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公開番号2025163743
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-10-30
出願番号2024067231
出願日2024-04-18
発明の名称芳香族ポリアミドフィルムおよび芳香族ポリアミドフィルムの製造方法
出願人東レ株式会社
代理人
主分類C08J 5/18 20060101AFI20251023BHJP(有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物)
要約【課題】磁気テープ用芳香族ポリアミドフィルムにおいて、磁性層等の塗布ムラの発生を抑制する。
【解決手段】少なくとも一方の表面が、質量分析計により測定される芳香族ポリアミド基本骨格に由来するフラグメントのピーク強度(K)に対する、ポリジメチルシロキサンに由来するフラグメントのピーク強度(P)の比(P/K)が0.20以下である磁気記録材料テープのベースに使用する芳香族ポリアミドフィルム。
【選択図】なし
特許請求の範囲【請求項１】
少なくとも一方の表面が、質量分析計により測定される芳香族ポリアミド基本骨格に由来するフラグメントのピーク強度（Ｋ）に対する、ポリジメチルシロキサンに由来するフラグメントのピーク強度（Ｐ）の比（Ｐ／Ｋ）が０．２０以下である磁気記録材料テープのベースに使用する芳香族ポリアミドフィルム。
続きを表示（約 430 文字）【請求項２】
溶液製膜においてフィルムを複数の延伸ロールの周速差でフィルムの走行方向に延伸する工程を有する芳香族ポリアミドフィルムの製造方法であって、前記延伸ロールはフィルムを押圧する芯金上にシリコーンゴムが被覆されたニップロールを備えてなり、前記ニップロールは、雰囲気温度Ｔが１５０度以上３００度未満で、ニップロールのロール幅方向中央で測定した、ロール表面に積層されたシリコーンゴムの厚さ方向での平均温度が温度Ｔに到達してから温度Ｔにて処理時間ｔが１０時間以上２０時間以下経化後に、ニップロール表面のポリジメチルシロキサンを除去されたニップロールである芳香族ポリアミドフィルムの製造方法。
【請求項３】
ニップロール表面のポリジメチルシロキサンの除去が、ニップロールを加熱処理した後にニップロール表面を研磨しニップロール表面に析出したポリジメチルシロキサンを除去する工程を含む請求項２に記載の芳香族ポリアミドフィルムの製造方法。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、テラバイト級の高記録容量が必要とされる磁気記録媒体用途、特に磁気テープ用途に最適な、磁性層および／またはバックコート層の塗布ムラ抑制に優れた芳香族ポリアミドフィルムおよび芳香族ポリアミドフィルムの製造方法に関するものである。
続きを表示（約 1,700 文字）【背景技術】
【０００２】
近年、テラバイト級の情報を高速に伝達するための手段が著しく発達し、莫大な情報をもつ画像およびデータ転送が可能となる一方、それらを記録、再生および保存するための高度な技術が要求されるようになってきた。記録媒体、再生媒体には、フレキシブルディスク、磁気ドラム、ハードディスクおよび磁気テープ（以下、本発明の磁気記録媒体とも称する）が挙げられるが、特に、磁気テープは１巻あたりの記録容量が大きく、ハードディスク等と比較して管理コストが安価なためデータバックアップ用、アーカイブ用途としてその役割を担うところが大きい。また、ビッグデータの取り扱いにより、磁気テープの使用用途の広がりによる幅広い環境条件下（特に、高温高湿条件下など）でのデータ保存に対する信頼性、更に高速での繰り返し使用による多数回走行におけるデータの安定した記録、読み出し等の性能に対する信頼性、磁気テープカートリッジの１巻あたりの記録容量の増大により長尺及び薄手化なども従来に増して要求される。磁気テープは、一般に各層の塗布液を調製する工程、得られた塗布液を非磁性支持体上に塗布する工程、乾燥工程、カレンダー処理（平滑化処理）工程、所定の寸法に裁断する加工工程、そして得られたテープをカートリッジに巻き込む包装工程を経て製造される。
【０００３】
前記磁気テープに至る工程においては、原反ロールから引き出されたフィルムの処理がその処理工程に応じて一定の張力下で実施されるため、フィルムが長手方向に伸ばされ易く、また製造後時間の経過と共に、カートリッジに巻き込まれた磁気テープが徐々に収縮して巻き締まりが生じ、テープが変形し易いとの問題がある。このような問題を解決するために、特許文献１および２では、ＰＥＴ、ＰＥＮと比較して高強度ゆえに薄手化、長尺化が可能なポリアミドフィルムを非磁性支持体として用いることで、フィルム長手方向、幅方向および厚み方向の熱膨張係数や湿度膨張係数に代表される可逆的な寸法変化を抑制することが提案されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
特開２００４－６７８７２号公報（２００４年３月４日公開）
特開平９－７１６６９号公報（１９９７年３月１８日公開）
特開２０２０－１４６８８９号公報（２０２０年９月１７日公開）
特開２０２０－１９２８０５号公報（２０２０年１２月３日公開）
【０００５】
更なるデータストレージシステムの高容量化へのニーズに対して、カートリッジ１巻中のテープ長さを長く巻くため、更なる磁気テープの薄手化が進んでいる。
【０００６】
更なる薄膜化に伴い、支持体に塗布する磁性層および非磁性層の総厚さも薄膜化となったことで、塗布ムラが顕在化した。
【０００７】
この塗布ムラは、光透過にて視認できる、長径１ｍｍ以上の円形状であり、磁気記録媒体として使用した場合に、ドライブヘッドを摩耗させる懸念があった。
塗布ムラの発生は、シリコーンゴムが被覆されたニップロールから付着したシリコーンゴム由来のポリジメチルシロキサンが原因であった。
【０００８】
一般的にシリコーンゴムは、シロキサン結合からなるシリコーンの主骨格によって構成されている。
【０００９】
シリコーンゴムが被膜されたニップロール表面からフィルム表面に転写されるポリジメチルシロキサン量を制御する技術として、特許文献３および４では、事前にシリコーンゴムが被膜されたニップロールを加熱処理する方法が提示されている。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
しかしながら、特許文献３および４は、溶融製造工程特有の方法であり、製造工程でニップロールを加熱しない溶液製膜においてポリジメチルシロキサンの転写を防ぎ、塗布ムラの発生を抑制することが望まれていた。
【課題を解決するための手段】
（【００１１】以降は省略されています）

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