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公開番号2024154447
公報種別公開特許公報(A)
公開日2024-10-31
出願番号2023068247
出願日2023-04-19
発明の名称ポジ型感光性組成物および硬化膜
出願人株式会社カネカ
代理人
主分類G03F 7/023 20060101AFI20241024BHJP(写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ)
要約【課題】本発明の目的は、パターニング性および透明性、高透明性、低誘電率特性に優れるポジ型感光性組成物およびその硬化膜を提供することである。
【解決手段】 (A)カチオン重合性基及び、アルカリ可溶性基を有する環状ポリシロキサン化合物、(B)キノンジアジド化合物、(C)酸発生剤を必須成分として含有するポジ型感光性組成物を用いることで、パターニング性および透明性、低誘電率特性に優れる絶縁膜を得ることができる。その絶縁膜はLSI、TFT、タッチパネル等に用いられる絶縁膜として有用である。
【選択図】なし
特許請求の範囲【請求項１】
（Ａ）カチオン重合性基および、アルカリ可溶性基を有する環状ポリシロキサン化合物、（Ｂ）キノンジアジド化合物、（Ｃ）酸発生剤を必須成分として含有するポジ型感光性組成物。
続きを表示（約 340 文字）【請求項２】
カチオン重合性基がエポキシ基または、オキセタン基のうち少なくとも１つである請求項１に記載のポジ型感光性組成物。
【請求項３】
アルカリ可溶性基が下記式（Ｘ１）～（Ｘ２）で表される構造から選ばれる構造である事を特徴とする請求項１に記載のポジ型感光性組成物。
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【請求項４】
請求項１～３のいずれか1項に記載のポジ型感光性組成物を硬化して得られる硬化膜。
【請求項５】
請求項４の硬化膜よりなる薄膜トランジスタ平坦化膜。
【請求項６】
請求項５の薄膜トランジスタ平坦化膜を含む有機EL表示デバイス。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明はアルカリ現像によりポジ型パターンを与える得る感光性組成物およびその硬化膜に関するものである。
続きを表示（約 1,000 文字）【背景技術】
【０００２】
ポジ型感光性組成物はディスプレイ製造、半導体製造において広く使用されており、アクリル樹脂、フェノール樹脂を主成分とするポジ型レジストが提案・商品化されている。一方、パターニング後デバイスに機能膜として残る永久レジストとしてポジ型感光性組成物を用いる場合、より耐久性を有する樹脂であるポリイミド系ポリマー（特許文献１）、シリコン系ポリマー（特許文献２）等の材料をベースとするポジ型感光性材料が提案されているが、いずれも配線間の絶縁膜などに用いる場合には誘電率が高く、寄生容量による信号遅延が問題となるなど、未だ満足のいく物性のものが得られていない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
特開２０１１－０３３７７２号公報
特開２０１１－０２２１７３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
上記事情から本発明の目的は、パターニング性に優れ、その硬化膜が、高透明性、低誘電率特性を示すポジ型感光性組成物を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
上記事情に鑑み、本発明者らが鋭意検討した結果、下記特長を有する樹脂組成物を用いることにより上記課題が解決できることを見出し、本発明を完成するに至った。すなわち本発明は、以下の構成を有するものである。
【０００６】
１）．（Ａ）カチオン重合性基および、アルカリ可溶性基を有する環状ポリシロキサン化合物、（Ｂ）キノンジアジド化合物、（Ｃ）酸発生剤を必須成分として含有するポジ型感光性組成物。
【０００７】
２）．カチオン重合性基がエポキシ基または、オキセタン基のうち少なくとも１つである１）に記載のポジ型感光性組成物。
【０００８】
３）．アルカリ可溶性基が下記式（Ｘ１）～（Ｘ２）で表される構造から選ばれる構造である事を特徴とする１）または２）に記載のポジ型感光性組成物。
【０００９】
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４）．１）～３）のいずれか1項に記載のポジ型感光性組成物を硬化して得られる硬化膜。
【００１０】
５）．４）の硬化膜よりなる薄膜トランジスタ平坦化膜。
（【００１１】以降は省略されています）

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