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公開番号2025017056
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-02-05
出願番号2023119926
出願日2023-07-24
発明の名称相分離構造形成用樹脂組成物、及び相分離構造を含む構造体の製造方法
出願人東京応化工業株式会社
代理人個人,個人
主分類C08L 53/00 20060101AFI20250129BHJP(有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物)
要約【課題】プロセスマージンを向上することができる相分離構造形成用樹脂組成物を提供する。
【解決手段】所定のブロックコポリマーAとブロックコポリマーBとを含有し、前記ブロックコポリマーAのL0(L0_A)に対する、前記ブロックコポリマーBのL0(L0_B)の比(L0_B/L0_A)が、0.70～1.20である、相分離構造形成用樹脂組成物。
【選択図】なし
特許請求の範囲【請求項１】
ブロックコポリマーＡとブロックコポリマーＢとを含有する相分離構造形成用樹脂組成物であって、
前記ブロックコポリマーＡは、第１ａブロックと第２ａブロックと第３ａブロックとが結合したブロックコポリマーであり、
前記ブロックコポリマーＢは、第１ｂブロックと第２ｂブロックとが結合したブロックコポリマーであり、
前記第１ａブロックを構成するポリマーの構成単位と、前記第３ａブロックを構成するポリマーの構成単位と、前記第１ｂブロックを構成するポリマーの構成単位とが同一の構造であり、
前記第２ａブロックを構成するポリマーの構成単位と、前記第２ｂブロックを構成するポリマーの構成単位とが同一の構造であり、
前記ブロックコポリマーＡのＬ０（Ｌ０
Ａ
）に対する、前記ブロックコポリマーＢのＬ０（Ｌ０
Ｂ
）の比（Ｌ０
Ｂ
／Ｌ０
Ａ
）が、０．７０～１．２０である、相分離構造形成用樹脂組成物。
続きを表示（約 450 文字）【請求項２】
前記ブロックコポリマーＡの質量と前記ブロックコポリマーＢの質量との比（Ａ：Ｂ）が、９９：１～５０：５０である、請求項１に記載の相分離構造形成用樹脂組成物。
【請求項３】
前記第１ａブロックと前記第３ａブロックと前記第１ｂブロックとが、芳香族基を含む構成単位を有するポリマーからなり、
前記第２ａブロックと前記第２ｂブロックとが、（α置換）アクリル酸エステルから誘導される構成単位を有するポリマーからなる、請求項１又は２に記載の相分離構造形成用樹脂組成物。
【請求項４】
支持体上に、中性化膜からなる層を形成する工程と、
前記中性化膜からなる層の上に、請求項１又は２に記載の相分離構造形成用樹脂組成物を塗布して、前記ブロックコポリマーＡと、前記ブロックコポリマーＢとを含む層を形成する工程と、
前記ブロックコポリマーＡと、前記ブロックコポリマーＢとを含む層を相分離させる工程とを有する、相分離構造を含む構造体の製造方法。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、相分離構造形成用樹脂組成物、及び相分離構造を含む構造体の製造方法に関する。
続きを表示（約 1,900 文字）【背景技術】
【０００２】
近年、大規模集積回路（ＬＳＩ）のさらなる微細化に伴い、より繊細な構造体を加工する技術が求められている。
このような要望に対し、互いに非相溶性のブロック同士が結合したブロックコポリマーの自己組織化により形成される相分離構造を利用して、より微細なパターンを形成する技術の開発が行われている（例えば、特許文献１参照）。
【０００３】
上記ブロックコポリマーは、互いに非相溶性のブロック同士の反発によりミクロな領域で分離（相分離）し、熱処理等を行うことで、規則的な周期構造の構造体を形成する。この周期構造として、具体的には、シリンダー（柱状）、ラメラ（板状）、スフィア（球状）等が挙げられる。
【０００４】
ブロックコポリマーの相分離構造を利用するためには、ミクロ相分離により形成される自己組織化ナノ構造を、特定の領域のみに形成し、かつ、所望の方向へ配列させることが必須とされる。これらの位置制御及び配向制御を実現するために、ガイドパターンによって相分離パターンを制御するグラフォエピタキシーや、基板の化学状態の違いによって相分離パターンを制御するケミカルエピタキシー等のプロセスが提案されている（例えば、非特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
特開２００８－３６４９１号公報
【非特許文献】
【０００６】
Ｐｒｏｃ．ＳＰＩＥ７６３７，ＡｌｔｅｒｎａｔｉｖｅＬｉｔｈｏｇｒａｐｈｉｃＴｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓＩＩ，７６３７０Ｇ（１Ａｐｒｉｌ２０１０）
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
ブロックコポリマーの自己組織化により形成される相分離構造を利用してパターンを形成する方法については、１つのピッチに対して、それに合わせた構造体の周期（Ｌ０）を持つブロックコポリマーを用意する必要がある。したがって、複数のピッチのデザインに対しては個々にブロックコポリマーを準備する必要がある。
複数のピッチに対して１つの相分離構造形成用樹脂組成物で対応できれば、上記のパターン形成方法の適用範囲は大きく広がる。したがって、上記のパターン形成方法において、パターンの欠陥を発生させずに複数のピッチのパターンを形成できるような、プロセスマージンが大きい相分離構造形成用樹脂組成物が求められる。
【０００８】
本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであって、プロセスマージンを向上することができる相分離構造形成用樹脂組成物と、当該相分離構造形成用樹脂組成物を用いる相分離構造を含む構造体の製造方法とを提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記課題を解決するために、本発明者らは鋭意検討を重ねた結果、所定のブロックコポリマーＡと所定のブロックコポリマーＢとを含有し、ブロックコポリマーＡのＬ０（Ｌ０
Ａ
）に対する、ブロックコポリマーＢのＬ０（Ｌ０
Ｂ
）の比（Ｌ０
Ｂ
／Ｌ０
Ａ
）が、０．７０～１．２０であれば、上記の課題を解決できることを見出し、本発明を完成するに至った。具体的には本発明は以下のものを提供する。
【００１０】
［１］ブロックコポリマーＡとブロックコポリマーＢとを含有する相分離構造形成用樹脂組成物であって、
前記ブロックコポリマーＡは、第１ａブロックと第２ａブロックと第３ａブロックとが結合したブロックコポリマーであり、
前記ブロックコポリマーＢは、第１ｂブロックと第２ｂブロックとが結合したブロックコポリマーであり、
前記第１ａブロックを構成するポリマーの構成単位と、前記第３ａブロックを構成するポリマーの構成単位と、前記第１ｂブロックを構成するポリマーの構成単位とが同一の構造であり、
前記第２ａブロックを構成するポリマーの構成単位と、前記第２ｂブロックを構成するポリマーの構成単位とが同一の構造であり、
前記ブロックコポリマーＡのＬ０（Ｌ０
Ａ
）に対する、前記ブロックコポリマーＢのＬ０（Ｌ０
Ｂ
）の比（Ｌ０
Ｂ
／Ｌ０
Ａ
）が、０．７０～１．２０である、相分離構造形成用樹脂組成物。
（【００１１】以降は省略されています）

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