特許ウォッチ

公開番号2024103168
公報種別公開特許公報(A)
公開日2024-08-01
出願番号2023007355
出願日2023-01-20
発明の名称真空排気装置、及びプラズマ発生装置
出願人エドワーズ株式会社
代理人個人,個人,個人
主分類H05H 1/46 20060101AFI20240725BHJP(他に分類されない電気技術)
要約【課題】小型化が容易な真空排気装置を提供する。
【解決手段】ターボ分子ポンプと、プラズマ発生装置210とを備えた真空排気装置であって、プラズマ発生装置210は、変位可能な電極214を有し、プラズマを発生させない非運転時に、電極214を変位させて、プラズマ連通口228を封止可能である。プラズマ発生装置210に、プラズマを発生させるための原料ガスの供給用配管が接続され、原料ガスが電極214の変位に利用される。プラズマ発生装置210には、ピストン220が配設され、ピストン220に作用する圧力差により電極214が変位する。
【選択図】図5
特許請求の範囲【請求項１】
真空ポンプと、プラズマ発生装置とを備えた真空排気装置であって、
前記プラズマ発生装置は、
変位可能な電極を有し、
プラズマを発生させない非運転時に、前記電極を変位させて、プラズマ連通口を封止可能であることを特徴とする真空排気装置。
続きを表示（約 700 文字）【請求項２】
前記プラズマ発生装置に、プラズマを発生させるための原料ガスの供給用配管が接続され、前記原料ガスが前記電極の変位に利用されることを特徴とする請求項１に記載の真空排気装置。
【請求項３】
前記プラズマ発生装置には、ピストンが配設され、前記ピストンに作用する圧力差により前記ピストンが移動して前記電極が変位することを特徴とする請求項１に記載の真空排気装置。
【請求項４】
前記プラズマ発生装置には、ダイアフラムが配設され、前記ダイアフラムに生じる圧力差により前記ダイアフラムが変形して前記電極が変位することを特徴とする請求項１に記載の真空排気装置。
【請求項５】
前記プラズマ発生装置には、
磁性体からなる電磁石ターゲットと、
前記電磁石ターゲットの近傍に配設された電磁石と、が配設され、
前記電磁石ターゲットと、前記電磁石との間に生じる磁力を前記電極に作用させて、前記電極が変位することを特徴とする請求項１に記載の真空排気装置。
【請求項６】
前記真空ポンプと、前記プラズマ発生装置とが、前記プラズマ発生装置から前記真空ポンプへの伝熱可能に固定されていることを特徴とする請求項１～５のいずれか１項に記載の真空排気装置。
【請求項７】
前記電極が、前記真空ポンプのケーシングに対向することを特徴とする請求項１～５のいずれか１項に記載の真空排気装置。
【請求項８】
プラズマ発生用で且つプラズマ連通口封止用の、変位可能な電極を備えたことを特徴とするプラズマ発生装置。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えばターボ分子ポンプ等の真空ポンプを備えた真空排気装置、及び、真空ポンプとの組み合わせが可能なプラズマ発生装置に関する。
続きを表示（約 1,700 文字）【背景技術】
【０００２】
一般に、真空ポンプの一種としてターボ分子ポンプが知られている。このターボ分子ポンプは、例えば、半導体やフラットパネル等の製造装置における排気のために用いられる。ターボ分子ポンプにおいては、ポンプ本体内のモータへの通電により回転翼を回転させ、ポンプ本体に吸い込んだガス（プロセスガス）の気体分子（ガス分子）を弾き飛ばすことによりガスを排気するようになっている。また、このようなターボ分子ポンプには、ポンプ内の温度を適切に管理するために、ヒータや冷却管を備えたタイプのものがある。
【０００３】
ターボ分子ポンプのような真空ポンプにおいては、半導体等の製造過程で生じる反応生成物が真空ポンプ内に堆積する場合がある。後掲の特許文献１には、反応生成物への対策として、真空ポンプにプラズマ発生装置を設置し、内部をプラズマ洗浄する技術が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
特開２０２２－０１７８６４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
特許文献１に開示された発明において、プラズマ源は、真空ポンプの側面に配設された導入ポートに対し、バルブを介して設置されている。そのため、真空ポンプ及びプラズマ発生装置の組み合わせた真空排気装置として、全体的に、張り出し寸法が大きくなる場合がある。
【０００６】
一方、真空ポンプの周囲には、真空ポンプの吸気口に接続されるコンダクタンスバルブのアクチュエータ、各種配管やフレームなどが設置される場合がある。その場合、真空ポンプの周囲には、プラズマ発生装置を設置するのに充分なスペースが無いことがある。そして、プラズマ発生装置を設置するために、真空ポンプやその周囲に対して、大掛かりな改造が必要となる場合があった。
【０００７】
本発明の目的とするところは、小型化が容易な真空排気装置、及び、プラズマ発生装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
（１）上記目的を達成するために本発明に係る真空排気装置は、
真空ポンプと、プラズマ発生装置とを備えた真空排気装置であって、
前記プラズマ発生装置は、
変位可能な電極を有し、
プラズマを発生させない非運転時に、前記電極を変位させて、プラズマ連通口を封止可能であることを特徴とする。
（２）上記目的を達成するために本発明に係るプラズマ発生装置は、
プラズマ発生用で且つプラズマ連通口封止用の、変位可能な電極を備えたことを特徴とする。
【発明の効果】
【０００９】
上記発明によれば、小型化が容易な真空排気装置、及び、プラズマ発生装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
本発明の第１実施形態に係る真空排気装置の構成を模式的に示す説明図である。
アンプ回路の回路図である。
電流指令値が検出値より大きい場合の制御を示すタイムチャートである。
電流指令値が検出値より小さい場合の制御を示すタイムチャートである。
第１実施形態に係るプラズマ発生装置とその周辺部を拡大して示す説明図である。
プラズマ発生装置の電力供給の流れを模式的に示す説明図である。
原料ガスの供給ラインを模式的に示すブロック図である。
（ａ）はターボ分子ポンプの運転時におけるプラズマ発生装置の状態を示す説明図、（ｂ）はターボ分子ポンプの待機時におけるプラズマ発生装置の状態を示す説明図である。
連結板を備えた変形例を示す説明図。
（ａ）は本発明の第２実施形態に係るプラズマ発生装置とその周辺部を拡大して示す説明図、（ｂ）は本発明の第３実施形態に係るプラズマ発生装置とその周辺部を拡大して示す説明図である。
【発明を実施するための形態】
（【００１１】以降は省略されています）

関連特許