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公開番号
2025165288
公報種別
公開特許公報(A)
公開日
2025-11-04
出願番号
2024069319
出願日
2024-04-22
発明の名称
画像形成装置
出願人
コニカミノルタ株式会社
代理人
弁理士法人光陽国際特許事務所
,
弁理士法人信友国際特許事務所
主分類
G03G
15/02 20060101AFI20251027BHJP(写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ)
要約
【課題】感光体に対する帯電極の配置位置に応じて、感光体の表面電位を均一にする。
【解決手段】画像形成装置1は、感光体131bの外周面に沿って配置され、長手方向の両端により支持される帯電グリッドを有し、帯電グリッドが感光体の外周面に対向し、帯電グリッドの開口率が、感光体131bに対する配置位置に応じて調整される帯電装置と、感光体131bの外周面の表面電位差に応じて、帯電装置の動作条件を変更する制御部16と、を備える。
【選択図】 図6
特許請求の範囲
【請求項1】
感光体の外周面に沿って配置され、長手方向の両端により支持される帯電グリッドを有し、前記帯電グリッドが前記感光体の外周面に対向し、前記帯電グリッドの開口率が、前記感光体に対する配置位置に応じて調整される帯電装置と、
前記感光体の外周面の表面電位差に応じて、前記帯電装置の動作条件を変更する制御部と、を備える
画像形成装置。
続きを表示(約 1,200 文字)
【請求項2】
前記帯電装置の前記動作条件は、前記帯電装置に印加する帯電グリッド電圧と、前記帯電装置が有する帯電ワイヤーに供給する帯電ワイヤー電流、前記感光体の回転速度、及び前記帯電装置の温度の少なくとも1つ以上と、を含む
請求項1に記載の画像形成装置。
【請求項3】
重力方向と、前記帯電グリッドの開口面から前記感光体の中心を通る線分方向とのつくる角の小さい方の角をなす角とし、前記なす角が鋭角である場合、前記帯電グリッドの長手方向における中央部の前記開口率が小さく調整される
請求項1に記載の画像形成装置。
【請求項4】
前記なす角が鈍角である場合、前記帯電グリッドの長手方向における中央部の前記開口率が大きく調整される
請求項3に記載の画像形成装置。
【請求項5】
前記表面電位差は、前記開口率が最小である前記帯電グリッドの部分に対向する前記感光体の前記表面電位と、前記開口率が最大である前記帯電グリッドの部分に対向する前記感光体の前記表面電位との差である
請求項4に記載の画像形成装置。
【請求項6】
前記表面電位差が0未満の場合、前記制御部は、前記帯電装置に印加する帯電グリッド電圧を上げ、前記帯電装置が有する帯電ワイヤーに供給する帯電ワイヤー電流を下げるように制御し、
前記表面電位差が0を超える場合、前記制御部は、前記帯電グリッド電圧を下げ、前記帯電ワイヤー電流を上げるように制御する
請求項5に記載の画像形成装置。
【請求項7】
前記帯電ワイヤー電流に上限値が設けられ、前記表面電位差が0を超え、かつ、前記帯電ワイヤー電流が前記上限値に到達した場合、
前記制御部は、前記帯電グリッド電圧を下げ、前記感光体の回転速度を下げるように制御する
請求項6に記載の画像形成装置。
【請求項8】
前記表面電位差が0未満の場合、前記制御部は、前記帯電装置に印加する帯電グリッド電圧を上げ、前記感光体の回転速度を上げるように制御し、
前記表面電位差が0を超える場合、前記制御部は、前記帯電グリッド電圧を下げ、前記感光体の回転速度を下げるように制御する
請求項5に記載の画像形成装置。
【請求項9】
前記帯電装置の温度を調整する温調装置を備える
請求項5に記載の画像形成装置。
【請求項10】
前記表面電位差が0未満の場合、前記制御部は、前記帯電装置に印加する帯電グリッド電圧を上げ、前記帯電装置の温度を下げるように前記温調装置を制御し、
前記表面電位差が0を超える場合、前記制御部は、前記帯電グリッド電圧を下げ、前記帯電装置の温度を上げるように前記温調装置を制御する
請求項9に記載の画像形成装置。
(【請求項11】以降は省略されています)
発明の詳細な説明
【技術分野】
【0001】
本発明は、画像形成装置に関する。
続きを表示(約 2,400 文字)
【背景技術】
【0002】
画像形成装置では、潜像担持体である感光体の表面を帯電させる構成部、潜像担持体上のトナー像を転写する構成部等に、コロナ放電するスコロトロン帯電極が用いられる。スコロトロン帯電極は、帯電グリッド及び帯電ワイヤーを備える。帯電グリッド及び帯電ワイヤーに電圧を印加することで、潜像担持体との間でコロナ放電が発生し、潜像担持体の表面を帯電させる。しかし、帯電グリッドが重力によってたわみ、帯電グリッドの端部及び中央部のそれぞれと、感光体との距離が変わってしまう。帯電グリッドと感光体との距離が変わってしまうと、帯電グリッドに近い感光体の部分に与える電荷量が増えてしまう。その結果、感光体の表面に電位差が生じて、この電位差により濃度ムラの画像異常が発生する。そこで、感光体の表面電位を均一化する技術、例えば、特許文献1に記載の技術が提案されている。
【0003】
特許文献1には、放電電極の軸方向における両端部の該放電電極と電離域制御電極間に、中央部分に比べ、絶対値が大きい電界が生じるように設定することが記載されている。また、特許文献1には、電離域制御電極がスリットを有する板状部材からなることが記載されている。また、特許文献1には、電離域制御電極の軸方向における両端部のスリット幅が、中心部分と比べて小さくなっていることが記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0004】
特開平11-15232号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
上述のように、感光体の表面電位を均一化するため、帯電グリッドの両端部のスリット幅を中心部分より小さくし、両端部の放電電極と電離域制御電極との間に、中央部分に比べ、絶対値が大きい電界を生じさせる技術が提案されている。しかし、画像形成装置の仕様により、帯電極が感光体の上方に配置され、帯電グリッドが重力方向に対して正向きになる場合がある。この場合、重力により帯電グリッドの長手方向における中央部と、感光体の表面との距離が狭くなる。この場合、特許文献1に記載の技術を適用すると、グリッドの中心部のスリット幅が、すなわち、開口率が両端部より大きくなる。グリッドの中心部の開口率が大きくなると、中央部を通過する電荷量が多くなり、感光体の中央部の電位が強くなり、濃度ムラが発生してしまう。
【0006】
本発明は上記課題を解決するために成されたものである。本発明の目的は、感光体に対する帯電極の配置位置に応じて、感光体の表面電位を均一にすることである。
【課題を解決するための手段】
【0007】
本発明の画像形成装置は、感光体の外周面に沿って配置され、長手方向の両端により支持される帯電グリッドを有し、帯電グリッドが感光体の外周面に対向し、帯電グリッドの開口率が、感光体に対する配置位置に応じて調整される帯電装置と、感光体の外周面の表面電位差に応じて、帯電装置の動作条件を変更する制御部と、を備える。
【発明の効果】
【0008】
上記構成の本発明によれば、感光体に対する帯電極の配置位置に応じて、感光体の表面電位を均一にすることができる。
上記以外の課題、構成及び効果は、以下の実施の形態の説明により明らかにされる。
【図面の簡単な説明】
【0009】
本発明の一実施形態に係る画像形成装置の構成例を示す概略断面図である。
本発明の一実施形態に係る画像形成装置の制御部のハードウェア構成例を示すブロック図である。
感光体に対する帯電極の配置位置に応じて発生する帯電グリッドのたわみを示す図である。
帯電グリッドのたわみにより濃度ムラが発生する場合のハーフトーン画像濃度プロファイルの一例を示す図である。
感光体に対する帯電極の位置を表す方法を説明するための図である。
本発明の一実施形態に係る画像形成装置において、帯電極の配置位置に応じる開口率の調整方法を説明するため図である。
本発明の一実施形態に係る画像形成装置において、帯電グリッドの配置位置に応じる開口率の調整データを示す図である。
本発明の一実施形態に係る画像形成装置において、帯電グリッドの配置位置に応じる開口率の調整イメージを示す図である。
本発明の一実施形態に係る画像形成装置において、感光体の表面電位を均一に制御するための制御テーブルの例1を示す図である。
本発明の一実施形態に係る画像形成装置において、帯電量均一化制御が行われた後のハーフトーン画像濃度プロファイルの一例を示す図である。
本発明の一実施形態に係る画像形成装置において、感光体の表面電位を均一に制御するための制御テーブルの例2を示す図である。
本発明の一実施形態に係る画像形成装置において、感光体の表面電位を均一に制御するための制御テーブルの例3を示す図である。
本発明の一実施形態に係る画像形成装置において、感光体の表面電位を均一に制御するための制御テーブルの例4を示す図である。
本発明の一実施形態に係る画像形成装置において、感光体の表面電位を均一に制御するための制御テーブルの例5を示す図である。
本発明の一実施形態に係る画像形成装置において、感光体の表面電位を均一に制御するための制御テーブルの例6を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【0010】
以下、本発明を実施するための形態について、添付図面を参照して説明する。本明細書及び図面において、実質的に同一の機能又は構成を有する構成要素については、同一の符号を付することにより重複する説明を省略する。
(【0011】以降は省略されています)
この特許をJ-PlatPat(特許庁公式サイト)で参照する
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