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公開番号2024090050
公報種別公開特許公報(A)
公開日2024-07-04
出願番号2022205690
出願日2022-12-22
発明の名称成膜装置及び処理方法
出願人東京エレクトロン株式会社
代理人個人,個人
主分類H01L 21/31 20060101AFI20240627BHJP(基本的電気素子)
要約【課題】回転テーブル上の基板がない領域への膜の堆積を抑制できる技術を提供する。
【解決手段】本開示の一態様による成膜装置は、処理容器と、前記処理容器内に回転可能に設けられ、内部に冷媒流路を有する回転テーブルと、前記回転テーブルの回転方向に沿って複数設けられ、基板を載置する載置台と、前記載置台に載置される前記基板を加熱するヒータと、を備え、前記載置台は、前記回転テーブルと熱的に縁切りされた状態で前記回転テーブルに支持される。
【選択図】図1
特許請求の範囲【請求項１】
処理容器と、
前記処理容器内に回転可能に設けられ、内部に冷媒流路を有する回転テーブルと、
前記回転テーブルの回転方向に沿って複数設けられ、基板を載置する載置台と、
前記載置台に載置される前記基板を加熱するヒータと、
を備え、
前記載置台は、前記回転テーブルと熱的に縁切りされた状態で前記回転テーブルに支持される、
成膜装置。
続きを表示（約 910 文字）【請求項２】
前記回転テーブルに前記載置台の周方向に沿って複数設けられ、前記載置台を支持する支持体を備え、
前記載置台は、前記支持体と点接触する、
請求項１に記載の成膜装置。
【請求項３】
前記支持体は、前記回転テーブルとは別体である、
請求項２に記載の成膜装置。
【請求項４】
前記支持体は、前記載置台の半径方向に沿って移動可能である、
請求項３に記載の成膜装置。
【請求項５】
前記支持体は、前記回転テーブルに固定される、
請求項３に記載の成膜装置。
【請求項６】
前記支持体は、前記回転テーブルと一体である、
請求項２に記載の成膜装置。
【請求項７】
前記回転テーブルには、回転方向に沿って複数の凹部が設けられ、
前記凹部の内径は、前記載置台の直径よりも大きく、
前記支持体は、前記凹部の底面上に設けられ、前記載置台の周縁部を支持する、
請求項２乃至６のいずれか一項に記載の成膜装置。
【請求項８】
前記凹部の底面には、開口が設けられ、
前記載置台は、下面が前記開口から露出する、
請求項７に記載の成膜装置。
【請求項９】
前記載置台は、前記回転テーブルに対して相対的に回転可能である、
請求項１に記載の成膜装置。
【請求項１０】
処理容器と、
前記処理容器内に回転可能に設けられ、内部に冷媒流路を有する回転テーブルと、
前記回転テーブルの回転方向に沿って複数設けられ、基板を載置する載置台と、
前記載置台に載置される前記基板を加熱するヒータと、
を備える成膜装置において実施される処理方法であって、
前記載置台は、前記回転テーブルと熱的に縁切りされた状態で前記回転テーブルに支持され、
前記冷媒流路に冷媒を供給しながら前記載置台に載置された前記基板に膜を形成する工程を有する、
処理方法。
（【請求項１１】以降は省略されています）
発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本開示は、成膜装置及び処理方法に関する。
続きを表示（約 1,500 文字）【背景技術】
【０００２】
処理容器内にて回転テーブル上に載置した円形の基板を公転させながら基板に処理ガスを供給して処理を行う装置が知られている（例えば、特許文献１、２参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
特開２０１０－０５６４７０号公報
特開２０１０－２０６０２５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本開示は、回転テーブル上の基板がない領域への膜の堆積を抑制できる技術を提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本開示の一態様による成膜装置は、処理容器と、前記処理容器内に回転可能に設けられ、内部に冷媒流路を有する回転テーブルと、前記回転テーブルの回転方向に沿って複数設けられ、基板を載置する載置台と、前記載置台に載置される前記基板を加熱するヒータと、を備え、前記載置台は、前記回転テーブルと熱的に縁切りされた状態で前記回転テーブルに支持される。
【発明の効果】
【０００６】
本開示によれば、回転テーブル上の基板がない領域への膜の堆積を抑制できる。
【図面の簡単な説明】
【０００７】
実施形態に係る成膜装置を示す概略断面図である。
図１の成膜装置の処理容器内の構成を示す概略斜視図である。
図１の成膜装置の処理容器内の構成を示す概略平面図である。
図１の成膜装置の処理容器内に設けられる回転テーブルの同心円に沿った概略断面図である。
図１の成膜装置の別の概略断面図である。
回転テーブル及び載置台を示す断面図である。
回転テーブル及び載置台を示す平面図である。
第１変形例に係る回転テーブル及び載置台を示す断面図である。
第２変形例に係る回転テーブル及び載置台を示す断面図である。
第３変形例に係る回転テーブル及び載置台を示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【０００８】
以下、添付の図面を参照しながら、本開示の限定的でない例示の実施形態について説明する。添付の全図面中、同一又は対応する部材又は部品については、同一又は対応する参照符号を付し、重複する説明を省略する。
【０００９】
〔成膜装置〕
実施形態に係る成膜装置について説明する。図１から図３を参照すると、成膜装置は、ほぼ円形の平面形状を有する扁平な処理容器１と、処理容器１内に回転可能に設けられ、処理容器１の中心に回転中心を有する回転テーブル２と、を備える。処理容器１は、有底の円筒形状を有する容器本体１２と、容器本体１２の上面に対して、例えばＯリング等のシール部材１３（図１）を介して気密に着脱可能に配置される天板１１とを有する。
【００１０】
回転テーブル２は、中心部にて円筒形状のコア部２１に固定される。コア部２１は、鉛直方向に伸びる回転軸２２の上端に固定される。回転軸２２は、処理容器１の底部１４を貫通し、下端が回転軸２２（図１）を鉛直軸回りに回転させる駆動部２３に取り付けられる。回転軸２２及び駆動部２３は、上面が開口した筒状のケース体２０内に収納される。ケース体２０は、上面に設けられたフランジ部分が処理容器１の底部１４の下面に気密に取り付けられ、ケース体２０の内部の雰囲気と外部の雰囲気との気密状態が維持される。
（【００１１】以降は省略されています）

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