TOP特許意匠商標
特許ウォッチ Twitter
公開番号2025075685
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-05-15
出願番号2023187033
出願日2023-10-31
発明の名称洗浄液及び洗浄方法
出願人東京応化工業株式会社
代理人個人,個人,個人,個人
主分類C11D 7/50 20060101AFI20250508BHJP(動物性または植物性油,脂肪,脂肪性物質またはろう;それに由来する脂肪酸;洗浄剤;ろうそく)
要約【課題】不純物汚れの除去性が高められた洗浄液、及びこの洗浄液を用いた洗浄方法を提供する。
【解決手段】本発明は、溶媒と金属除去剤とを含有する洗浄液を採用する。この洗浄液においては、2種以上の溶媒が含まれ、洗浄液のハンセン溶解度パラメーターと、ジメチルアセトアミドのハンセン溶解度パラメーターとの距離(HSP距離)が、1.0以下であり、金属不純物の含有量が、前記溶媒と前記金属除去剤との合計100質量部に対して、0.1×10-9質量部以上102×10-6質量部以下である。
【選択図】なし
特許請求の範囲【請求項1】
溶媒と金属除去剤とを含有する洗浄液であって、
2種以上の溶媒を含み、
前記洗浄液のハンセン溶解度パラメーターと、ジメチルアセトアミドのハンセン溶解度パラメーターとの距離(HSP距離)が、1.0以下であり、
金属不純物の含有量が、前記溶媒と前記金属除去剤との合計100質量部に対して、0.1×10
-9
質量部以上10

×10
-6
質量部以下である、洗浄液。
続きを表示(約 750 文字)【請求項2】
前記金属不純物は、Na、Ca、K、Fe、Ti、Al、Ni、Zn、Cr及びMgからなる群より選択される少なくとも一種の金属元素を含む、請求項1に記載の洗浄液。
【請求項3】
前記距離(HSP距離)が、0.5以下である、請求項1に記載の洗浄液。
【請求項4】
前記金属除去剤を2種以上含む、請求項1に記載の洗浄液。
【請求項5】
前記金属除去剤は、有機酸を含む、請求項1に記載の洗浄液。
【請求項6】
前記有機酸はカルボン酸である、請求項5に記載の洗浄液。
【請求項7】
金属製配管、樹脂製配管、ガラス製配管、金属製継手、樹脂製継手、ガラス製継手、フィルター、薬液容器、測定セル及びクロマトグラフィーのカラムからなる群より選択される洗浄対象物の洗浄に用いられる、請求項1に記載の洗浄液。
【請求項8】
請求項1~7のいずれか一項に記載の洗浄液を、洗浄対象物に接触させることにより、前記洗浄対象物を洗浄する、洗浄方法。
【請求項9】
前記洗浄対象物は、金属製配管、樹脂製配管、ガラス製配管、金属製継手、樹脂製継手、ガラス製継手、フィルター、薬液容器、測定セル及びクロマトグラフィーのカラムからなる群より選択される、請求項8に記載の洗浄方法。
【請求項10】
請求項1~7のいずれか一項に記載の洗浄液を、洗浄対象物に接触させることにより、前記洗浄対象物を洗浄する工程の前又は後に、前記洗浄液とは異なる第2洗浄液に、前記洗浄対象物を接触させることにより、前記洗浄対象物を洗浄する工程を有する、請求項8に記載の洗浄方法。
(【請求項11】以降は省略されています)

発明の詳細な説明【技術分野】
【0001】
本発明は、洗浄液及び洗浄方法に関する。
続きを表示(約 1,800 文字)【背景技術】
【0002】
洗浄液は、汚れの種類や、洗浄対象物の材質に応じて選定する必要がある。
工業分野では、例えば、高分子材料から製造されるフィルム、特に多孔質フィルムにおいて、高分子材料由来の高分子残渣物などの有機不純物汚れ、又は、フィルム製造工程で用いられる金属触媒などに由来する金属不純物汚れによる影響が問題となる。
この問題に対し、フィルムの材質に合わせて、特定の溶剤を選択した膜洗浄液が提案されている(特許文献1参照)。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
特開2017-202479号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
従来、多孔質フィルムから製造されるフィルターにおいては、そのフィルターで精製した薬液が意図に反して汚染する場合がある。汚染源は、フィルターに共存する高分子もしくは低分子の有機不純物、又は金属不純物である。これらの不純物は、高分子材料又は金属触媒に由来するのみならず、製造ラインにおける各配管、使用する容器、器具などの様々なところから混入しやすい。一方で、工業製品の小型化及び高性能化に伴い、前記のような不純物汚れの更なる低減が強く求められる。
本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであり、不純物汚れの除去性が高められた洗浄液、及びこの洗浄液を用いた洗浄方法を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【0005】
上記の課題を解決するために、本発明は以下の構成を採用した。
【0006】
本発明の第1の態様は、溶媒と金属除去剤とを含有する洗浄液であって、2種以上の溶媒を含み、前記洗浄液のハンセン溶解度パラメーターと、ジメチルアセトアミドのハンセン溶解度パラメーターとの距離(HSP距離)が、1.0以下であり、金属不純物の含有量が、前記溶媒と前記金属除去剤との合計100質量部に対して、0.1×10
-9
質量部以上10

×10
-6
質量部以下である、洗浄液である。
【0007】
本発明の第2の態様は、前記第1の態様に係る洗浄液を、洗浄対象物に接触させることにより、前記洗浄対象物を洗浄する、洗浄方法である。
【発明の効果】
【0008】
本発明によれば、不純物汚れの除去性が高められた洗浄液、及びこの洗浄液を用いた洗浄方法を提供することができる。
かかる洗浄液、及びこれを用いた洗浄方法は、様々な洗浄対象物に対する不純物汚れの除去に有用である。
【発明を実施するための形態】
【0009】
(第1の態様:洗浄液)
洗浄液の一実施形態は、2種以上の溶媒と、金属除去剤とを含有する。
本実施形態においては、前記洗浄液のハンセン溶解度パラメーターと、ジメチルアセトアミドのハンセン溶解度パラメーターとの距離(HSP距離)が、1.0以下である。
加えて、本実施形態の洗浄液においては、金属不純物の含有量が、前記溶媒と前記金属除去剤との合計100質量部に対して、0.1×10
-9
質量部以上10

×10
-6
質量部以下である。
【0010】
<溶媒>
本実施形態の洗浄液は、2種以上の溶媒を含有する。
本実施形態の洗浄液が含有する溶媒は、前記HSP距離が1.0以下となるように、公知の有機溶媒の中から適宜選択できる。当該有機溶媒としては、ケトン系溶媒、エステル系溶媒、アルコール系溶媒、ニトリル系溶媒、アミド系溶媒、エーテル系溶媒、スルホキシド系溶媒、スルホン系溶媒等の極性溶媒;炭化水素系溶媒等の非極性溶媒が挙げられる。
有機溶媒の中には、後述するように、構造中に上記各溶媒を特徴づける複数種の官能基を含む有機溶媒も存在するが、その場合は、当該有機溶媒が有する官能基を含むいずれの溶媒種にも該当するものとする。例えば、ジエチレングリコールモノメチルエーテルは、上記分類中のアルコール系溶媒、エーテル系溶媒のいずれにも該当するものとする。
(【0011】以降は省略されています)

この特許をJ-PlatPatで参照する

関連特許

東京応化工業株式会社
感光性樹脂組成物
4日前
東京応化工業株式会社
洗浄液及び洗浄方法
4日前
東京応化工業株式会社
洗浄液及び洗浄方法
4日前
東京応化工業株式会社
ポリ酸塩又はその混合物
4日前
東京応化工業株式会社
相分離構造を含む構造体の製造方法
今日
東京応化工業株式会社
積層体の製造方法及びCO2分離方法
6日前
東京応化工業株式会社
剥離用組成物、及び接着剤を剥離する方法
1か月前
東京応化工業株式会社
剥離用組成物、及び接着剤を剥離する方法
1か月前
東京応化工業株式会社
レジスト組成物、レジストパターン形成方法
1か月前
東京応化工業株式会社
レジスト組成物およびレジストパターン形成方法
26日前
東京応化工業株式会社
処理液、基板の処理方法、及び半導体基板の製造方法
7日前
東京応化工業株式会社
処理液、基板の処理方法、及び半導体基板の製造方法
7日前
東京応化工業株式会社
レジスト組成物、レジストパターン形成方法及び化合物
27日前
東京応化工業株式会社
レジスト組成物、レジストパターン形成方法、及び化合物
25日前
東京応化工業株式会社
積層フィルムの製造方法、積層フィルム及びCO2分離方法
6日前
東京応化工業株式会社
感光性組成物、積層体の製造方法、硬化パターン形成方法及び積層体
5日前
東京応化工業株式会社
感光性組成物、積層体の製造方法、硬化パターン形成方法及び積層体
5日前
東京応化工業株式会社
レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物及び高分子化合物
1か月前
東京応化工業株式会社
レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物、及び高分子化合物
6日前
東京応化工業株式会社
膜形成用組成物、硬化膜、硬化膜の製造方法、積層体の製造方法及びCO2分離方法
6日前
東京応化工業株式会社
レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物、酸発生剤、及び酸拡散制御剤
1か月前
東京応化工業株式会社
レジスト組成物精製品の製造方法、レジストパターン形成方法、及びレジスト組成物精製品
1か月前
東京応化工業株式会社
ネガ型感光性組成物、感光性レジストフィルム、中空構造体の製造方法、及びパターン形成方法
5日前
東京応化工業株式会社
レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物及び酸拡散制御剤
1か月前
株式会社スリーボンド
洗浄剤組成物
1か月前
株式会社赤玉化学
洗浄剤組成物
2か月前
ライオン株式会社
衣料用洗浄剤組成物
2か月前
かどや製油株式会社
胡麻油
2か月前
松本油脂製薬株式会社
液体洗浄剤組成物
2か月前
花王株式会社
粉末洗浄剤組成物
7日前
株式会社ゼンシン
石けんの製造方法
5日前
小川香料株式会社
香料組成物
1か月前
株式会社カネコ化学
溶剤組成物
2か月前
個人
加熱用芳香具
1か月前
東ソー株式会社
洗浄剤組成物及びリサイクルシステム
4日前
花王株式会社
剥離型クリーナー用組成物
2か月前
続きを見る