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公開番号2025078319
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-05-20
出願番号2023190793
出願日2023-11-08
発明の名称面発光レーザ装置
出願人ローム株式会社
代理人個人,個人
主分類H01S 5/183 20060101AFI20250513BHJP(基本的電気素子)
要約【課題】面発光レーザ装置における特性の向上を図ること。
【解決手段】第1光反射層40および第2光反射層60は、Alを含む材料によって構成され、光生成層30のZ軸方向から光生成層30を挟んで配置されている。第1電極71は、第1光反射層40に対して第2光反射層60と反対側に設けられ、第1光反射層40と電気的に接続されている。第2電極72は、第2光反射層60と電気的に接続されている。電流狭窄層53は、第2光反射層60と第1電極71との間に配置され、電流が通過可能に構成された通過部531と、通過部531を囲む絶縁部532と、を含む。第1電極71は、平面視で通過部531と重なる開口712を含む。第1光反射層40は、平面視で通過部531及び開口712と重なる位置に設けられ、且つZnを含む第1領域441と、平面視で第1領域441を囲むように設けられた第2領域442と、を含む。
【選択図】図3
特許請求の範囲【請求項１】
光生成層と、
Ａｌを含む材料によって構成され、前記光生成層の厚さ方向から前記光生成層を挟んで配置された第１光反射層および第２光反射層と、
前記第１光反射層に対して前記第２光反射層と反対側に設けられ、前記第１光反射層と電気的に接続された第１電極と、
前記第２光反射層と電気的に接続された第２電極と、
前記第２光反射層と前記第１電極との間に配置され、電流が通過可能に構成された通過部と、前記通過部を囲む絶縁部と、を含む電流狭窄層と、
を含み、
前記第１電極は、前記厚さ方向から視て前記通過部と重なる開口を含み、
前記第１光反射層は、
前記厚さ方向から視て前記通過部及び前記開口と重なる位置に設けられ、且つＺｎを含む第１領域と、
前記厚さ方向から視て前記第１領域を囲むように設けられた第２領域と、
を含む、面発光レーザ装置。
続きを表示（約 940 文字）【請求項２】
前記厚さ方向から視て、前記第１領域の少なくとも一部は、前記第１電極と重なっている、
請求項１に記載の面発光レーザ装置。
【請求項３】
前記第１電極は、前記厚さ方向から視て、前記通過部を囲み、前記第１光反射層と電気的に接続された接続部を含む、
請求項１に記載の面発光レーザ装置。
【請求項４】
前記厚さ方向から視て、前記第１領域と前記第２領域との境界部分は、前記第１電極の前記接続部と重なる位置又は外側に配置されている、
請求項３に記載の面発光レーザ装置。
【請求項５】
前記第１領域におけるＺｎの濃度は、前記厚さ方向から視て、中心部分が周辺部分よりも高い、
請求項１に記載の面発光レーザ装置。
【請求項６】
前記第１領域は、前記厚さ方向から視て円形状であり、中心から前記第２領域に向かって前記Ｚｎの濃度が低くなるように形成されている、
請求項１に記載の面発光レーザ装置。
【請求項７】
前記第１領域は、前記厚さ方向において、前記第１光反射層の上面から前記光生成層に向けて前記Ｚｎの濃度が低くなるように形成されている、
請求項１に記載の面発光レーザ装置。
【請求項８】
前記第１光反射層は、Ａｌを含む材料により構成され、前記厚さ方向に交互に配置された複数の第１反射層および複数の第２反射層を含み、
前記第１反射層のＡｌ組成は、前記第２反射層のＡｌ組成よりも高い、
請求項１に記載の面発光レーザ装置。
【請求項９】
前記第１領域内の前記第１反射層と前記第２反射層との間の界面は、前記第２領域内における前記第１反射層と前記第２反射層との間の界面よりもぼやけている、
請求項８に記載の面発光レーザ装置。
【請求項１０】
前記第２領域内における前記第１反射層と前記第２反射層との間の界面が存在する一方、前記第１領域内の前記第１反射層と前記第２反射層との間の界面は存在しない箇所がある、
請求項８に記載の面発光レーザ装置。
（【請求項１１】以降は省略されています）
発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本開示は、面発光レーザ装置に関するものである。
続きを表示（約 2,100 文字）【背景技術】
【０００２】
特許文献１は、面発光レーザ装置を開示している。この面発光レーザ装置は、化合物半導体材料により構成される基板と、基板上に積層されたｎ型半導体層、活性層およびｐ型半導体層を含む。ｎ型半導体層はｎ型光反射層を含み、ｐ型半導体層はｐ型光反射層を含む。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
特開２０２０－２１８７９号公報
【０００４】
［概要］
ところで、面発光レーザ装置では、特性について改善の余地がある。
【０００５】
本開示の一態様である面発光レーザ装置は、光生成層と、Ａｌを含む材料によって構成され、前記光生成層の厚さ方向から前記光生成層を挟んで配置された第１光反射層および第２光反射層と、前記第１光反射層に対して前記第２光反射層と反対側に設けられ、前記第１光反射層と電気的に接続された第１電極と、前記第２光反射層と電気的に接続された第２電極と、前記第２光反射層と前記第２電極との間に配置され、電流が通過可能に構成された通過部と、前記通過部を囲む絶縁部と、を含む電流狭窄層と、を含み、前記第１電極は、前記厚さ方向から視て前記通過部と重なる開口を含み、前記第１光反射層は、前記厚さ方向に視て前記通過部及び前記開口と重なる位置に設けられ、且つＺｎを含む第１領域と、前記厚さ方向に視て前記第１領域を囲むように設けられた第２領域と、を含む。
【図面の簡単な説明】
【０００６】
図１は、一実施形態の面発光レーザ装置の概略平面図である。
図２は、図１のＦ２－Ｆ２線に沿って切った面発光レーザ装置の断面図である。
図３は、図２の面発光レーザ装置の一部を拡大して示す概略断面図である。
図４は、図２の面発光レーザ装置の一部を拡大して示す概略断面図である。
図５は、図１の面発光レーザ装置の一部を拡大して示す概略平面図である。
図６は、図２の面発光レーザ装置の作用を説明する概略断面図である。
図７は、比較例の面発光レーザ装置を示す概略断面図である。
図８は、光反射層における反射層を説明する説明図である。
図９は、光反射層における反射層を説明する説明図である。
図１０は、図１の面発光レーザ装置の製造工程の一例を示す概略断面図である。
図１１は、図１０に続く製造工程を示す概略断面図である。
図１２は、図１１に続く製造工程を示す概略断面図である。
図１３は、図１２に続く製造工程を示す概略断面図である。
図１４は、図１３に続く製造工程を示す概略断面図である。
図１５は、図１４に続く製造工程を示す概略断面図である。
図１６は、変更例の面発光レーザ装置の概略平面図である。
【０００７】
［詳細な説明］
以下、添付図面を参照して本開示の面発光レーザ装置のいくつかの実施形態を説明する。なお、説明を簡単かつ明確にするために、図面に示される構成要素は必ずしも一定の縮尺で描かれていない。また、理解を容易にするために、断面図では、ハッチング線が省略されている場合がある。添付の図面は、本開示の実施形態を例示するに過ぎず、本開示を制限するものとみなされるべきではない。本開示における「第１」、「第２」、「第３」等の用語は、単に対象物を区別するために用いられており、対象物を順位づけするものではない。
【０００８】
以下の詳細な記載は、本開示の例示的な実施形態を具体化する装置、システム、および方法を含む。この詳細な記載は本来説明のためのものに過ぎず、本開示の実施形態またはこのような実施形態の適用および使用を限定することを意図しない。
【０００９】
本明細書において使用される「少なくとも１つ」という表現は、所望の選択肢の「１つ以上」を意味する。一例として、本明細書において使用される「少なくとも１つ」という表現は、選択肢の数が２つであれば「１つの選択肢のみ」または「２つの選択肢の双方」を意味する。他の例として、本明細書において使用される「少なくとも１つ」という表現は、選択肢の数が３つ以上であれば「１つの選択肢のみ」または「２つ以上の任意の選択肢の組み合わせ」を意味する。
【００１０】
（実施形態）
（面発光レーザ装置の概略構成）
図１は、一実施形態の面発光レーザ装置１０の概略平面図である。図２は、図１のＦ２－Ｆ２線に沿って切った面発光レーザ装置１０の断面図である。図３は、図２の面発光レーザ装置１０の一部を拡大して示す概略断面図である。図４は、図２の面発光レーザ装置１０の一部を拡大して示す概略断面図である。図５は、図１の面発光レーザ装置１０の一部を拡大して示す概略平面図であり、発光部５１、第１電極７１の接続部７１１および開口７１２、電流狭窄層５３の通過部５３１、第１領域４４１の関係を示す概略平面図である。
（【００１１】以降は省略されています）

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