前記円盤状基板の中心角を、１０°～１５°とした、基板保持方法が提供される。
【０００８】
本開示の別の態様によれば、
円盤状基板に対して成膜処理を行うチャンバと、
少なくとも前記チャンバ内で前記円盤状基板を保持する、本開示の一態様に記載の基板ホルダが設けられたキャリアと、
前記キャリアを搬送する搬送機構と、
を備える、成膜装置が提供される。
【発明の効果】
【０００９】
本開示の一態様によれば、基板の落下を防止すると共に基板の変形または破損を防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
一実施形態に係る成膜装置により製造される記録媒体の一例の断面図である。
一実施形態に係る成膜装置の平面図である。
一実施形態に係る成膜装置におけるチャンバの側断面図である。
一実施形態に係る成膜装置におけるキャリアの側面図である。
従来技術により基板に生じた変形の一例を示す顕微鏡画像（図面代用写真）である。
【発明を実施するための形態】
（【００１１】以降は省略されています）

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