特許ウォッチ

公開番号2025087312
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-06-10
出願番号2023201877
出願日2023-11-29
発明の名称基板洗浄装置及び基板の洗浄方法
出願人シャープディスプレイテクノロジー株式会社
代理人弁理士法人WisePlus
主分類H01L 21/304 20060101AFI20250603BHJP(基本的電気素子)
要約【課題】シンプルな構造でありながら洗浄ムラを抑えることができる基板洗浄装置及び該基板洗浄装置を用いた基板の洗浄方法を提供する。
【解決手段】
モーターの回転軸上に接続された回転可能なステージと、前記ステージ上に設けられた可動式の基板ガイドとを有する回転部、及び、前記回転部の上方に設けられ、前記ステージ上に載置された基板に対して洗浄液を吐出する洗浄ノズルを備える基板洗浄装置。
【選択図】図2

特許請求の範囲【請求項１】
モーターの回転軸上に接続された回転可能なステージと、前記ステージ上に設けられた可動式の基板ガイドとを有する回転部、及び、
前記回転部の上方に設けられ、前記ステージ上に載置された基板に対して洗浄液を吐出する洗浄ノズル
を備える基板洗浄装置。
続きを表示（約 500 文字）【請求項２】
前記ステージは、重心センサーと前記ステージの平面方向に可動する錘を備える、請求項１記載の基板洗浄装置。
【請求項３】
前記洗浄ノズルは、１組のレールを架橋して前記ステージ上を平面方向に横断するように配置され、
前記レールに沿って可動する、請求項１又は２記載の基板洗浄装置。
【請求項４】
前記洗浄ノズルは、洗浄する基板の対角線を超える長さを有するスリット形状の吐出口を有する、請求項１又は２記載の基板洗浄装置。
【請求項５】
複数の前記洗浄ノズルを備える、請求項１又は２記載の基板洗浄装置。
【請求項６】
請求項１又は２記載の基板洗浄装置を用いた基板の洗浄方法であって、
前記基板ガイドにより規制された前記ステージ上の位置に基板を設置する工程と、
前記回転部を回転させながら前記洗浄ノズルから前記基板に対して前記洗浄液を吐出する基板回転洗浄処理を行う工程と、
前記基板ガイドを移動させることで前記ステージ上の前記基板の位置を変更するオフセット工程とを有する基板の洗浄方法。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
以下の開示は、基板洗浄装置及び基板の洗浄方法に関する。
続きを表示（約 2,400 文字）【背景技術】
【０００２】
半導体装置や液晶表示装置等の基板の製造では基板の各製造工程によって生じる異物を除去するために、洗浄ノズルから基板上に洗浄液を吐出しつつ基板を回転させることで基板を洗浄する工程が行われる。しかしながら、このような基板を回転させる洗浄方法は、洗浄液にかかる遠心力や洗浄液の滞留等によってステージ上に配置された基板の回転中心を起点とした渦巻き状の洗浄ムラが発生し、不良品の原因となるという問題があった。
【０００３】
この問題に対して、複数の洗浄ノズルを用いて２つのノズルをそれぞれ移動させることで洗浄ムラを低減することが提案されている（例えば、特許文献１）。特許文献１の基板洗浄装置では基板中央部と基板端縁部の２か所にノズルを設けこれらを制御することで洗浄ムラを抑えることができる。また、各ノズルで吐出する洗浄液を空気との混合物とし、空気との混合方法をノズルごとに変えることで基板へのダメージを抑えることもできる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
特開２００６－９３４９７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、特許文献１のような基板洗浄装置は洗浄ムラを抑えることはできるものの、複数のノズルを洗浄時間や洗浄領域に応じて移動させたり、吐出する洗浄液を複数用意したりする必要があるため機構が複雑なものとなるという問題があった。
【０００６】
本発明は、上記現状に鑑みてなされたものであり、シンプルな構造でありながら洗浄ムラを抑えることができる基板洗浄装置及び該基板洗浄装置を用いた基板の洗浄方法を提供することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本開示は、以下の開示１～６から構成される。以下、本開示について詳説する。
［開示１］
モーターの回転軸上に接続された回転可能なステージと、前記ステージ上に設けられた可動式の基板ガイドとを有する回転部、及び、
前記回転部の上方に設けられ、前記ステージ上に載置された基板に対して洗浄液を吐出する洗浄ノズル
を備える基板洗浄装置。
［開示２］
前記ステージは、重心センサーと前記ステージの平面方向に可動する錘を備える、開示１記載の基板洗浄装置。
［開示３］
前記洗浄ノズルは、１組のレールを架橋して前記ステージ上を平面方向に横断するように配置され、
前記レールに沿って可動する、開示１又は２記載の基板洗浄装置。
［開示４］
前記洗浄ノズルは、洗浄する基板の対角線を超える長さを有するスリット形状の吐出口を有する、開示１又は２記載の基板洗浄装置。
［開示５］
複数の前記洗浄ノズルを備える、開示１又は２記載の基板洗浄装置。
［開示６］
開示１～５のいずれかに記載の基板洗浄装置を用いた基板の洗浄方法であって、
前記基板ガイドにより規制された前記ステージ上の位置に基板を設置する工程と、
前記回転部を回転させながら前記洗浄ノズルから前記基板に対して前記洗浄液を吐出する基板回転洗浄処理を行う工程と、
前記基板ガイドを移動させることで前記ステージ上の前記基板の位置を変更するオフセット工程とを有する基板の洗浄方法。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、シンプルな構造でありながら洗浄ムラを抑えることができる基板洗浄装置及び該基板洗浄装置を用いた基板の洗浄方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
実施形態１に係る基板洗浄装置の回転部の一例を表した側面図である。
実施形態１に係る基板洗浄装置の一例を表した上面図である。
コンピューターシミュレーションによって従来の基板洗浄装置を用いて基板を洗浄した後の異物の分布を表したイメージ図である。
コンピューターシミュレーションによって本実施形態の基板洗浄装置を用いて基板を洗浄した後の異物の分布を表したイメージ図である。
図６～９に示す移動機構におけるステージの上面図である。
基板ガイドの移動機構の一例を表した上面図である。
基板ガイドの移動機構の一例を表した側面図である。
基板ガイドの移動機構の更なる一例を表した上面図である。
基板ガイドの移動機構の更なる一例を表した側面図である。
実施形態２に係る基板洗浄装置の一例を表した上面図である。
実施形態２に係る基板洗浄装置のステージの一例を表した模式図である。
実施形態２に係る基板洗浄装置の重心位置の制御方法を説明する模式図である。
実施形態２に係る基板洗浄装置の重心位置の制御方法の一例を表したフローチャートである。
実施形態３に係る基板洗浄装置の一例を表した上面図である。
実施形態３に係る基板洗浄装置の一例を表した側面図である。
実施形態４に係る基板洗浄装置の一例を表した上面図である。
実施形態５に係る基板洗浄装置の一例を表した上面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
以下に実施形態を掲げ、本発明について図面を参照して更に詳細に説明するが、本発明はこれらの実施形態のみに限定されるものではない。また、各実施形態の構成は、本発明の要旨を逸脱しない範囲において適宜組み合わされてもよいし、変更されてもよい。
（【００１１】以降は省略されています）

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