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公開番号2025093197
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-06-23
出願番号2023208788
出願日2023-12-11
発明の名称極端紫外光生成装置及び電子デバイスの製造方法
出願人ギガフォトン株式会社
代理人個人
主分類G03F 7/20 20060101AFI20250616BHJP(写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ)
要約【課題】極端紫外光の出力が不安定となることを抑制し得る極端紫外光生成装置を提供する。
【解決手段】極端紫外光生成装置は、内部空間に供給されるターゲット物質にレーザ光が照射されることで極端紫外光を生成するチャンバと、プラズマ生成領域に向かってターゲット物質のドロップレットを供給するターゲット供給部と、内部空間に配置され、極端紫外光を集光する集光ミラーと、プラズマ生成領域から集光ミラーに向けて極端紫外光が通過する第1開口、第2開口が設けられ、プラズマ生成領域を囲うデブリシールドと、、内部空間にガスを供給するガス供給口と、デブリシールドで囲われる空間内のガスを排気する排気口と、を備え、第2開口の少なくとも一部は、レーザ光の軌道とドロップレットの軌道とを含む平面を基準として、第1開口の少なくとも一部と対称な位置に設けられ、内部空間内のガスは、第1開口及び第2開口から空間内に流入する。
【選択図】図8
特許請求の範囲【請求項１】
内部空間のプラズマ生成領域に供給されるターゲット物質にレーザ光が照射されることで極端紫外光を生成するチャンバと、
前記プラズマ生成領域に向かって前記ターゲット物質のドロップレットを供給するターゲット供給部と、
前記内部空間に配置され、前記極端紫外光を集光する集光ミラーと、
前記プラズマ生成領域から前記集光ミラーに向けて前記極端紫外光が通過する第１開口、及び第２開口が設けられ、前記プラズマ生成領域を囲うデブリシールドと、
前記チャンバに設けられ、前記内部空間にガスを供給するガス供給口と、
前記デブリシールドで囲われる空間内のガスを排気する排気口と、
を備え、
前記第２開口の少なくとも一部は、前記レーザ光の軌道と前記ドロップレットの軌道とを含む平面を基準として、前記第１開口の少なくとも一部と対称な位置に設けられ、
前記内部空間内のガスは、前記第１開口及び前記第２開口から前記空間内に流入する
極端紫外光生成装置。
続きを表示（約 700 文字）【請求項２】
請求項１に記載の極端紫外光生成装置であって、
前記デブリシールドは、長手方向が前記ガスの排気方向に延在する筒状である。
【請求項３】
請求項２に記載の極端紫外光生成装置であって、
前記ターゲット供給部は、前記ドロップレットを前記長手方向に沿って供給する。
【請求項４】
請求項２に記載の極端紫外光生成装置であって、
前記レーザ光は、前記長手方向に沿って照射される。
【請求項５】
請求項２に記載の極端紫外光生成装置であって、
前記デブリシールドの内径は９０ｍｍ以上１６０ｍｍ以下である。
【請求項６】
請求項１に記載の極端紫外光生成装置であって、
前記第１開口と前記第２開口とは、前記平面を鏡映面として鏡像対称である。
【請求項７】
請求項１に記載の極端紫外光生成装置であって、
前記第１開口と前記第２開口とからは、同量の前記ガスが流入する。
【請求項８】
請求項１に記載の極端紫外光生成装置であって、
前記第１開口と前記第２開口とは、同面積である。
【請求項９】
請求項１に記載の極端紫外光生成装置であって、
前記第１開口と前記第２開口とは、同形状である。
【請求項１０】
請求項１に記載の極端紫外光生成装置であって、
前記第１開口及び前記第２開口は、前記デブリシールドに設けられる前記排気口を除く他の開口よりも面積が大きい。
（【請求項１１】以降は省略されています）
発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本開示は、極端紫外光生成装置及び電子デバイスの製造方法に関する。
続きを表示（約 2,900 文字）【背景技術】
【０００２】
近年、半導体プロセスの微細化に伴って、半導体プロセスの光リソグラフィにおける転写パターンの微細化が急速に進展している。次世代においては、１０ｎｍ以下の微細加工が要求されるようになる。このため、波長約１３ｎｍの極端紫外（ＥＵＶ：ＥｘｔｒｅｍｅＵｌｔｒａＶｉｏｌｅｔ）光を生成するための装置と縮小投影反射光学系とを組み合わせた半導体露光装置の開発が期待されている。
【０００３】
ＥＵＶ光生成装置としては、ターゲット物質にレーザ光を照射することによって生成されるプラズマが用いられるＬａｓｅｒＰｒｏｄｕｃｅｄＰｌａｓｍａ（ＬＰＰ）式の装置の開発が進んでいる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
米国特許第６４９３４２３号明細書
米国特許第７７６３８７１号明細書
特開平０９－２４５９９２号
【概要】
【０００５】
本開示の一態様による極端紫外光生成装置は、内部空間のプラズマ生成領域に供給されるターゲット物質にレーザ光が照射されることで極端紫外光を生成するチャンバと、プラズマ生成領域に向かってターゲット物質のドロップレットを供給するターゲット供給部と、内部空間に配置され、極端紫外光を集光する集光ミラーと、プラズマ生成領域から集光ミラーに向けて極端紫外光が通過する第１開口、及び第２開口が設けられ、プラズマ生成領域を囲うデブリシールドと、チャンバに設けられ、内部空間にガスを供給するガス供給口と、デブリシールドで囲われる空間内のガスを排気する排気口と、を備え、第２開口の少なくとも一部は、レーザ光の軌道とドロップレットの軌道とを含む平面を基準として、第１開口の少なくとも一部と対称な位置に設けられ、内部空間内のガスは、第１開口及び第２開口から空間内に流入してもよい。
【０００６】
また、本開示の一態様による電子デバイスの製造方法は、内部空間のプラズマ生成領域に供給されるターゲット物質にレーザ光が照射されることで極端紫外光を生成するチャンバと、プラズマ生成領域に向かってターゲット物質のドロップレットを供給するターゲット供給部と、内部空間に配置され、極端紫外光を集光する集光ミラーと、プラズマ生成領域から集光ミラーに向けて極端紫外光が通過する第１開口、及び第２開口が設けられ、プラズマ生成領域を囲うデブリシールドと、チャンバに設けられ、内部空間にガスを供給するガス供給口と、デブリシールドで囲われる空間内のガスを排気する排気口と、を備え、第２開口の少なくとも一部は、レーザ光の軌道とドロップレットの軌道とを含む平面を基準として、第１開口の少なくとも一部と対称な位置に設けられ、内部空間内のガスは、第１開口及び第２開口から空間内に流入する極端紫外光生成装置によって極端紫外光を露光装置に出力し、電子デバイスを製造するために、露光装置内で感光基板上に極端紫外光を露光することを含んでもよい。
【０００７】
また、本開示の他の一態様による電子デバイスの製造方法は、内部空間のプラズマ生成領域に供給されるターゲット物質にレーザ光が照射されることで極端紫外光を生成するチャンバと、プラズマ生成領域に向かってターゲット物質のドロップレットを供給するターゲット供給部と、内部空間に配置され、極端紫外光を集光する集光ミラーと、プラズマ生成領域から集光ミラーに向けて極端紫外光が通過する第１開口、及び第２開口が設けられ、プラズマ生成領域を囲うデブリシールドと、チャンバに設けられ、内部空間にガスを供給するガス供給口と、デブリシールドで囲われる空間内のガスを排気する排気口と、を備え、第２開口の少なくとも一部は、レーザ光の軌道とドロップレットの軌道とを含む平面を基準として、第１開口の少なくとも一部と対称な位置に設けられ、内部空間内のガスは、第１開口及び第２開口から空間内に流入する極端紫外光生成装置によって生成される極端紫外光をマスクに照射してマスクの欠陥を検査し、検査の結果を用いてマスクを選定し、選定したマスクに形成されたパターンを感光基板上に露光転写することを含んでもよい。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
本開示のいくつかの実施形態を、単なる例として、添付の図面を参照して以下に説明する。
図１は、電子デバイスの製造装置の全体の概略構成例を示す模式図である。
図２は、図１に示す電子デバイスの製造装置とは別の電子デバイスの製造装置の全体の概略構成例を示す模式図である。
図３は、比較例の極端紫外光生成装置の全体の概略構成例を示す模式図である。
図４は、比較例におけるドロップレットの軌道に垂直な極端紫外光生成装置の断面を示す模式図である。
図５は、比較例におけるドロップレットの軌道に沿った極端紫外光生成装置の断面を示す模式図である。
図６は、ドロップレットの進行及びデブリシールド内におけるガスの流れの様子を示す図である。
図７は、ドロップレットにレーザ光が照射された直後におけるドロップレットの進行及びデブリシールド内におけるガスの流れの様子を示す図である。
図８は、実施形態１の極端紫外光生成装置のチャンバをデブリシールドの長手方向に垂直な断面で示す模式図である。
図９は、実施形態１の極端紫外光生成装置のチャンバ内の一部の構成をデブリシールドの長手方向に沿う断面で示す模式図である。
図１０は、実施形態２の極端紫外光生成装置のチャンバをデブリシールドの長手方向に沿う断面で示す模式図である。
図１１は、実施形態２の極端紫外光生成装置のチャンバ内の一部の構成をデブリシールドの長手方向に垂直な断面で示す模式図である。
【実施形態】
【０００９】
１．概要
２．電子デバイスの製造装置の説明
３．比較例の極端紫外光生成装置の説明
３．１構成
３．２動作
３．３課題
４．実施形態１の極端紫外光生成装置の説明
４．１構成
４．２動作
４．３作用・効果
５．実施形態２の極端紫外光生成装置の説明
５．１構成
５．２動作
５．３作用・効果
【００１０】
以下、本開示の実施形態について、図面を参照しながら詳しく説明する。以下に説明される実施形態は、本開示のいくつかの例を示すものであって、本開示の内容を限定するものではない。また、各実施形態で説明される構成及び動作の全てが本開示の構成及び動作として必須であるとは限らない。なお、同一の構成要素には同一の参照符号を付して、重複する説明を省略する。
（【００１１】以降は省略されています）

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