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公開番号2025081419
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-05-27
出願番号2025021123,2023521672
出願日2025-02-12,2020-10-09
発明の名称電子デバイスコンポーネント洗浄剤
出願人ヘンケル・アクチェンゲゼルシャフト・ウント・コムパニー・コマンディットゲゼルシャフト・アウフ・アクチェン,Henkel AG & Co. KGaA
代理人個人
主分類C11D 1/72 20060101AFI20250520BHJP(動物性または植物性油,脂肪,脂肪性物質またはろう;それに由来する脂肪酸;洗浄剤;ろうそく)
要約【課題】電子コンポーネントの小さなボアホール内に付着した望ましくないポリマー材料の堆積物を除去するのに有用な洗浄剤、並びにそのようなコンポーネントの洗浄を実行するための装置及び方法の提供。
【解決手段】A)水、好ましくは脱イオン水;B)アルカリ源;C)前述の成分のいずれとも異なる、洗剤ビルダー;D)前述の成分のいずれとも異なるキレート剤;E)非イオン性界面活性剤、望ましくは非イオン性界面活性剤の組み合わせ:E1)洗浄剤;E2)消泡剤;及びE3)湿潤剤;F)前述の成分のいずれとも異なる、アニオン性界面活性剤;G)前述の成分のいずれとも異なる分散剤、好ましくはアニオン性ポリマー分散剤;H)のヒドロトロープ、好ましくは前述の成分のいずれとも異なる芳香族ヒドロトロープ;I)前述の成分のいずれとも異なる有機溶媒を含む、本質的にからなる、又はから構成される電子デバイスコンポーネント用の洗浄剤組成物。
【選択図】なし
特許請求の範囲【請求項１】
Ａ）水、好ましくは脱イオン水；
Ｂ）少なくとも１つのアルカリ源；
Ｃ）前述の成分のいずれとも異なる、少なくとも１つの洗剤ビルダー；
Ｄ）前述の成分のいずれとも異なる少なくとも１つのキレート剤；
Ｅ）以下の１つ以上の非イオン性界面活性剤、望ましくは少なくとも２つの非イオン性界面活性剤の組み合わせ：
Ｅ１）洗浄剤；
Ｅ２）消泡剤；および
Ｅ３）湿潤剤；
Ｆ）前述の成分のいずれとも異なる、少なくとも１つのアニオン性界面活性剤；
Ｇ）前述の成分のいずれとも異なる少なくとも１つの分散剤、好ましくはアニオン性ポリマー分散剤；
Ｈ）少なくとも１つのヒドロトロープ、好ましくは前述の成分のいずれとも異なる芳香族ヒドロトロープ；
Ｉ）前述の成分のいずれとも異なる少なくとも１つの有機溶媒、好ましくは水溶性
を含む、本質的にからなる、またはから構成される電子デバイスコンポーネント用の洗浄剤組成物。
続きを表示（約 1,800 文字）【請求項２】
Ｂ）少なくとも１つのアルカリ源が、アルカリ金属水酸化物、アルカノールアミン、またはそれらの組み合わせを含み、Ｃ）少なくとも１種の洗剤ビルダーは、リン酸塩ビルダー、ケイ酸塩ビルダーおよびそれらの混合物から選択される水溶性洗剤ビルダーを含む、請求項１に記載の洗浄剤組成物。
【請求項３】
Ｄ）少なくとも１種のキレート剤が、ポリカルボン酸キレート剤およびホスホン酸キレート剤を含む少なくとも２種のキレート剤を含む、請求項１に記載の洗浄剤組成物。
【請求項４】
ポリカルボン酸キレート剤、ホスホン酸キレート剤の一方または両方がヒドロキシ置換されている、請求項３に記載の洗浄剤組成物。
【請求項５】
成分Ｅ）１以上の非イオン性界面活性剤が、
Ｅ１）前述の成分のいずれとも異なる、アルコキシル化モノアルコールから選択される少なくとも１種の洗浄剤（アルコキシ基はエトキシ、プロポキシ、ブトキシおよびそれらの組み合わせから選択される）；
Ｅ２）前述の成分のいずれとも異なる、エーテル、アルコールおよびグリコールから選択される、少なくとも１つの消泡剤、好ましくはジオールであるアルコール；および
Ｅ３）２つ以上のＣ８～Ｃ１４エトキシル化アルコールを含む、前述の成分のいずれとも異なる少なくとも１つの湿潤剤
を含む、請求項１に記載の洗浄剤組成物。
【請求項６】
１つ以上の非イオン性界面活性剤が、前述の成分のいずれとも異なる、少なくとも３つの非イオン性界面活性剤、
Ｅ１）洗浄剤は、エトキシル化第二級アルコールおよび芳香族エトキシル化アルコールを含む複数の非イオン性界面活性剤を含み、
Ｅ２）消泡剤は、Ｃ８～Ｃ１８の飽和または不飽和分岐ジオールを含み、
Ｅ３）湿潤剤は、２～２０モルのエトキシル化を有する複数の飽和Ｃ８～Ｃ１４アルコール、望ましくは、一般式：
Ｒ３－（ＯＣＨ
２
ＣＨ
２
）
ｎ
ＯＨ（Ｅ３）
（式中、Ｒ３は、Ｃ６～Ｃ１８のアルキルであり、望ましくはＣ８～Ｃ１４アルキルであり、
ｎは、１～３０、望ましくは２～２４、好ましくは１～１２の範囲である）
に相当する１以上のエトキシル化アルコールを含む、請求項５に記載の洗浄剤組成物。
【請求項７】
Ｆ）少なくとも１種のアニオン性界面活性剤が、アルキル硫酸塩、アルキルスルホン酸塩、アルキルリン酸塩、アルキルホスホン酸塩、アルキルスルホコハク酸塩、およびそれらのエトキシル化類似体から選択される、請求項１に記載の洗浄剤組成物。
【請求項８】
Ｇ）少なくとも１つの分散剤が、約５，０００～約１０，０００グラム／モルの範囲のＭＷを有し、ヒドロキシル（－ＯＨ）、カルボキシル（－ＣＯＯＨ）、スルホネート、スルフェート、アミノ（－ＮＨ
２
）、イミノ（－ＮＨ－）、およびポリオキシエチレン（－ＣＨ
２
ＣＨ
２
Ｏ－）基を含む、アニオン性有機ポリマー分散剤を含む、請求項１に記載の洗浄剤組成物。
【請求項９】
アニオン性有機ポリマー分散剤が、縮合ナフタレンスルホン酸、縮合１－ナフトール６－スルホン酸、脂肪アルコールエチレンオキシド縮合物、アルキルアリールスルホネート、リグニンスルホン酸塩、スルホン酸ポリアクリル酸（ＰＡＡ）、ポリメタクリル酸（ＰＭＡＡ）およびその塩から選択される、請求項８に記載の洗浄剤組成物。
【請求項１０】
Ｈ）少なくとも１つのヒドロトロープが、ブチルベンゼンスルホン酸塩、安息香酸ナトリウム、ベンゼンスルホン酸ナトリウム、ベンゼンジスルホン酸ナトリウム、ｍ－ニトロベンゼンスルホン酸ナトリウム、ブチルモノグリコール硫酸ナトリウム、桂皮酸ナトリウム、クメンスルホン酸ナトリウム、ｐ－トルエンスルホン酸ナトリウム、サリチル酸ナトリウム、キシレンスルホン酸ナトリウム、およびそれらの組み合わせのうちの１つ以上を含む、請求項１に記載の洗浄剤組成物。
（【請求項１１】以降は省略されています）
発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、製造プロセスにおいて特に有用な電子デバイスコンポーネント用の工業用洗浄剤組成物に関する。洗浄されるコンポーネントは、酸化物層を含む金属表面を含む電子デバイスコンポーネントを含む、裸の、セラミック化された、または陽極酸化された金属表面を有する任意の材料を含み得る。より具体的には、本発明は、低レベルの揮発性有機化合物（ＶＯＣ）を有するように配合することができ、電子コンポーネントの小さなボアホール内に付着したポリマー材料を除去するのに効果的な洗浄剤組成物、並びにこのようなコンポーネントの洗浄を行う装置及び方法に関する。
続きを表示（約 3,100 文字）【背景技術】
【０００２】
電子デバイスおよびその製造された金属コンポーネントは、その製造中に、これらに限定されない、接着剤やシーラントを含む不要な物質が表面に付着する可能性がある。電子デバイス、例えば、携帯電話には、湿気による損傷を受けやすいさまざまな繊細な電子コンポーネントが含まれているため、メーカーはポリマーシーラントを含むさまざまな手段でデバイスを防水（以下、「シール」ともいう）する必要があり、場合によっては真空含浸プロセスを採用している。電子デバイスをシールするために使用される粘着性ポリマー材料の蓄積は、特に後の組み立てステップでネジを収容するための小さなボアに対して有害となる可能性がある。したがって、そのような不要なポリマー材料を本体および部品から、特に電子デバイスの後の組み立てのために作られた小さなねじ穴から除去することが望ましい。従来の洗浄材料および洗浄方法は、シールまたはコンポーネントを損傷することなくボアおよび他の小さな隙間から付着したポリマー材料を除去するには不十分であることが多いことを考慮すると、当技術分野では、要するに、揮発性有機化合物（ＶＯＣ）レベルが低い、電子デバイスの表面を腐食せず、洗浄剤が後の処理を妨げないように、洗浄された表面から容易に除去することができる、サイクル時間が短い、小さな孔の効果的な洗浄性能を有する代替組成物を提供する必要がある。本発明は、この必要性に対処するものである。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
真空含浸（ＶＩ）を使用した携帯電話の防水処理では、携帯電話の外部表面を構成する個々の部品（コンポーネントやアセンブリなど）間の隙間にポリマー分散液が導入され、乾燥後、硬化または架橋の有無にかかわらず、携帯電話を密閉し、水の侵入を防ぐ。ＶＩプロセス中、ポリマー分散液は、後の組み立てでネジを受け入れるための小さな穴（ネジ穴など）にも望ましくないことに浸透する。ポリマー材料はボアの中に残り、凝集して固体のポリマー材料の堆積物が穴の表面に付着し、その後の組み立て中のネジの挿入を妨げる。ポリマー材料の堆積物が蓄積する別の領域は、異種金属が接触している場所で発見される。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
本発明は、電子コンポーネントの表面からポリマー堆積物を効果的に洗浄し、手の届きにくい場所、例えばネジ用の小さな穴に浸透し、固体ポリマーの堆積物を分解し、ポリマー材料の残留物をボアから除去しやすくし、コンポーネントの表面への再付着を防ぐ、洗浄剤および洗浄方法を提供する。水性洗浄剤は、ポリマーの凝集に寄与する多価カチオンなどの無機汚染物質に結合する少なくとも１つのキレート剤、少なくとも１つの非イオン性界面活性剤、少なくとも１つのアニオン性界面活性剤、および１つ以上の溶媒を含み、これらの成分は相乗的に作用してポリマーから無機汚染物質を抽出し、固体ポリマーの堆積物を分解してボアからの除去を促進する。洗浄剤内の分散剤は除去されたポリマー材料を安定化させ、洗浄されたコンポーネントの表面へのポリマー材料の再付着を防ぐ。
【０００５】
（発明の概要）
本発明の目的は、本明細書では総称的に「ポリマー材料堆積物」または「ポリマー堆積物」とも呼ばれる、典型的には真空含浸プロセスからの複数の異なるタイプのポリマー堆積物、例えば会合カチオンを含むガム状固体および硬質付着固体および異なる金属接触点におけるポリマー材料堆積物など、を除去するのに有用な、液体洗浄剤濃縮組成物および液体作業洗浄剤浴を提供することである。別の目的は、物品の他の表面に損傷を与えることなく、望ましくは短い処理時間で、物品上のボア、穴、端、隅、隙間からポリマー堆積物を除去する方法を提供することである。
【０００６】
本発明の一態様（「態様１」）によれば、
Ａ）水、好ましくは脱イオン水；
Ｂ）少なくとも１つのアルカリ源；
Ｃ）前述の成分のいずれとも異なる、少なくとも１つの洗剤ビルダー；
Ｄ）前述の成分のいずれとも異なる少なくとも１つのキレート剤；
Ｅ）前述の成分のいずれとも異なる１つ以上の非イオン性界面活性剤、望ましくは少なくとも２つの非イオン性界面活性剤の組み合わせ：
Ｅ１）洗浄剤；
Ｅ２）消泡剤；および
Ｅ３）湿潤剤；
Ｆ）前述の成分のいずれとも異なる、少なくとも１つのアニオン性界面活性剤；
Ｇ）前述の成分のいずれとも異なる、少なくとも１つの分散剤、好ましくはアニオン性ポリマー分散剤；
Ｈ）前述の成分のいずれとも異なる、少なくとも１つのヒドロトロープ、；
Ｉ）前述の成分のいずれとも異なる、少なくとも１つの有機溶媒、好ましくは水溶性
を含む、本質的にからなる、またはから構成される電子デバイスコンポーネント用の洗浄剤組成物が提供される。
【０００７】
本発明のさらなる例示的な態様は、それぞれ独立して１以上の他の態様と組み合わせることができ、以下のように要約することができる。
【０００８】
態様２：Ｄ）少なくとも１種のキレート剤が、ポリカルボン酸キレート剤およびホスホン酸キレート剤、を含む少なくとも２種のキレート剤を含み、望ましくは、ポリカルボン酸キレート剤、ホスホン酸キレート剤はヒドロキシ置換されている、態様１の洗浄剤組成物。
【０００９】
態様３：成分Ｅ）１以上の非イオン性界面活性剤が、
Ｅ１）前述の成分のいずれとも異なる、アルコキシル化モノアルコールから選択される少なくとも１種の洗浄剤（アルコキシ基はエトキシ、プロポキシ、ブトキシおよびそれらの組み合わせから選択される）；
Ｅ２）エーテル、アルコールおよびグリコールから選択される、前述の成分のいずれとも異なる少なくとも１つの消泡剤、好ましくはジオールであるアルコール；および
Ｅ３）２つ以上のＣ８～Ｃ１４エトキシル化アルコールを含む、前述の成分のいずれとも異なる少なくとも１つの湿潤剤
を含む、態様１または２の洗浄剤組成物。
【００１０】
態様４：１つ以上の非イオン性界面活性剤が、前述の成分のいずれとも異なる、少なくとも３つの非イオン性界面活性剤、
Ｅ１）洗浄剤は、エトキシル化第二級アルコールおよび芳香族エトキシル化アルコールを含む複数の非イオン性界面活性剤を含み、
Ｅ２）消泡剤は、Ｃ８～Ｃ１８の飽和または不飽和分岐ジオールを含み、
Ｅ３）湿潤剤は、２～２０モルのエトキシル化を有する複数の飽和Ｃ８～Ｃ１４アルコール、望ましくは、一般式：
Ｒ３－（ＯＣＨ
２
ＣＨ
２
）
ｎ
ＯＨ（Ｅ３）
式中、Ｒ３は、Ｃ６～Ｃ１８のアルキルであり、望ましくはＣ８～Ｃ１４アルキルであり、
ｎは、１～３０、望ましくは２～２４、さらに好ましくは１～１２の範囲である）
に相当する１以上のエトキシル化アルコールを含む、
態様１から３のいずれかに記載の洗浄剤組成物。
（【００１１】以降は省略されています）

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