TOP
|
特許
|
意匠
|
商標
特許ウォッチ
Twitter
他の特許を見る
10個以上の画像は省略されています。
公開番号
2025115769
公報種別
公開特許公報(A)
公開日
2025-08-07
出願番号
2024010407
出願日
2024-01-26
発明の名称
カルボニル鉄粉及びその製造方法
出願人
日鉄鉱業株式会社
,
国立大学法人東北大学
代理人
弁理士法人 もえぎ特許事務所
主分類
C01G
49/00 20060101AFI20250731BHJP(無機化学)
要約
【課題】工業的に実施が可能な、表面の付着物が除去されたカルボニル鉄粉の製造方法、及び、その方法により表面の付着物が除去されたカルボニル鉄粉を提供する。また、本発明は、カルボニル鉄粉表面の付着物が除去されたことにより、カルボニル鉄粉表面に酸化チタン膜が均一にコーティングされた磁性粒子を提供する。
【解決手段】カルボニル鉄粉を真空脱気雰囲気で、圧力50Pa以下で6時間以上継続して減圧処理する工程と、次いで、真空脱気雰囲気の圧力が大気圧1.0×10
5
Paとなるまで1時間以上かけて大気開放する工程とを備える、カルボニル鉄粉の製造方法を提供する。
【選択図】図1
特許請求の範囲
【請求項1】
カルボニル鉄粉を真空脱気雰囲気で、圧力50Pa以下で6時間以上継続して減圧処理する工程と、
前記真空脱気雰囲気の圧力が、大気圧1.0×10
5
Paとなるまで1時間以上かけて大気開放する工程とを備える、カルボニル鉄粉の製造方法。
続きを表示(約 510 文字)
【請求項2】
請求項1に記載の方法で得られたカルボニル鉄粉。
【請求項3】
前記カルボニル鉄粉の表面のN分率が2.0atm%以下である、請求項2に記載のカルボニル鉄粉。
【請求項4】
前記カルボニル鉄粉の粒子径が0.5~70μmである、請求項2又は3に記載のカルボニル鉄粉。
【請求項5】
前記カルボニル鉄粉の変動指数CV値が0.3~0.6である、請求項2又は3に記載のカルボニル鉄粉。
【請求項6】
前記カルボニル鉄粉の表面に不活性材料が被覆された粉体組成物。
【請求項7】
前記不活性材料が、酸化チタン、酸化ケイ素、酸化亜鉛、リン酸アルミニウム、酸化グラフェンの少なくともいずれか一つである請求項6に記載の粉体組成物。
【請求項8】
請求項2に記載されたカルボニル鉄粉からなるコピー用トナー。
【請求項9】
請求項2に記載されたカルボニル鉄粉からなる磁性インク。
【請求項10】
請求項2に記載されたカルボニル鉄粉からなるMR流体。
(【請求項11】以降は省略されています)
発明の詳細な説明
【技術分野】
【0001】
本発明は、カルボニル鉄粉及びその製造方法に関する。
続きを表示(約 3,100 文字)
【背景技術】
【0002】
微小サイズのカルボニル鉄粒子(以降、「カルボニル鉄粉」ともいう)は、磁性インク、磁性トナー用顔料粉体、プラスチック、紙用磁性フィラー粉体、化粧料用粉体、MR流体、光触媒粉体等多種の目的の磁性粒子として広く使用されている。また、磁性粒子の懸濁液であるMR流体(MRFs)は、特有のレオロジー特性により、ダンパー、ブレーキ、クラッチ、バルブなどに用いられている。しかしながら、カルボニル鉄粉は空気あるいは湿気にさらされると簡単に酸化し、磁性、磁気レオロジー特性が低下する。そこで、表面酸化を防ぐために、不活性材料をカルボニル鉄粒子の表面に被覆する方法が知られている。不活性材料としては、例えば、空気及び湿気中で安定している酸化チタン、酸化ケイ素 、酸化亜鉛、リン酸アルミニウム、酸化グラフェンが挙げられる。金属粉体に酸化チタン膜を被覆する方法としては、テトライソプロポキシチタン溶液を使用した方法(特許文献1:特許第4804720号公報)、pH7.0~12.0の緩衝液に基体粒子を懸濁して懸濁液とし、ペルオキソチタン酸を含む過酸化水素-アンモニア混合液を当該懸濁液に滴下することによって、当該懸濁液中で酸化チタンを生成する反応を起こさせる方法(特許文献2:特許第4205582号公報)がある。
【0003】
特許文献1,2に記載された方法により、カルボニル鉄粉に酸化チタン膜を被覆することができたが、一部のカルボニル鉄粉には、酸化チタン膜を均一に被覆することができず、これらの方法には改善の余地があった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0004】
特許第4804720号公報
特許第4205582号公報
【非特許文献】
【0005】
山本秀之,「めっき前処理における脱脂洗浄技術」,表面技術,69巻,9号,376-379(2018年)
「The crystal sttuctures of carbonyl iron powder revised using in situ synchrotron XRPD」、 Zeitschrift fur Kristallographie - Crystalline Materials 232(12)、(January 2017)
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0006】
酸化チタン膜を均一に被覆することができない要因として、カルボニル鉄粉の表面に付着物や酸化物があることが考えられ、当該表面付着物は、カルボニル鉄粉の合成プロセスに由来する窒素を含む揮発性不純物であると思われた(非特許文献2)。
カルボニル鉄粉は、一般的に、一酸化炭素(CO)ガスを使用し、250℃~300℃の高温および高圧域(例:200bar)で鉄ペンタカルボニルFe(CO)
5
を分解して合成される。COのCO
2
あるいはグラファイトへの不均化は、分解と同時に起こるため、NH
3
ガスはCOの不均化を最小限に抑えるための抑制剤として使用される。したがって、抑制剤として使用されるNH
3
ガス由来の窒素成分がカルボニル鉄粉の表面に付着していると考えられた。
【0007】
原料鉄粉等の金属表面の洗浄処理(脱脂処理)は、一般に、水酸化ナトリウム水溶液による表面洗浄が行われる(非特許文献1)。しかし、金属表面の一般的な脱脂処理では、カルボニル鉄粉表面の微量な付着物を除去することが困難であった。
【0008】
上述のように、これまでの金属表面洗浄処理では、カルボニル鉄粉表面の付着物を除去することが困難であった。このため、表面に付着物があるカルボニル鉄粉に酸化チタン膜を均一にコーティングすることが難しかった。また、基材となるカルボニル鉄粉の粒子径は、メジアン径が約5μmと微小であるため、加熱による表面付着物脱離時のリスク(発火、発熱)が高く、付着物除去の工業的実施は不向きであった。
したがって、表面の付着物が除去されたカルボニル鉄粉、及び、工業的に実施が可能な、表面の付着物が除去されたカルボニル鉄粉の製造方法が求められていた。
以上より、本発明は、工業的に実施が可能な、表面の付着物が除去されたカルボニル鉄粉の製造方法、及び、その方法により表面の付着物が除去されたカルボニル鉄粉を提供するものである。また、本発明は、表面の付着物が除去されたカルボニル鉄粉を基材とし、当該カルボニル鉄粉表面に酸化チタン膜が均一に被覆された磁性粒子を提供するものである。
【課題を解決するための手段】
【0009】
上記課題を解決するための手段として、本発明では、次の構成からなる手段を採用する。
〈1〉カルボニル鉄粉を真空脱気雰囲気で、圧力50Pa以下で6時間以上継続して減圧処理する工程と、真空脱気雰囲気の圧力が、大気圧1.0×10
5
Paとなるまで1時間以上かけて大気開放する工程とを備える、カルボニル鉄粉の製造方法。
〈2〉〈1〉に記載の方法で得られたカルボニル鉄粉。
〈3〉カルボニル鉄粉の表面のN分率が2.0atm%以下である、〈2〉に記載のカルボニル鉄粉。
〈4〉カルボニル鉄粉の粒子径が0.5~70μmである、〈2〉又は〈3〉に記載のカルボニル鉄粉。
〈5〉カルボニル鉄粉の変動指数CV値が0.3~0.6である、〈2〉又は〈3〉に記載のカルボニル鉄粉。
〈6〉カルボニル鉄粉の表面に不活性材料が被覆された粉体組成物。
〈7〉不活性材料が、酸化チタン、酸化ケイ素、酸化亜鉛、リン酸アルミニウム、酸化グラフェンの少なくともいずれか一つである〈6〉に記載の粉体組成物。
〈8〉〈2〉に記載されたカルボニル鉄粉からなるコピー用トナー。
〈9〉〈2〉に記載されたカルボニル鉄粉からなる磁性インク。
〈10〉〈2〉に記載されたカルボニル鉄粉からなるMR流体。
〈11〉〈2〉に記載のカルボニル鉄粉の表面に、酸化チタン膜を有する磁性粒子。
〈12〉酸化開始温度が437.1℃以上である、〈11〉に記載された酸化チタン膜を有する磁性粒子。
〈13〉カルボニル鉄粉を真空脱気雰囲気で、圧力50Pa以下で6時間以上継続して減圧処理する工程と、真空脱気雰囲気の圧力が、大気圧1.0×10
5
Paとなるまで1時間以上かけて大気開放し、カルボニル鉄粉を得る工程と、さらにカルボニル鉄粉の表面に酸化チタン膜を被覆し、磁性粒子を得る工程を備える、磁性粒子の製造方法。
【発明の効果】
【0010】
本発明によれば、工業的に、カルボニル鉄粉表面の付着物を除去することができ、表面の付着物が除去されたカルボニル鉄粉を提供することができる。また、本発明は、カルボニル鉄粉表面の付着物を除去することで、カルボニル鉄粉表面に酸化チタン膜を均一に被覆することができる。これにより、酸化チタン膜が十分に被覆されていないカルボニル鉄粉に比べて、抗酸化安定性を向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
(【0011】以降は省略されています)
特許ウォッチbot のツイートを見る
この特許をJ-PlatPat(特許庁公式サイト)で参照する
関連特許
東西電工株式会社
オゾン発生装置
11日前
株式会社INPEX
水素発生方法
11日前
大成建設株式会社
炭酸カルシウムの製造方法
13日前
株式会社仁科マテリアル
グラフェン前駆体およびそれを用いるグラフェンの製造方法
18日前
東ソー株式会社
粉末及びその製造方法
12日前
日本軽金属株式会社
水素化ホウ素カリウムの製造方法
5日前
トヨタ自動車株式会社
ガス生成装置
3日前
住友ゴム工業株式会社
変性シリカ、ゴム組成物及びタイヤ
10日前
株式会社INPEX
組成物、水素発生剤及び水素発生方法
11日前
三井金属鉱業株式会社
硫化リチウムの製造方法及び製造装置
17日前
デンカ株式会社
窒化ケイ素を含む微粉末及び窒化ケイ素を含む微粉末の製造方法
今日
デンカ株式会社
窒化ケイ素を含む微粉末及び窒化ケイ素を含む微粉末の製造方法
今日
デンカ株式会社
窒化ケイ素を含む微粉末及び窒化ケイ素を含む微粉末の製造方法
今日
デンカ株式会社
窒化ケイ素を含む微粉末及び窒化ケイ素を含む微粉末の製造方法
今日
宇部マテリアルズ株式会社
酸化マグネシウム粉末及びその製造方法
13日前
DiaM株式会社
硫酸及び酸化剤の濃度測定方法、濃度測定装置及びこれを用いた濃度測定システム
11日前
日鉄鉱業株式会社
カルボニル鉄粉及びその製造方法
18日前
キヤノン株式会社
オゾンを含有した液体、オゾンを含有した液体の製造方法
5日前
住友化学株式会社
一酸化炭素の製造方法、二酸化炭素還元電極及び二酸化炭素還元装置
3日前
東ソー株式会社
MFI型ゼオライト及びその製造方法
18日前
三菱ケミカル株式会社
ゼオライト、樹脂組成物、液状封止剤、アンダーフィル材、封止材の製造方法及び電子デバイス
12日前
個人
水素製造方法
3日前
学校法人 関西大学
MAX相化合物の製造方法
17日前
扶桑化学工業株式会社
コロイダルシリカ及びその製造方法
10日前
キヤノン株式会社
気相へのオゾンの飛散を抑制したオゾンを含有した液体、オゾンを含有した液体の製造方法
5日前
株式会社豊田中央研究所
ケミカルルーピングシステム用組成物およびLa-Co-Al系複合酸化物をケミカルルーピングシステムに用いる方法
3日前
三井金属鉱業株式会社
金属炭化物の製造方法、金属炭化物粉末、及び金属炭化物中間体分散液
10日前
artience株式会社
カーボンナノチューブ分散組成物、およびそれを用いた樹脂組成物、電極膜、二次電池、車両
5日前
テイオン・ゲゼルシャフト・ミット・ベシュレンクテル・ハフツング
アルカリ/アルカリ土類金属との反応前のカルコゲニド系電極の予備膨張のための製造方法及び作用原理
12日前
三星エスディアイ株式会社
炭酸リチウムの製造方法、それを利用して製造される炭酸リチウム、及びそれを利用して製造される正極活物質を含むリチウム二次電池
4日前
日鉄エンジニアリング株式会社
溶接システム
3日前
ニューロジーエックス エルエルシー
アルツハイマー病についての同調させた細胞周期遺伝子発現試験および関連治療法
10日前
ザ ユナイテッド ステイツ オブ アメリカ, アズ リプレゼンテッド バイ ザ セクレタリー, デパートメント オブ ヘルス アンド ヒューマン サービシーズ
多様な固形腫瘍を処置するためのB7H3(CD276)を標的とする高親和性ナノボディ
18日前
オレゴン ヘルス アンド サイエンス ユニバーシティ
B型肝炎ウイルス特異的なT細胞応答
12日前
住友化学株式会社
積層体の製造方法及び積層体
3日前
他の特許を見る