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公開番号2025177795
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-12-05
出願番号2024084901
出願日2024-05-24
発明の名称光源装置及びエネルギービーム導入部材
出願人ウシオ電機株式会社
代理人弁理士法人南青山国際特許事務所
主分類G03F 7/20 20060101AFI20251128BHJP(写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ)
要約【課題】エネルギービームを、進行を阻害することなく発光点まで安定的に導入することを可能とする光源装置、及びエネルギービーム導入部材を提供すること。
【解決手段】エネルギービーム導入部材は、筐体部と、第1の窓部材と、治具と、第2の窓部材と、ガス導入部とを有する。筐体部は、エネルギービームの入射孔及び出射孔と、エネルギービームが通過する内部空間とを有する。第1の窓部材は、エネルギービームが通過可能であり、入射孔を閉塞するように設けられる。治具は、筐体部に固定され、内部空間に位置する。第2の窓部材は、エネルギービームが通過可能であり、治具に固定され、内部空間に位置する。ガス導入部は、内部空間のうち、第2の窓部材を基準として入射孔側の空間を第1の空間、出射孔側の空間を第2の空間とした場合に、第1の空間にガスを導入する。治具は、ガスを第1の空間から第2の空間に導通させるガス導通孔を有する。
【選択図】図3
特許請求の範囲【請求項１】
エネルギービームの照射を利用して液体原料をプラズマ化して放射線を取り出す光源装置であって、
前記エネルギービームの入射孔及び出射孔と、前記エネルギービームが通過する内部空間とを有する筐体部と、
前記エネルギービームが通過可能であり、前記入射孔を閉塞するように設けられた第１の窓部材と、
前記筐体部に固定され、前記内部空間に位置する治具と、
前記エネルギービームが通過可能であり、前記治具に固定され、前記内部空間に位置する第２の窓部材と、
前記内部空間のうち、前記第２の窓部材を基準として前記入射孔側の空間を第１の空間、前記出射孔側の空間を第２の空間とした場合に、前記第１の空間にガスを導入するガス導入部とを有し、
前記治具は、前記ガスを前記第１の空間から前記第２の空間に導通させるガス導通孔を有する
エネルギービーム導入部材を具備する
光源装置。
続きを表示（約 930 文字）【請求項２】
請求項１に記載の光源装置であって、さらに、
前記筐体部の前記出射孔の近傍を加熱する加熱機構を具備する
光源装置。
【請求項３】
請求項２に記載の光源装置であって、
前記加熱機構は、前記プラズマから発生するデブリを捕捉するデブリ低減機構である
光源装置。
【請求項４】
請求項１又は２に記載の光源装置であって、
前記治具は、前記第２の窓部材を基準として前記入射孔側の第１の治具、及び前記出射孔側の第２の治具からなり、
前記第２の窓部材は、前記第１の治具及び前記第２の治具により挟み込まれることで固定される
光源装置。
【請求項５】
請求項４に記載の光源装置であって、
前記第１の治具はリング形状を有し、
前記第２の窓部材は円盤形状を有し、径が前記第１の治具の内径よりも大きく、外径よりも小さい
光源装置。
【請求項６】
請求項１又は２に記載の光源装置であって、
前記第２の窓部材の少なくとも前記出射孔側の面は、反射防止膜を有さない
光源装置。
【請求項７】
請求項１又は２に記載の光源装置であって、
前記第２の窓部材は、フッ化カルシウム又はフッ化マグネシウムの少なくとも一方を含む材料により構成される
光源装置。
【請求項８】
請求項１又は２に記載の光源装置であって、
前記第２の窓部材は、低膨張率の材料又はガラスの少なくとも一方により構成される
光源装置。
【請求項９】
請求項１又は２に記載の光源装置であって、
前記ガス導入部は、前記筐体部に構成される孔である
光源装置。
【請求項１０】
請求項１又は２に記載の光源装置であって、
前記エネルギービーム導入部材は、前記プラズマから発生し前記出射孔から前記内部空間に進入するデブリを、前記第２の窓部材とは異なる位置に誘導するデブリ誘導手段を有する
光源装置。
（【請求項１１】以降は省略されています）
発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、Ｘ線や極端紫外光等を発生させる光源装置、及び当該光源装置に用いられるエネルギービーム導入部材に関する。
続きを表示（約 1,300 文字）【背景技術】
【０００２】
Ｘ線のうち極端紫外光（以下、「ＥＵＶ（Extreme Ultra Violet）光」ともいう）は、近年露光光として使用されている。ＥＵＶリソグラフィ用のマスクの基材は、ＥＵＶ光を反射させるための多層膜（例えば、モリブデンとシリコン）上にＥＵＶリソグラフィ用の放射線を吸収する材料をパターニングすることで、ＥＵＶマスクが構成される。
【０００３】
ＥＵＶマスクにおける許容できない欠陥の大きさは、大幅に小さくなっており検出が困難となっている。そこで、ＥＵＶマスクの検査には、アクティニック検査（Actinic inspection）と呼ばれる、リソグラフィの作業波長と一致する波長の放射線を用いた検査が行われる。
【０００４】
一般にＥＵＶ光源装置としては、ＤＰＰ（Discharge Produced Plasma）光源装置、ＬＤＰ（Laser Assisted Discharge Produced Plasma）光源装置、及びＬＰＰ（Laser Produced Plasma）光源装置が挙げられる。
【０００５】
ＤＰＰ光源装置は、ＥＵＶ放射種を含む気体状のプラズマ原料（放電ガス）が供給された電極間に高電圧を印加して、放電により高密度高温プラズマを生成し、そこから放射される極端紫外光を利用するものである。
【０００６】
ＬＤＰ光源装置は、ＤＰＰ光源装置が改良されたものであり、例えば、放電を発生させる電極（放電電極）表面にＥＵＶ放射種を含む液体状の高温プラズマ原料（例えば、Ｓｎ（スズ）やＬｉ（リチウム）等）を供給し、当該原料に対してレーザビームを照射して当該原料を気化し、その後、放電によって高温プラズマを生成するものである。
【０００７】
ＬＰＰ光源装置は、ＥＵＶ放射種をレーザビーム等により励起して高温プラズマを生成するものである。この方式の光源装置としては、微小な液滴状に噴出された高温プラズマ原料のドロップレットに対して、レーザ光を集光することにより当該ターゲット材料を励起してプラズマを発生させるものが知られている。
【０００８】
特許文献１では、Ｘ線やＥＵＶ等の放射線を発生させるためのプラズマ原料を回転体に供給し、回転体においてプラズマ原料が供給される領域にエネルギービーム（レーザビーム）を照射して放射線を得る方法が提案されている。一方が開口した円筒状の容器が回転体として用いられ、この容器に液体状のプラズマ原料が供給され、容器の内周面にレーザ光が照射される。
【０００９】
この方法は、所謂ＬＰＰ方式に相当するが、回転体の遠心力によりエネルギービームの照射領域へ液体状のプラズマ原料を供給するものであり、液体状のプラズマ原料をドロップレットとして供給する必要がない。このため、ドロップレットにレーザビームを集光する方式等と比べて、比較的簡易な構成で、高輝度の放射線を得ることが可能となる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１０】
特開２０１４－２１６２８６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
（【００１１】以降は省略されています）

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