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公開番号2024072835
公報種別公開特許公報(A)
公開日2024-05-28
出願番号2024033535,2020563389
出願日2024-03-06,2019-12-25
発明の名称光照射剥離用接着剤組成物及び積層体並びに積層体の製造方法及び剥離方法
出願人日産化学株式会社
代理人個人,個人
主分類C09J 201/02 20060101AFI20240521BHJP(染料;ペイント;つや出し剤;天然樹脂;接着剤;他に分類されない組成物;他に分類されない材料の応用)
要約【課題】 支持体の接合時(硬化時)やウエハー裏面の加工時、さらには部品実装プロセ
スにおける耐熱性に優れ、支持体の剥離時には容易に剥離できる光照射剥離用接着剤組成
物等を提供すること。
【解決手段】 光照射により剥離可能な光照射剥離用接着剤組成物であって、接着剤成分
と、カーボンブラックとを含み、前記接着剤成分が、ヒドロシリル化反応により硬化する
成分(A)を含む。
【選択図】なし
特許請求の範囲【請求項1】
光照射により剥離可能な光照射剥離用接着剤組成物であって、
接着剤成分と、カーボンブラックとを含み、
前記接着剤成分が、ヒドロシリル化反応により硬化する成分(A)を含むことを特徴とする光照射剥離用接着剤組成物。
続きを表示(約 2,200 文字)【請求項2】
更に、エポキシ変性ポリオルガノシロキサンを含む成分、メチル基含有ポリオルガノシロキサンを含む成分及びフェニル基含有ポリオルガノシロキサンを含む成分からなる群から選択される少なくとも1種を含む成分(B)を含む請求項1記載の光照射剥離用接着剤組成物。
【請求項3】
前記ヒドロシリル化反応により硬化する成分(A)が、SiO

で表されるシロキサン単位(Q単位)、R





SiO
1/2
で表されるシロキサン単位(M単位)、R



SiO
2/2
で表されるシロキサン単位(D単位)及びR

SiO
3/2
で表されるシロキサン単位(T単位)からなる群より選ばれる1種又は2種以上の単位を含むポリシロキサン(A1)(前記R

~R

は、ケイ素原子に結合する基又は原子であり、互いに独立に、アルキル基、アルケニル基又は水素原子を表す。)と、白金族金属系触媒(A2)とを含み、
前記ポリシロキサン(A1)は、SiO

で表されるシロキサン単位(Q’単位)、R

’R

’R

’SiO
1/2
で表されるシロキサン単位(M’単位)、R

’R

’SiO
2/2
で表されるシロキサン単位(D’単位)及びR

’SiO
3/2
で表されるシロキサン単位(T’単位)からなる群より選ばれる1種又は2種以上の単位を含むとともに、前記M’単位、D’単位及びT’単位からなる群より選ばれる少なくとも1種を含むポリオルガノシロキサン(a1)(前記R

’~R

’は、ケイ素原子に結合する基であり、互いに独立に、アルキル基又はアルケニル基を表すが、前記R

’~R

’の少なくとも1つは、前記アルケニル基である。)と、SiO

で表されるシロキサン単位(Q”単位)、R

”R

”R

”SiO
1/2
で表されるシロキサン単位(M”単位)、R

”R

”SiO
2/2
で表されるシロキサン単位(D”単位)及びR

”SiO
3/2
で表されるシロキサン単位(T”単位)からなる群より選ばれる1種又は2種以上の単位を含むとともに、前記M”単位、D”単位及びT”単位からなる群より選ばれる少なくとも1種を含むポリオルガノシロキサン(a2)(前記R

”~R

”は、ケイ素原子に結合する基又は原子であり、互いに独立に、アルキル基又は水素原子を表すが、前記R

”~R

”の少なくとも1つは、水素原子である。)とを含む請求項1又は2記載の光照射剥離用接着剤組成物。
【請求項4】
前記カーボンブラックの含有量が、前記接着剤成分に対して、0.1~50質量%である、請求項1~3のいずれか1項記載の光照射剥離用接着剤組成物。
【請求項5】
溶媒を含む請求項1~4のいずれか1項記載の光照射剥離用接着剤組成物。
【請求項6】
前記溶媒の含有量が、前記組成物全体に対して、10~90質量%である請求項5記載の光照射剥離用接着剤組成物。
【請求項7】
エポキシ変性ポリオルガノシロキサンを含む成分、メチル基含有ポリオルガノシロキサンを含む成分及びフェニル基含有ポリオルガノシロキサンを含む成分からなる群から選択される少なくとも1種を含む成分を含む請求項1~6のいずれか1項記載の光照射剥離用接着剤組成物。
【請求項8】
半導体形成基板からなる第1基体と、レーザーを透過する支持基板からなる第2基体と、接着層とを備える積層体であって、
前記接着層が、請求項1~7のいずれか1項記載の光照射剥離用接着剤組成物から得られる硬化膜である、積層体。
【請求項9】
第1基体又は第2基体の表面に請求項1~7のいずれか1項記載の光照射剥離用接着剤組成物を塗布して接着剤塗布層を形成する第1工程と、
前記第1基体と前記第2基体とを前記接着剤塗布層を介して合わせ、加熱処理及び減圧処理の少なくとも一方を実施しながら、前記第1基体及び前記第2基体の厚さ方向の荷重をかけることによって、前記第1基体と前記接着剤塗布層と前記第2基体とを密着させ、その後、後加熱処理を行う第2工程と、を含む積層体の製造方法。
【請求項10】
請求項9に記載の積層体の製造方法により得られた積層体の前記第2基体側からレーザーを照射し、前記第2基体を剥離する、剥離方法。
(【請求項11】以降は省略されています)

発明の詳細な説明【技術分野】
【0001】
本発明は、光照射剥離用接着剤組成物及び積層体並びに積層体の製造方法及び剥離方法に関する。
続きを表示(約 3,500 文字)【背景技術】
【0002】
従来2次元的な平面方向に集積してきた半導体ウエハーは、より一層の集積化を目的に平面を更に3次元方向にも集積(積層)する半導体集積技術が求められている。この3次元積層はシリコン貫通電極(TSV:through silicon via)によって結線しながら多層に集積していく技術である。多層に集積する際に、集積されるそれぞれのウエハーは形成された回路面とは反対側(即ち、裏面)を研磨によって薄化し、薄化された半導体ウエハーを積層する。
【0003】
薄化前の半導体ウエハー(ここでは単にウエハーとも呼ぶ)が、研磨装置で研磨するために支持体に接着される。その際の接着は研磨後に容易に剥離されなければならないため、仮接着と呼ばれる。この仮接着は支持体から容易に取り外されなければならず、取り外しに大きな力を加えると薄化された半導体ウエハーは、切断されたり変形したりすることがあり、その様なことが生じない様に、容易に取り外される。しかし、半導体ウエハーの裏面研磨時に研磨応力によって外れたりずれたりすることは好ましくない。従って、仮接着に求められる性能は研磨時の応力に耐え、研磨後に容易に取り外されることである。
【0004】
例えば研磨時の平面方向に対して高い応力(強い接着力)を持ち、取り外し時の縦方向に対して低い応力(弱い接着力)を有する性能が求められる。
【0005】
この様な接着と分離プロセスのためにレーザー照射による方法が開示されている(特許文献1、特許文献2を参照)。
【0006】
しかし、これらの接着と分離プロセスに用いられる仮接着剤はレーザーの照射により発熱が生じガスの発生もあるのでウエハーへのダメージも大きい。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0007】
特開2004-64040号公報
特開2012-106486号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0008】
本発明は、前記事情に鑑みてなされたものであって、支持体の接合時(硬化時)やウエハー裏面の加工時、さらには部品実装プロセスにおける耐熱性に優れ、支持体の剥離時にはレーザーを照射することで容易に剥離可能な接着層として好適な薄膜を与える光照射剥離用接着剤組成物及びそれを用いた積層体並びに積層体の製造方法及び剥離方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0009】
本発明者らが、前記課題を解決するために種々検討した結果、本来、容易に剥離可能な程度にレーザーを吸収しないヒドロシリル化反応により硬化する成分(A)を含む接着剤成分にカーボンブラックを添加すると、カーボンブラックに吸収されたレーザーの作用により、前記接着成分の接着強度が低下して容易に剥離可能となることを知見し、本発明を完成させた。
【0010】
すなわち、本発明は、
第1観点として、光照射により剥離可能な光照射剥離用接着剤組成物であって、接着剤成分と、カーボンブラックとを含み、前記接着剤成分が、ヒドロシリル化反応により硬化する成分(A)を含むことを特徴とする光照射剥離用接着剤組成物、
第2の観点として、更に、エポキシ変性ポリオルガノシロキサンを含む成分、メチル基含有ポリオルガノシロキサンを含む成分及びフェニル基含有ポリオルガノシロキサンを含む成分からなる群から選択される少なくとも1種を含む成分(B)を含む第1の観点に記載の光照射剥離用接着剤組成物、
第3の観点として、前記ヒドロシリル化反応により硬化する成分(A)が、SiO

で表されるシロキサン単位(Q単位)、R





SiO
1/2
で表されるシロキサン単位(M単位)、R



SiO
2/2
で表されるシロキサン単位(D単位)及びR

SiO
3/2
で表されるシロキサン単位(T単位)からなる群より選ばれる1種又は2種以上の単位を含むポリシロキサン(A1)(前記R

~R

は、ケイ素原子に結合する基又は原子であり、互いに独立に、アルキル基、アルケニル基又は水素原子を表す。)と、白金族金属系触媒(A2)とを含み、前記ポリシロキサン(A1)は、SiO

で表されるシロキサン単位(Q’単位)、R

’R

’R

’SiO
1/2
で表されるシロキサン単位(M’単位)、R

’R

’SiO
2/2
で表されるシロキサン単位(D’単位)及びR

’SiO
3/2
で表されるシロキサン単位(T’単位)からなる群より選ばれる1種又は2種以上の単位を含むとともに、前記M’単位、D’単位及びT’単位からなる群より選ばれる少なくとも1種を含むポリオルガノシロキサン(a1)(前記R

’~R

’は、ケイ素原子に結合する基であり、互いに独立に、アルキル基又はアルケニル基を表すが、前記R

’~R

’の少なくとも1つは、前記アルケニル基である。)と、SiO

で表されるシロキサン単位(Q”単位)、R

”R

”R

”SiO
1/2
で表されるシロキサン単位(M”単位)、R

”R

”SiO
2/2
で表されるシロキサン単位(D”単位)及びR

”SiO
3/2
で表されるシロキサン単位(T”単位)からなる群より選ばれる1種又は2種以上の単位を含むとともに、前記M”単位、D”単位及びT”単位からなる群より選ばれる少なくとも1種を含むポリオルガノシロキサン(a2)(前記R

”~R

”は、ケイ素原子に結合する基又は原子であり、互いに独立に、アルキル基又は水素原子を表すが、前記R

”~R

”の少なくとも1つは、水素原子である。)とを含む第1の観点又は第2の観点記載の光照射剥離用接着剤組成物、
第4の観点として、前記カーボンブラックの含有量が、前記接着剤成分に対して、0.1~50質量%である、第1~3の観点のいずれかに記載の光照射剥離用接着剤組成物、
第5の観点として、溶媒を含む第1~4の観点のいずれかに記載の光照射剥離用接着剤組成物、
第6の観点として、前記溶媒の含有量が、前記組成物全体に対して、10~90質量%である第5の観点に記載の光照射剥離用接着剤組成物、
第7の観点として、エポキシ変性ポリオルガノシロキサンを含む成分、メチル基含有ポリオルガノシロキサンを含む成分及びフェニル基含有ポリオルガノシロキサンを含む成分からなる群から選択される少なくとも1種を含む成分を含む第1~6の観点のいずれかに記載の光照射剥離用接着剤組成物、
第8の観点として、半導体形成基板からなる第1基体と、レーザーを透過する支持基板からなる第2基体と、接着層とを備える積層体であって、前記接着層が、第1~7の観点のいずれかに記載の光照射剥離用接着剤組成物から得られる硬化膜である、積層体、
第9の観点として、第1基体又は第2基体の表面に第1~7の観点のいずれかに記載の光照射剥離用接着剤組成物を塗布して接着剤塗布層を形成する第1工程と、前記第1基体と前記第2基体とを前記接着剤塗布層を介して合わせ、加熱処理及び減圧処理の少なくとも一方を実施しながら、前記第1基体及び前記第2基体の厚さ方向の荷重をかけることによって、前記第1基体と前記接着剤塗布層と前記第2基体とを密着させ、その後、後加熱処理を行う第2工程と、を含む積層体の製造方法、
【発明の効果】
(【0011】以降は省略されています)

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