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公開番号
2025154521
公報種別
公開特許公報(A)
公開日
2025-10-10
出願番号
2024057571
出願日
2024-03-29
発明の名称
窒化ケイ素粉末、及び窒化ケイ素焼結体の製造方法
出願人
デンカ株式会社
代理人
個人
,
個人
,
個人
主分類
C01B
21/068 20060101AFI20251002BHJP(無機化学)
要約
【課題】絶縁性及び放熱性に優れる焼結体を製造可能である新規な窒化ケイ素粉末を提供する。
【解決手段】pH7~9に等電点を有する窒化ケイ素粉末。
【選択図】なし
特許請求の範囲
【請求項1】
pH7~9に等電点を有する窒化ケイ素粉末。
続きを表示(約 230 文字)
【請求項2】
α化率が90~97%である、請求項1に記載の窒化ケイ素粉末。
【請求項3】
正のゼータ電位のうち最大となるpHが2~4である、請求項1に記載の窒化ケイ素粉末。
【請求項4】
pH1.5におけるゼータ電位が30~45mVである、請求項3に記載の窒化ケイ素粉末。
【請求項5】
請求項1~4のいずれか一項に記載の窒化ケイ素粉末を含む焼結原料を成形し焼成する、窒化ケイ素焼結体の製造方法。
発明の詳細な説明
【技術分野】
【0001】
本発明は、窒化ケイ素粉末、及び窒化ケイ素焼結体の製造方法に関する。
続きを表示(約 1,900 文字)
【背景技術】
【0002】
窒化ケイ素焼結体は、強度、硬度、靭性、耐熱性、耐食性、耐熱衝撃性等に優れた材料であることから、ダイカストマシン及び溶解炉等の各種産業用の部品、及び自動車部品の絶縁基板等に利用されている。窒化ケイ素焼結体の原料となる窒化ケイ素粉末としては、高品質の焼結体を得るために、α化率が高い窒化ケイ素粉末が用いられる。
【0003】
窒化ケイ素基板は、自動車及び工作機械等のパワーモジュール等の絶縁基板としての利用も検討されている。例えば、特許文献1では、アルミニウム-セラミックス接合基板に窒化ケイ素基板を用いることが提案されている。このような用途では、高い絶縁性及び放熱性を有することが求められる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0004】
特開2011-077546号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
本発明は、絶縁性及び放熱性に優れる焼結体を製造可能な新規の窒化ケイ素粉末、及びこれを用いた窒化ケイ素焼結体の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0006】
本発明は以下の態様を有する。
[1]pH7~9に等電点を有する窒化ケイ素粉末。
[2]α化率が90~97%である、[1]に記載の窒化ケイ素粉末。
[3]正のゼータ電位のうち最大となるpHが2~4である、[1]又は[2]に記載の窒化ケイ素粉末。
[4]pH1.5におけるゼータ電位が30~45mVである、[3]に記載の窒化ケイ素粉末。
[5]前記[1]~[4]のいずれか一項に記載の窒化ケイ素粉末を含む焼結原料を成形し焼成する、窒化ケイ素焼結体の製造方法。
【発明の効果】
【0007】
本発明によれば、絶縁性及び放熱性に優れる焼結体を製造可能な窒化ケイ素粉末を提供できる。
また本発明によれば、絶縁性及び放熱性に優れる窒化ケイ素焼結体を提供できる。
【発明を実施するための形態】
【0008】
本明細書における用語の意味及び定義は以下のとおりである。
「~」で表される数値範囲は、~の前後の数値を下限値及び上限値とする数値範囲を意味する。本明細書において、上限値及び下限値は任意に組み合わせることができる。
「等電点」とはゼータ電位がゼロになるときのpHである。
「ゼータ電位」とは、電気音響法(ESA(electrokinetic sonic amplitude)法)により測定される値である。電気音響法は、窒化ケイ素粉末の分散液に交流電圧を印加し、粒子の振動により発生する超音波のESAシグナルからゼータ電位を測定する。
【0009】
「平均粒子径」とは、対象粉末の粒度分布から求めた50%累積体積粒度(以下、「D
50
」ともいう。)を意味する。粒度分布は、JIS R 1629:1997「ファインセラミックス原料のレーザ回折・散乱法による 粒子径分布測定方法」に準拠して得ることができる。
「比表面積」とは、JIS R 1626:1996「ファインセラミックス粉体の 気体吸着BET法による比表面積の測定方法」に準拠し、窒素ガスを使用してBET1点法により測定される値である。
【0010】
「α化率」とは、窒化ケイ素全体に対するα-窒化ケイ素の相比率を意味し、下式1により算出される値である。
α化率(%)=[I
α(102)
+I
α(210)
]/[I
α(102)
+I
α(210)
+I
β(101)
+I
β(210)
]×100 …式1
前記式1中、I
α(102)
は窒化ケイ素のα相の(102)面の回折ピークの強度、I
α(210)
は窒化ケイ素のα相の(210)面の回折ピークの強度、I
β(101)
は窒化ケイ素のβ相の(102)面の回折ピークの強度、I
β(210)
は窒化ケイ素のβ相の(210)面の回折ピークの強度である。それぞれの回折ピークは、粉末X線回折測定により得られたXRDパターンから得ることができる。
(【0011】以降は省略されています)
この特許をJ-PlatPat(特許庁公式サイト)で参照する
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