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公開番号
2025056868
公報種別
公開特許公報(A)
公開日
2025-04-09
出願番号
2023166375
出願日
2023-09-27
発明の名称
弾性波デバイス、フィルタ、および弾性波デバイスの製造方法
出願人
太陽誘電株式会社
代理人
個人
主分類
H03H
9/17 20060101AFI20250401BHJP(基本電子回路)
要約
【課題】電気機械結合係数k2を向上させつつ、Q値を向上させることが可能な弾性波デバイスを提供する。
【解決手段】弾性波デバイス100は、基板10と、基板10上に設けられた下部電極12と、下部電極12上に設けられた上部電極20と、下部電極12と上部電極20の間に少なくとも一部が挟まれて共振領域50を形成し圧電性を高める不純物元素がドープされた窒化アルミニウムである第1圧電膜16と、共振領域50の内側に収まる領域である中央領域54に位置し下部電極12と第1圧電膜16との間に設けられ、圧電性を高める不純物元素のドープ量が第1圧電膜16より少ない窒化アルミニウムである第2圧電膜18とを備える。
【選択図】図1
特許請求の範囲
【請求項1】
基板と、
前記基板上に設けられた下部電極と、
前記下部電極上に設けられた上部電極と、
前記下部電極と前記上部電極の間に少なくとも一部が挟まれて共振領域を形成し圧電性を高める不純物元素がドープされた窒化アルミニウムである第1圧電膜と、
前記共振領域の内側に収まる領域である中央領域に位置し前記下部電極と前記第1圧電膜との間に設けられ、前記不純物元素のドープ量が前記第1圧電膜より少ない窒化アルミニウムである第2圧電膜と、を備える弾性波デバイス。
続きを表示(約 890 文字)
【請求項2】
前記共振領域の外周に沿って前記中央領域を囲む外周領域における前記第1圧電膜の上面は、前記中央領域における前記第1圧電膜の上面より表面粗さが大きい粗い粗面形状を有する、請求項1に記載の弾性波デバイス。
【請求項3】
前記不純物元素は、2族元素もしくは12族元素と4族元素の組み合わせ、2族元素もしくは12族元素と5族元素の組み合わせ、または3族元素である、請求項1または2に記載の弾性波デバイス。
【請求項4】
前記第2圧電膜は、前記不純物元素がドープされていない窒化アルミニウム膜である、請求項1または2に記載の弾性波デバイス。
【請求項5】
前記第2圧電膜の厚さは15nm以上である、請求項4に記載の弾性波デバイス。
【請求項6】
前記第1圧電膜は、前記不純物元素としてマグネシウムとハフニウムがドープされた窒化アルミニウム膜である、請求項1または2に記載の弾性波デバイス。
【請求項7】
前記中央領域における前記第1圧電膜と前記第2圧電膜の合計厚さと前記共振領域の外周に沿って前記中央領域を囲む外周領域における前記第1圧電膜の厚さとは同じである、請求項1または2に記載の弾性波デバイス。
【請求項8】
前記第2圧電膜は前記下部電極に埋め込まれている、請求項1または2に記載の弾性波デバイス。
【請求項9】
前記第2圧電膜の側面に、前記中央領域における前記下部電極と前記第2圧電膜と前記第1圧電膜と前記上部電極との合計厚さをHとした場合に、0.5H以上1.5H以下の深さの凹凸が繰り返し設けられている、請求項1または2に記載の弾性波デバイス。
【請求項10】
前記共振領域の外周と前記第2圧電膜との間の距離は、前記中央領域における前記下部電極と前記第2圧電膜と前記第1圧電膜と前記上部電極との合計厚さをHとした場合に、2.4H以上3.0H以下である、請求項1または2に記載の弾性波デバイス。
(【請求項11】以降は省略されています)
発明の詳細な説明
【技術分野】
【0001】
本発明は、弾性波デバイス、フィルタ、および弾性波デバイスの製造方法に関する。
続きを表示(約 1,400 文字)
【背景技術】
【0002】
携帯端末等の無線端末の高周波回路用のフィルタおよびデュプレクサとして、圧電薄膜共振器を用いたフィルタおよびデュプレクサが知られている。圧電薄膜共振器は、基板上に設けられた圧電膜と、圧電膜を挟んで設けられた下部電極および上部電極と、を備える。圧電膜を挟み下部電極と上部電極が対向する領域は、弾性波が励振される共振領域である。圧電膜に窒化アルミニウム膜を用いる場合に、圧電性を高めるため、スカンジウム、2族元素もしくは12族元素と4族元素、または、2族元素もしくは12族元素と5族元素、を窒化アルミニウムに添加することが知られている(例えば特許文献1-3)。また、Q値を向上させるために、圧電膜内に、共振領域の中央領域には挿入せず、共振領域内の外周領域に挿入膜を挿入することが知られている(例えば特許文献1-3)。下部電極と上部電極が重なる領域の中央領域に圧電膜を設け、外周領域に非圧電膜が設けることで、Q値を向上させることも知られている(例えば特許文献4、5)。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
特開2019-207910号公報
特開2017-158161号公報
特開2019-186691号公報
米国特許第8330325号明細書
米国特許第8796904号明細書
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
Q値を向上させるため、特許文献1-5に記載のように下部電極と上部電極が重なる領域の外周領域に挿入膜または非圧電膜を設けた場合、外周領域における圧電性が低下してしまい、電気機械結合係数k2が低下してしまう。
【0005】
本発明は、上記課題に鑑みなされたものであり、電気機械結合係数k2を向上させつつ、Q値も向上させることを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0006】
本発明は、基板と、前記基板上に設けられた下部電極と、前記下部電極上に設けられた上部電極と、前記下部電極と前記上部電極の間に少なくとも一部が挟まれて共振領域を形成し圧電性を高める不純物元素がドープされた窒化アルミニウムである第1圧電膜と、前記共振領域の内側に収まる領域である中央領域に位置し前記下部電極と前記第1圧電膜との間に設けられ、前記不純物元素のドープ量が前記第1圧電膜より少ない窒化アルミニウムである第2圧電膜と、を備える弾性波デバイスである。
【0007】
上記構成において、前記共振領域の外周に沿って前記中央領域を囲む外周領域における前記第1圧電膜の上面は、前記中央領域における前記第1圧電膜の上面より表面粗さが大きい粗い粗面形状を有する構成とすることができる。
【0008】
上記構成において、前記不純物元素は、2族元素もしくは12族元素と4族元素の組み合わせ、2族元素もしくは12族元素と5族元素の組み合わせ、または3族元素である構成とすることができる。
【0009】
上記構成において、前記第2圧電膜は、前記不純物元素がドープされていない窒化アルミニウム膜である構成とすることができる。
【0010】
上記構成において、前記第2圧電膜の厚さは15nm以上である構成とすることができる。
(【0011】以降は省略されています)
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