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公開番号2024175364
公報種別公開特許公報(A)
公開日2024-12-18
出願番号2023093098
出願日2023-06-06
発明の名称化合物及びそれを含む組成物
出願人住友化学株式会社
代理人弁理士法人深見特許事務所
主分類C08F 28/04 20060101AFI20241211BHJP(有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物)
要約【課題】高い屈折率及び高い内部透過率を示す硬化物を与えることができ、成膜性にも優れる新たな化合物を提供する。
【解決手段】式(I)で表される化合物。式中、Lは単結合又は2価の基を表し、複数あるLは同一であっても異なっていてもよい。nは0~6のいずれかの整数を表す。Rは1価の置換基を表し、Rが複数ある場合、複数のRは同一であっても異なっていてもよい。R1は水素原子又は1価の置換基を表し、複数あるR1は同一であっても異なっていてもよい。
<com:Image com:imageContentCategory="Drawing"> <com:ImageFormatCategory>TIFF</com:ImageFormatCategory> <com:FileName>2024175364000021.tif</com:FileName> <com:HeightMeasure com:measureUnitCode="Mm">30</com:HeightMeasure> <com:WidthMeasure com:measureUnitCode="Mm">114</com:WidthMeasure> </com:Image>
【選択図】なし
特許請求の範囲【請求項1】
式(I)で表される化合物。
TIFF
2024175364000020.tif
30
114
[式(I)中、
Lは単結合又は2価の基を表し、複数あるLは同一であっても異なっていてもよい。
nは0~6のいずれかの整数を表す。
Rは1価の置換基を表し、Rが複数ある場合、複数のRは同一であっても異なっていてもよい。


は水素原子又は1価の置換基を表し、複数あるR

は同一であっても異なっていてもよい。]
続きを表示(約 330 文字)【請求項2】
すべてのLが単結合である請求項1に記載の化合物。
【請求項3】
請求項1に記載の化合物を含む組成物。
【請求項4】
チオール化合物をさらに含む請求項3に記載の組成物。
【請求項5】
前記チオール化合物が2官能以上のチオール化合物である請求項4に記載の組成物。
【請求項6】
重合開始剤をさらに含む請求項3に記載の組成物。
【請求項7】
請求項1に記載の化合物又は請求項3~6のいずれか1項に記載の組成物の硬化物。
【請求項8】
請求項7に記載の硬化物を含む表示装置。
【請求項9】
請求項7に記載の硬化物を含む固体撮像素子。

発明の詳細な説明【技術分野】
【0001】
本発明は化合物に関する。また、本発明は、該化合物を含む組成物、該化合物又は該組成物の硬化物、該硬化物を含む表示装置、及び該硬化物を含む固体撮像素子にも関する。
続きを表示(約 2,100 文字)【背景技術】
【0002】
光学機器の分野において高屈折材料が要望されている。高屈折材料によりレンズを得ることができ、レンズにより光学機器内の光路を制御することができる。固体撮像素子において各光電変換素子への集光効率を向上させる目的でレンズが用いられ、また表示装置において画素からの光の取り出し効率を向上させる目的でレンズが用いられている。従来、種々の高屈折材料の開発がなされている(例えば特許文献1)。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
国際公開2011/102258号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
高屈折材料が例えばレンズ等の光学部材に適用される場合、高屈折材料には高い内部透過率がさらに求められることがある。
【0005】
本発明の1つの目的は、高い屈折率及び高い内部透過率を示す硬化物を与えることができ、成膜性にも優れる新たな化合物を提供することにある。本発明の他の目的は、該化合物を含む組成物、該化合物又は該組成物の硬化物、該硬化物を含む表示装置、及び該硬化物を含む固体撮像素子を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【0006】
本発明は、以下を含む。
〔1〕 式(I)で表される化合物。
TIFF
2024175364000001.tif
30
114
[式(I)中、
Lは単結合又は2価の基を表し、複数あるLは同一であっても異なっていてもよい。
nは0~6のいずれかの整数を表す。
Rは1価の置換基を表し、Rが複数ある場合、複数のRは同一であっても異なっていてもよい。


は水素原子又は1価の置換基を表し、複数あるR

は同一であっても異なっていてもよい。]
〔2〕 すべてのLが単結合である〔1〕に記載の化合物。
〔3〕 〔1〕又は〔2〕に記載の化合物を含む組成物。
〔4〕 チオール化合物をさらに含む〔3〕に記載の組成物。
〔5〕 前記チオール化合物が2官能以上のチオール化合物である〔4〕に記載の組成物。
〔6〕 重合開始剤をさらに含む〔3〕~〔5〕のいずれかに記載の組成物。
〔7〕 〔1〕又は〔2〕に記載の化合物又は〔3〕~〔6〕のいずれかに記載の組成物の硬化物。
〔8〕 〔7〕に記載の硬化物を含む表示装置。
〔9〕 〔7〕に記載の硬化物を含む固体撮像素子。
【発明の効果】
【0007】
本発明によれば、高い屈折率及び高い内部透過率を示す硬化物を与えることができ、成膜性にも優れる新たな化合物を提供することができる。また、該化合物を含む組成物、該化合物又は該組成物の硬化物、該硬化物を含む表示装置、及び該硬化物を含む固体撮像素子を提供することができる。
【発明を実施するための形態】
【0008】
<化合物>
本発明に係る化合物は、式(I)で表される化合物(以下、「化合物(I)」ともいう)である。化合物(I)は、高い屈折率及び高い内部透過率を示す硬化物を与えることができ、また、優れた成膜性を示すことができる。また、化合物(I)は、優れた硬化性及び/又は優れたパターニング性を示し得る。
TIFF
2024175364000002.tif
30
114
[式(I)中、
Lは単結合又は2価の基を表し、複数あるLは同一であっても異なっていてもよい。
nは0~6のいずれかの整数を表す。
Rは1価の置換基を表し、Rが複数ある場合、複数のRは同一であっても異なっていてもよい。


は水素原子又は1価の置換基を表し、複数あるR

は同一であっても異なっていてもよい。]
【0009】
式(I)は、2つの下記式で表される基
TIFF
2024175364000003.tif
14
114
が、それぞれ独立して、ナフタレン環の任意の位置に結合していてもよいことを表す。また、式(I)は、Rで表される1以上の1価の置換基を有する場合、該1以上の1価の置換基が、下記式
TIFF
2024175364000004.tif
14
114
で表される基が結合している位置を除くナフタレン環の任意の位置に結合していてもよいことを表す。後述する式(II)についても同様である。
【0010】
好ましくは、下記式
TIFF
2024175364000005.tif
14
114
で表される2つの基のうち一方はナフタレン環の1位~4位のいずれかに結合し、他方はナフタレン環の5位~8位のいずれかに結合している。
(【0011】以降は省略されています)

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