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公開番号2025169311
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-11-12
出願番号2025132326,2022167315
出願日2025-08-07,2022-10-19
発明の名称洗浄剤組成物、及び洗浄剤組成物用の原液
出願人化研テック株式会社
代理人弁理士法人深見特許事務所
主分類C11D 7/50 20060101AFI20251105BHJP(動物性または植物性油,脂肪,脂肪性物質またはろう;それに由来する脂肪酸;洗浄剤;ろうそく)
要約【課題】本発明は、フラックス洗浄性及び取り扱い性に優れ、且つ金属影響及び揮発性有機化合物(VOC)が低減された洗浄剤組成物、及び洗浄剤組成物用の原液を提供することを目的とする。
【解決手段】親水性グリコールエーテル化合物と、有機酸と、第1化合物と、水とを含む洗浄剤組成物であって、前記第1化合物は、親水性含窒素有機化合物及び/又は親水性第4級アンモニウム塩であり、前記水の含有率は、20質量%以上であり、前記有機酸に対する前記第1化合物のモル比は、1以上35以下である、洗浄剤組成物。
【選択図】なし
特許請求の範囲【請求項１】
親水性グリコールエーテル化合物と、有機酸と、第１化合物と、水とを含む洗浄剤組成物であって、
前記第１化合物は、親水性含窒素有機化合物及び／又は親水性第４級アンモニウム塩であり、
前記水の含有率は、２０質量％以上であり、
前記有機酸に対する前記第１化合物のモル比は、１以上３５以下である、洗浄剤組成物。
続きを表示（約 2,900 文字）【請求項２】
前記洗浄剤組成物のｐＨは８．０以上１２．０以下である、請求項１に記載の洗浄剤組成物。
【請求項３】
前記有機酸の含有率は、０．１質量％以上４．０質量％以下であり、
前記第１化合物の含有率は、１質量％以上２０質量％以下である、請求項１又は請求項２に記載の洗浄剤組成物。
【請求項４】
前記洗浄剤組成物は、２５℃及び５０℃の条件下で外観上均一である、請求項１又は請求項２に記載の洗浄剤組成物。
【請求項５】
前記有機酸は、１分子中に１つ以上のカルボキシ基を有する有機酸、又は１分子中に１つ以上のホスホン酸基を有する有機酸である、請求項１又は請求項２に記載の洗浄剤組成物。
【請求項６】
前記親水性グリコールエーテル化合物は、式（１）で表され、且つ２０℃の環境下において、水の溶解度が５０質量％を超える化合物、又は式（２）で表され、且つ２０℃の環境下において、水の溶解度が５０質量％を超える化合物である、請求項１又は請求項２に記載の洗浄剤組成物。
TIFF
2025169311000010.tif
70
114
（式（１）中、Ｒ
１
、Ｒ
２
及びＲ
３
は、それぞれ独立に水素原子、メチル基、又はエチル基を示し、Ｒ
４
は、炭素数１～１１の鎖状及び／又は環状の炭化水素基を示し、前記炭化水素基に含まれる－ＣＨ
２
－は、－Ｏ－に置き換わっていてもよく、式（２）中、Ｒ
５
及びＲ
６
は、それぞれ独立に水素原子又はメトキシ基を示し、前記Ｒ
５
及び前記Ｒ
６
のいずれかはメトキシ基であり、Ｒ
７
は水素原子又はメチル基を示す。）
【請求項７】
前記親水性グリコールエーテル化合物は、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノアリルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノイソブチルエーテル、エチレングリコールモノ－ｔｅｒｔ－ブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノイソブチルエーテル、ジエチレングリコールモノイソプロピルエーテル、ジエチレングリコールモノベンジルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールイソプロピルメチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノブチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールモノヘキシルエーテル、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、２－メトキシブタノール、３－メトキシブタノール、３－メトキシ－３－メチルブタノール、及びプロピルセロソルブからなる群より選択される少なくとも１種の化合物である、請求項６に記載の洗浄剤組成物。
【請求項８】
前記有機酸は、親水性酸及び／又は疎水性酸であり、
前記親水性酸は、ニトリロトリス（メチレンホスホン酸）、酒石酸、クエン酸、リンゴ酸、グリコール酸、プロピオン酸、２－ホスホノブタン－１，２，４－トリカルボン酸、１－ヒドロキシエタン－１，１－ジホスホン酸、グリシン、フィチン酸、１Ｈ－ベンゾトリアゾール－４－カルボン酸、１Ｈ－ベンゾトリアゾール－５－カルボン酸、及びｐ－トルエンスルホン酸からなる群より選択される少なくとも１種の親水性酸であり、
前記疎水性酸は、ジエチレントリアミン五酢酸、ビシン、エチレンジアミンテトラ（メチレンホスホン酸）、オクタン酸、ノナン酸、デカン酸、ウンデカン酸、ラウリン酸、アレンドロン酸、及び１－アミノ－２－ナフトール－４－スルホン酸からなる群より選択される少なくとも１種の疎水性酸である、請求項１又は請求項２に記載の洗浄剤組成物。
【請求項９】
前記親水性含窒素有機化合物は、式（３）で表され、且つ２０℃の環境下において、水の溶解度が５０質量％を超える化合物、又は式（４）で表され、且つ２０℃の環境下において、水の溶解度が５０質量％を超える化合物であり、
前記親水性第４級アンモニウム塩は、式（５）で表され、且つ２０℃の環境下において、水の溶解度が５０質量％を超える化合物である、請求項１又は請求項２に記載の洗浄剤組成物。
TIFF
2025169311000011.tif
111
114
（式（３）中、Ｒ
８
は、－ＣＨ
２
ＣＨ
２
ＯＨ基、－ＣＨ
２
ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ
３
基、－ＣＨ
２
ＣＨ
２
ＣＨ
２
ＮＨ
２
基、又は炭素数１～４の鎖状炭化水素基を示し、Ｒ
９
は、水素原子、－ＣＨ
２
ＣＨ
２
ＯＨ基、－ＣＨ
２
ＣＨ
２
ＣＨ
２
ＮＨ
２
基、又は－ＣＨ
２
ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ
３
基を示し、Ｒ
１０
は、水素原子、－ＣＨ
２
ＣＨ
２
ＯＨ基、又はメチル基を示し、式（４）中、Ｒ
１５
、Ｒ
１６
、Ｒ
１７
は、それぞれ独立に水素原子又はメチル基を示し、式（５）中、Ｒ
１１
、Ｒ
１２
、Ｒ
１３
、Ｒ
１４
は、それぞれ独立に炭素数１～２の炭化水素基を示す。）
【請求項１０】
前記親水性含窒素有機化合物は、モノイソプロパノールアミン、３，３’－ジアミノ－Ｎ－メチルジプロピルアミン、３，３’－ジアミノジプロピルアミン、Ｎ－エチルエタノールアミン、ジイソプロパノールアミン、ジエタノールアミン、Ｎ－ｎ－ブチルジエタノールアミン、トリエタノールアミン、メチルジエタノールアミン、及び２－メチルイミダゾールからなる群より選択される少なくとも１種の親水性含窒素有機化合物であり、
前記親水性第４級アンモニウム塩は、水酸化テトラエチルアンモニウムである、請求項９に記載の洗浄剤組成物。
（【請求項１１】以降は省略されています）
発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、洗浄剤組成物、及び洗浄剤組成物用の原液に関する。
続きを表示（約 1,600 文字）【背景技術】
【０００２】
従来から、集積回路（ＩＣ）及びコンデンサ等の電子部品をプリント基板、カメラモジュール部品等にはんだ付けする際に、ソルダペーストからフラックスが飛散し、電極の周囲に残渣として付着することが知られている（以下、上述のフラックスの残渣を「フラックス残渣」という場合がある。）。
【０００３】
フラックス残渣は、はんだ接合部における腐食等の原因となるほか、ワイヤボンディングを行う工程での接合不良及び、樹脂封止をする工程におけるモールド樹脂との密着不良等の原因となりうる。そのため、フラックス残渣は洗浄剤で除去する必要があり、従来から種々の洗浄剤が提案されている（特許文献１、特許文献２、及び特許文献３）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
特開平０５－１０５８９９号公報
特開２００２－２０１４９２号公報
特開平０５－０４３８９７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
近年、洗浄剤組成物において、フラックス残渣の洗浄性及び取り扱い性の向上が求められている。また、環境への安全性の観点から、洗浄剤組成物において、揮発性有機化合物（ＶＯＣ）の低減が求められている。しかしながら、従来の洗浄剤組成物においては、フラックス残渣の洗浄性及び取り扱い性の向上と、揮発性有機化合物（ＶＯＣ）の低減とを兼備することが困難な場合があった。また、フラックス残渣の洗浄性及び取り扱い性に優れ、揮発性有機化合物（ＶＯＣ）が低減されている場合であっても、洗浄剤組成物に含まれる有機酸によって、洗浄対象物に含まれる金属（例えば、亜鉛（Ｚｎ）、鉄（Ｆｅ））の腐食（言い換えれば「金属影響」）を生じ易い場合があった。
【０００６】
本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであり、フラックス洗浄性及び取り扱い性に優れ、且つ金属影響及び揮発性有機化合物（ＶＯＣ）が低減された洗浄剤組成物、及び洗浄剤組成物用の原液を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本開示の一態様に係る洗浄剤組成物は、親水性グリコールエーテル化合物と、有機酸と、第１化合物と、水とを含む洗浄剤組成物であって、
該第１化合物は、親水性含窒素有機化合物及び／又は親水性第４級アンモニウム塩であり、
該水の含有率は、２０質量％以上であり、
該有機酸に対する該第１化合物のモル比は、１以上３５以下である。
【０００８】
本開示の一態様に係る洗浄剤組成物用の原液は、上記の洗浄剤組成物用の原液であって、
該親水性グリコールエーテル化合物の含有率は、４０質量％以上９８．８質量％以下であり、
該有機酸の含有率は、０．１質量％以上２０質量％以下であり、
該第１化合物の含有率は、１．１質量％以上４０質量％以下であり、
水で１．１倍以上２０倍以下に希釈して用いられる。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、フラックス洗浄性及び取り扱い性に優れ、且つ金属影響及び揮発性有機化合物（ＶＯＣ）が低減された洗浄剤組成物、及び洗浄剤組成物用の原液を提供することが可能になる。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
［本開示の実施形態の説明］
最初に本開示の実施態様を列記して説明する。
［１］本開示の洗浄剤組成物は、
親水性グリコールエーテル化合物と、有機酸と、第１化合物と、水とを含む洗浄剤組成物であって、
前記第１化合物は、親水性含窒素有機化合物及び／又は親水性第４級アンモニウム塩であり、
前記水の含有率は、２０質量％以上であり、
前記有機酸に対する前記第１化合物のモル比は、１以上３５以下である。
（【００１１】以降は省略されています）

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