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公開番号2024056031
公報種別公開特許公報(A)
公開日2024-04-19
出願番号2024034490,2020122163
出願日2024-03-07,2020-07-16
発明の名称温度センサ及びプラズマ処理装置
出願人東京エレクトロン株式会社
代理人個人,個人
主分類G01K 7/02 20210101AFI20240412BHJP(測定;試験)
要約【課題】プラズマ生成時に発生する高周波ノイズを低減できる技術を提供する。
【解決手段】本開示の一態様による温度センサは、プラズマ処理が行われる処理容器内の温度を測定する温度センサであって、前記処理容器内に測温接点を有する熱電対と、前記熱電対を収容して保護する保護管と、前記保護管内に前記熱電対を覆うように設けられる電磁シールドと、を有する。
【選択図】図1
特許請求の範囲【請求項１】
プラズマ処理が行われる処理容器内の温度を測定する温度センサであって、
前記処理容器内に測温接点を有する熱電対と、
前記熱電対を収容して保護する保護管と、
前記保護管内に前記熱電対を覆うように設けられる電磁シールドと、
を有する、温度センサ。
続きを表示（約 750 文字）【請求項２】
前記保護管は、一端が前記処理容器の内部に位置し、他端が前記処理容器の外部に位置する、
請求項１に記載の温度センサ。
【請求項３】
前記電磁シールドは、前記保護管の前記他端を通して前記処理容器の外部に引き出されて接地されている、
請求項２に記載の温度センサ。
【請求項４】
前記電磁シールドは、少なくとも前記測温接点を覆うように設けられる、
請求項１乃至３のいずれか一項に記載の温度センサ。
【請求項５】
前記電磁シールドは、前記熱電対の全体を覆うように設けられる、
請求項１乃至４のいずれか一項に記載の温度センサ。
【請求項６】
前記電磁シールドは、金属メッシュにより形成されている、
請求項１乃至５のいずれか一項に記載の温度センサ。
【請求項７】
前記金属メッシュは、ニッケル合金により形成されている、
請求項６に記載の温度センサ。
【請求項８】
前記電磁シールドは、２７ＭＨｚの電磁波に対して、電界で４０ｄＢ以上、磁界で２０ｄＢ以上のシールド効果を有する、
請求項１乃至７のいずれか一項に記載の温度センサ。
【請求項９】
前記熱電対と前記電磁シールドとの間に設けられる絶縁部材を更に有する、
請求項１乃至８のいずれか一項に記載の温度センサ。
【請求項１０】
前記保護管には、複数の前記熱電対が収容されており、
前記電磁シールドは、複数の前記熱電対の全てを覆うように設けられる、
請求項１乃至９のいずれか一項に記載の温度センサ。
（【請求項１１】以降は省略されています）
発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本開示は、温度センサ及びプラズマ処理装置に関する。
続きを表示（約 1,000 文字）【背景技術】
【０００２】
プラズマ処理装置において、反応管内の温度を検出する熱電対に接続された補償導線にノイズ除去フィルタを接続すると共に、補償導線を覆うようにシールド部材を組み込んだ技術が知られている（例えば、特許文献１参照）。この技術では、ノイズ除去フィルタ及びシールド部材は反応管の外部に設けられている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
特開２０１１－１５１０８１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本開示は、プラズマ生成時に発生する高周波ノイズを低減できる技術を提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本開示の一態様による温度センサは、プラズマ処理が行われる処理容器内の温度を測定する温度センサであって、前記処理容器内に測温接点を有する熱電対と、前記熱電対を収容して保護する保護管と、前記保護管内に前記熱電対を覆うように設けられる電磁シールドと、を有する。
【発明の効果】
【０００６】
本開示によれば、プラズマ生成時に発生する高周波ノイズを低減できる。
【図面の簡単な説明】
【０００７】
実施形態のプラズマ処理装置の一例を示す概略図
図１のII－II矢視図
内部温度センサの一例を示す図
図３のIV－IV矢視図
金属メッシュの線径及び目開きを説明するための図
金属メッシュのシールド効果の測定結果を示す図
高周波ノイズによる温度センサの出力変動の一例を示す図
【発明を実施するための形態】
【０００８】
以下、添付の図面を参照しながら、本開示の限定的でない例示の実施形態について説明する。添付の全図面中、同一又は対応する部材又は部品については、同一又は対応する参照符号を付し、重複する説明を省略する。
【０００９】
〔プラズマ処理装置〕
図１及び図２を参照し、実施形態のプラズマ処理装置の一例について説明する。図１は、実施形態のプラズマ処理装置の一例を示す概略図である。図２は、図１のII－II矢視図である。
【００１０】
プラズマ処理装置１は、処理容器１０、ガス供給部２０、プラズマ生成部３０、排気部４０、加熱部５０、外部温度センサ６０、内部温度センサ７０及び制御部９０を備える。
（【００１１】以降は省略されています）

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