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公開番号2025166813
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-11-06
出願番号2025070376
出願日2025-04-22
発明の名称図面作成支援システム
出願人株式会社半導体エネルギー研究所
代理人
主分類G06F 30/27 20200101AFI20251029BHJP(計算;計数)
要約【課題】本発明の一態様は、ユーザの求めている図面を得ることのできる情報処理システムを提供する。
【解決手段】生成AIモデルを用いて、図面の拡大、ハッチングパターンの付与、ハッチングパターンの選択を行い、ハッチングラインの間隔が最適な幅となる倍率を生成AIモデルに算出させ、出願用の図面の作成をアシストする図面作成支援システムを構築する。
【選択図】図1
特許請求の範囲【請求項1】
半導体回路の設計データを含む三次元図面データに対して、
ユーザの指定操作に基づいて一部を選択し、その一部を等倍率で拡大した二次元断面図を出力し、
前記二次元断面図は、ハッチング処理された領域を複数有し、
入力図面のハッチングラインに対応した倍率を出力する学習済みの生成AIモデルに前記二次元断面図を入力し、前記ハッチング処理された領域のハッチングラインの間隔が狭い場合に、前記ハッチングラインの間隔が最適な幅となる倍率を前記生成AIモデルに算出させる図面作成支援システム。
続きを表示(約 570 文字)【請求項2】
半導体回路の設計データを含む三次元図面データに対して、
第1の指定操作に基づいて一部を選択し、その一部を等倍率で拡大した二次元断面図を出力する図面データとし、
前記二次元断面図は、ハッチング処理された領域を複数有し、
入力図面のハッチングラインに対応した倍率を出力する学習済みの生成AIモデルに前記二次元断面図を入力し、前記ハッチング処理された領域のハッチングラインの間隔が狭い場合に、前記ハッチングラインの間隔が最適な幅となる倍率を前記生成AIモデルに算出させ、出願用の図面の枠に収まるサイズとした新たな二次元図面データを表示装置の表示部に表示し、第2の指定操作に基づいて前記新たな二次元図面データを保存する図面作成支援システム。
【請求項3】
請求項1または請求項2において、前記三次元図面データの第1の位置と第2の位置は実寸法に対応する距離情報を有している図面作成支援システム。
【請求項4】
請求項1または請求項2において、前記三次元図面データは、回路検証ツールを用いて動作確認を行うことのできるデータである図面作成支援システム。
【請求項5】
請求項1または請求項2において、前記二次元断面図はベクター画像である図面作成支援システム。

発明の詳細な説明【技術分野】
【0001】
本発明の一態様は、情報処理システム、及び情報処理方法に関する。
続きを表示(約 1,700 文字)【0002】
なお、本発明の一態様は、上記の技術分野に限定されない。本明細書等で開示する発明の一態様の技術分野は、物、方法、又は製造方法に関するものである。又は、本発明の一態様は、プロセス、マシン、マニュファクチャ、又は組成物(コンポジション・オブ・マター)に関するものである。そのため、より具体的に本明細書で開示する本発明の一態様の技術分野としては、半導体装置、表示装置、発光装置、蓄電装置、記憶装置、それらの駆動方法、又は、それらの製造方法、を一例として挙げることができる。
【背景技術】
【0003】
近年、人工ニューラルネットワークを用いた言語モデルの開発が盛んに行われており、特に大規模言語モデル(LLM:Large Language Model)が注目されている。大規模言語モデルは、大量のデータを用いて学習された自然言語処理モデルである。大規模言語モデルにより、例えば、ユーザの指示に対して回答を行う対話モデルを実現することができる。非特許文献1では、大規模言語モデルとしてGPT-4(Generative Pre-trained Transformer 4)(登録商標)が開示されており、また、対話モデルとしてChatGPTが開示されている。
【先行技術文献】
【非特許文献】
【0004】
Summary of ChatGPT/GPT-4 Research and Perspective Towards the Future of Large Language Models,Yiheng Liu et al.(Submitted on 4 Apr 2023、[online]、インターネット<URL:https://arxiv.org/abs/2304.01852>
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
工業製品を作製するにあたり、製品レイアウト設計と、製品プロセスを決定し、プロセス条件を調節して作製する。そして、その工業製品を保護するため、工業製品に対応する必要な図面を用意して特許出願を短時間で行うことが求められている。
【0006】
工業製品の構造が比較的単純な場合には、出願用の図面の作成にはそれほど時間を要さない場合が多い。例えば、工業製品の上面または側面をカメラで撮影して写真を撮り、その写真に基づいて出願用の図面を作成することができる。また、工業製品の作製の際に使用された、製図法に基づく設計図面を参照しながら出願用の図面を作成することができる。
【0007】
しかしながら、精密機器、例えばICチップのような微細なレイアウトを有する工業製品の場合、特殊な顕微鏡(電子顕微鏡)を用いて撮影すれば外観写真を撮像することができるが、出願用の図面としては不十分であり、対応する図面をCAD(Computer Aided Design)ソフトウエアで作成する手間がかかる。さらに補足のため、工業製品を切断または薄いサンプル片に加工した後、断面写真を撮影することで写真を用意することもできるが、同様に、対応する図面をCADソフトウエアで作成する手間がかかる。
【0008】
また、出願用の図面として、図面作成者が工業製品の特徴的な部分を強調または理解しやすくするために一部を拡大して実物とは異なる加工した図面をCADソフトウエアで作成することが一般に行われている。出願用の図面は模式図である前提で、出願用の図面作成者の経験、または主観に基づき、CADソフトウエアで作成されていることが多い。
【0009】
また、工業製品の回路図は設計支援ソフトを用いて設計データが設計者によって作成され、設計データを用いて検証が行われる。この設計支援ソフトは、出願用の図面作成者の使用するCADソフトウエアとは異なる場合が多い。
【0010】
このように、従来では、出願用の図面と設計用の図面とで別々のソフトウエアが用いられていることが一般的である。
(【0011】以降は省略されています)

この特許をJ-PlatPat(特許庁公式サイト)で参照する

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