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公開番号
2024115358
公報種別
公開特許公報(A)
公開日
2024-08-26
出願番号
2023021013
出願日
2023-02-14
発明の名称
伝送装置及び応用装置
出願人
日立GEニュークリア・エナジー株式会社
代理人
弁理士法人開知
主分類
G21C
17/003 20060101AFI20240819BHJP(核物理;核工学)
要約
【課題】耐放射線性に優れ、高周波数帯域の信号を長距離伝送することができる伝送装置を提供する。
【解決手段】伝送装置100は、第1の電源端子(Vdd)に接続される一対の抵抗(R1、R2)と、前記一対の抵抗(R1、R2)に直列接続される一対のSiC(炭化ケイ素)-nチャネルMOSFET(metal-oxide-semiconductor field-effect transistor:T1、T2)から構成される伝送回路を備える。前記一対のSiC-nチャネルMOSFETT(T1、T2)のチャネル長は2μm以下である。
【選択図】図1
特許請求の範囲
【請求項1】
第1の電源端子に接続される一対の抵抗と、
前記一対の抵抗に直列接続される一対のSiC-nチャネルMOSFETと、
から構成される伝送回路を備え、
前記一対のSiC-nチャネルMOSFETのチャネル長は2μm以下である
ことを特徴とする伝送装置。
続きを表示(約 1,300 文字)
【請求項2】
請求項1に記載の伝送装置であって、
前記一対の抵抗は、前記一対のSiC-nチャネルMOSFETが形成されるSiCウエハに形成される
ことを特徴とする伝送装置。
【請求項3】
請求項2に記載の伝送装置であって、
前記一対の抵抗は、拡散抵抗で構成される
ことを特徴とする伝送装置。
【請求項4】
請求項1に記載の伝送装置であって、
それぞれの抵抗とそれぞれのSiC-nチャネルMOSFETは、ディスクリートの素子である
ことを特徴とする伝送装置。
【請求項5】
請求項1に記載の伝送装置であって、
前記一対の抵抗は、第1の抵抗と第2の抵抗から構成され、
前記一対のSiC-nチャネルMOSFETは、第1のSiC-nチャネルMOSFETと第2のSiC-nチャネルMOSFETから構成され、
前記第1のSiC-nチャネルMOSFETのゲートに、第1の信号が入力され、
前記第2のSiC-nチャネルMOSFETのゲートに、第2の信号が入力され、
前記第1の抵抗と前記第1のSiC-nチャネルMOSFETのドレインの間の第1の接続点及び前記第2の抵抗と前記第2のSiC-nチャネルMOSFETのドレインの間の第2の接続点のうち少なくとも1つから、出力信号が出力される
ことを特徴とする伝送装置。
【請求項6】
請求項5に記載の伝送装置であって、
前記第1の電源端子と消費電流調整用の制御端子の間に設けられる第3の抵抗と、
ドレイン及びゲートが前記制御端子に接続され、ソースが前記第1の電源端子と極性の異なる第2の電源端子に接続される第3のSiC-nチャネルMOSFETと、
ドレインが前記一対のSiC-nチャネルMOSFETのソースに接続され、ゲートが前記制御端子に接続され、ソースが前記第2の電源端子に接続される第4のSiC-nチャネルMOSFETと、を備える
ことを特徴とする伝送装置。
【請求項7】
請求項1に記載の伝送装置を含む応用装置であって、
前記応用装置は、
所定のパラメータを計測する計測部と、
計測された前記パラメータに基づいて制御を行う制御部と、を備え、
前記伝送装置は、
前記計測部と前記制御部の間の信号線上に設けられる
ことを特徴とする応用装置。
【請求項8】
請求項7に記載の応用装置であって、
前記計測部は、
圧力、温度、流量、水位、超音波、又は渦電流を測定するセンサである
ことを特徴とする応用装置。
【請求項9】
請求項7に記載の応用装置であって、
前記伝送装置は、
放射線量が所定値以上の場所に配置される
ことを特徴とする応用装置。
【請求項10】
請求項9に記載の応用装置であって、
前記伝送装置は、
原子力発電プラントに配置される
ことを特徴とする応用装置。
発明の詳細な説明
【技術分野】
【0001】
本発明は、伝送装置及び応用装置に関する。
続きを表示(約 1,000 文字)
【背景技術】
【0002】
原子力プラントなどの放射線にさらされる環境では、超音波や渦電流検査装置による構造物の劣化や亀裂計測が求められている。一方で、計測器の電子回路に含まれる半導体素子が放射線の電離作用により劣化するため、特に高放射線環境においてはアンプを用いることが難しい。
【0003】
これら放射線環境での計測においては、制御部の放射線による故障を回避するために、計測部(超音波検査装置であればプローブ、渦電流検査装置であればコイル)と制御部を長距離ケーブルで延長する手法を採用している。
【0004】
このような長距離伝送系においてアンプを用いない場合、放射線や他機器からの誘導ノイズによりSNが低下し、最悪の場合、亀裂(検査対象)などの信号が検出できなくなる。その場合、再計測が必要となり、検査工数の増加が問題となる。
【0005】
アンプを用いればSN向上により上記課題を解決できるが、伝送回路に一般的に用いられるオペアンプは放射線照射により生じる電離作用で特性が劣化するため、検出信号がうまく伝送できなくなる。
【0006】
放射線環境で信号を長距離伝送する方法としては、例えば特許文献1に述べられているように、SiC(炭化ケイ素)素子に事前照射し、劣化が収束したところで実機に組込む手法がある。これにより放射線耐性を向上できるが、放射線の線源を用いる手法であることから管理が煩雑となりコストがかかる懸念がある。また、超音波や渦電流のように高周波信号に対しては、特許文献1に記載の回路構成では適用が難しい。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0007】
特開2020-43187号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0008】
先述した伝送回路中の半導体素子(アンプ)の放射線劣化の課題に対し、我々は、従来のSi半導体からSiCのような高バンドギャップ半導体製とすることで回路の放射線耐性を大幅に向上させている。
【0009】
しかし、SiCのアンプは100kHz以上の高帯域の信号増幅には課題があり、従来の回路構成ではゲインが十分に確保できない。
【0010】
本発明が解決しようとする課題は、耐放射線性に優れ、高周波数帯域の信号を長距離伝送することができる伝送装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
(【0011】以降は省略されています)
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