TOP特許意匠商標
特許ウォッチ Twitter
公開番号2025083307
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-05-30
出願番号2024194093
出願日2024-11-06
発明の名称多孔質体の製造方法及び多孔質体
出願人河西工業株式会社,長瀬産業株式会社
代理人個人,個人
主分類C01F 11/18 20060101AFI20250523BHJP(無機化学)
要約【課題】より改善された、多孔質体の製造方法及び多孔質体を提供する。
【解決手段】ウニ殻を粉砕する第1工程と、第1工程において粉砕された粉砕物を、650度以上720度以下の温度で、二酸化炭素濃度が40%以上、且つ、酸素濃度20%以上の雰囲気で焼成する第2工程と、を備えることを特徴とする多孔質体の製造方法。
【選択図】図2
特許請求の範囲【請求項1】
炭酸カルシウムを主成分とし孔内に有機物が存在した状態の多孔質体を粉砕する第1工程と、
前記第1工程において粉砕された粉砕物を、650度以上720度以下の温度で、二酸化炭素濃度が40%以上、且つ、酸素濃度20%以上の雰囲気で焼成する第2工程と、
を備える多孔質体の製造方法。
続きを表示(約 280 文字)【請求項2】
請求項1に記載の製造方法であって、前記多孔質体は、90質量%以上の炭酸カルシウムを含む、
多孔質体の製造方法。
【請求項3】
200倍での観察像において厚さ3μm以上7μm以下となる壁によって囲まれる孔が、100μm四方において50個以上90個以下で存在すると共に、これら孔の平均孔径が2.0μm以上31.3μm以下となる多孔質体であって、
5000倍での観察像における5μm四方において長さ30nm以上170nm以下の亀裂が2本以上存在すると共に、炭酸カルシウムを90質量%以上有する
多孔質体。

発明の詳細な説明【技術分野】
【0001】
本発明は、多孔質体の製造方法及び多孔質体に関する。
続きを表示(約 1,400 文字)【背景技術】
【0002】
従来、ウニ殻を焼成して、炭酸カルシウムを主成分とする純白かつ微細な粉末を得る方法が提案されている(例えば特許文献1参照)。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
特開2009-126777号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
ここで、炭酸カルシウムは揮発性有機化合物(VOC:Volatile Organic Compounds)の吸着効果や消臭効果があることが知られている。特に、さんごの骨格、ウニ殻等は、自然物由来の炭酸カルシウムの原料として用いられ、粉砕して粉体にしたとしても微細な多孔質構造を維持することが知られている。これらは、多孔質構造を有しない炭酸カルシウムの粉体と比較して比表面積が大きく、より高いVOCの吸着効果や消臭効果が見込めるものである。
【0005】
しかし、特許文献1に記載の炭酸カルシウムの製造方法は、二次焼成によって酸化カルシウムを生成させる工程を含み、製造方法に改善の余地があった。炭酸カルシウムは、空気中において550度を超える温度に加熱されることで、熱分解が進行すると考えられる。そのため、特許文献1に記載の炭酸カルシウムの製造方法では、熱分解が進行したことにより、酸化カルシウムが不純物として最終生成物に多く含まれる可能性があった。
【0006】
本発明はこのような従来の課題を解決するためになされたものであり、その目的とするところは、より改善された、炭酸カルシウムの多孔質体の製造方法及び多孔質体を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【0007】
係る課題を解決するために、本開示に係る多孔質体の製造方法は、炭酸カルシウムを主成分とし孔内に有機物が存在した状態の多孔質体を粉砕する第1工程と、前記第1工程において粉砕された粉砕物を、650度以上720度以下の温度で、二酸化炭素濃度が40%以上、且つ、酸素濃度20%以上の雰囲気で焼成する第2工程と、を備える。
【0008】
また、本開示に係る多孔質体は、200倍での観察像において厚さ3μm以上7μm以下となる壁によって囲まれる孔が、100μm四方において50個以上90個以下で存在すると共に、これら孔の平均孔径が2.0μm以上31.3μm以下となる多孔質体であって、5000倍での観察像における5μm四方において長さ30nm以上170nm以下の亀裂が2本以上存在すると共に、炭酸カルシウムを90質量%以上有する。
【発明の効果】
【0009】
本発明によれば、より改善された、炭酸カルシウムの多孔質体の製造方法及び多孔質体を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【0010】
図1は、本実施形態に係る多孔質体の製造方法によって製造される多孔質体の走査型電子顕微鏡(SEM)の写真である。
図2は、本実施形態に係る多孔質体の製造方法を示す工程図である。
図3は、多孔質体の製造方法を示す実施例及び比較例を示す図表である。
図4は、XRD分析の詳細を示すグラフである。
【発明を実施するための形態】
(【0011】以降は省略されています)

この特許をJ-PlatPatで参照する

関連特許

河西工業株式会社
多孔質体の製造方法及び多孔質体
2日前
株式会社トクヤマ
酸性次亜塩素酸水の製造方法
20日前
伯東株式会社
安定性が改善された次亜臭素酸溶液
17日前
岩谷産業株式会社
重水素の製造設備
18日前
株式会社日本触媒
炭素材料粒子およびその製造方法
2日前
株式会社タクマ
アンモニア改質燃焼システム
3日前
国立大学法人東海国立大学機構
水素の製造装置
17日前
御国色素株式会社
導電性炭素材料分散液及びその製造方法
3日前
恵和株式会社
活性炭及びその製造方法
24日前
栗田工業株式会社
活性炭の再生方法及び再生システム
16日前
花王株式会社
中空シリカ粒子
1か月前
国立大学法人広島大学
水素の製造方法
17日前
セトラスホールディングス株式会社
酸化マグネシウム
3日前
セトラスホールディングス株式会社
酸化マグネシウム
3日前
花王株式会社
中空シリカ粒子の製造方法
1か月前
花王株式会社
中空シリカ粒子の製造方法
1か月前
デンカ株式会社
アルミナ粉末、樹脂組成物、及び接着剤
1か月前
デンカ株式会社
アルミナ粉末、樹脂組成物、及び接着剤
1か月前
兵庫県公立大学法人
水素貯蔵燃料及びその製造方法
18日前
河西工業株式会社
多孔質体の製造方法及び多孔質体
2日前
artience株式会社
炭素材料分散液、電極スラリー、電極、及び二次電池の製造方法
19日前
トーホーテック株式会社
水素化チタン粉末及び、活性金属ろう材
16日前
株式会社フジミインコーポレーテッド
リン酸チタン粉体の製造方法
16日前
三菱重工業株式会社
炉設備
5日前
湖北融通高科先進材料集団股フン有限公司
酸化リチウム材料の製造方法及び酸化リチウム材料
10日前
公立大学法人大阪
過酸化水素付加体、及び、過酸化水素付加体の使用方法
1か月前
ケイワート・サイエンス株式会社
ケイ素化合物水溶液の製造方法
4日前
東ソー株式会社
窒化ガリウム粒子およびその製造方法
12日前
多摩化学工業株式会社
コロイダルシリカ及びコロイダルシリカの製造方法
20日前
セイコーエプソン株式会社
ガーネット型結晶および前駆体溶液
13日前
三菱マテリアル株式会社
酸化錫粒子分散液、および、酸化錫粒子積層膜の製造方法
13日前
株式会社デンソー
パイロクロア型酸化物の製造方法
20日前
東ソー株式会社
4-アンモニオピぺリジニウム塩及びその用途
5日前
湖北融通高科先進材料集団股フン有限公司
炭素被覆リン酸マンガン鉄リチウム材料、製造方法及びその適用
12日前
株式会社ナイスシーズ
微酸性次亜塩素酸水製造装置及び微酸性次亜塩素酸水製造方法
10日前
大阪ガスケミカル株式会社
分子篩炭素及びその製造方法、並びにガス分離装置
17日前
続きを見る