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公開番号2025154593
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-10-10
出願番号2024057687
出願日2024-03-29
発明の名称探索プログラム、探索方法、および情報処理装置
出願人富士通株式会社
代理人個人
主分類G06F 30/398 20200101AFI20251002BHJP(計算;計数)
要約【課題】短時間で所望のパターンを探索することができる探索プログラム、探索方法、および情報処理装置を提供する。
【解決手段】基本構造を用意する第1処理と、基本構造を複数の局所領域に分割する第2処理と、複数の局所領域のそれぞれについて、基本構造のうち当該局所領域に含まれる対象物の配置・非配置の組み合わせパターンである初期構造を、初期構造とは異なる対象物の配置・非配置の組み合わせパターンとした場合に、所定領域の全体としての特性が改善されるようセルにおける配置・非配置の探索を行い、特性が改善された改善構造を探索する第3処理と、複数の局所領域のそれぞれについて、初期構造および改善構造のうちいずれかを指定することで、所定領域において初期構造と改善構造との組み合わせを教師データとして複数作成し、当該複数の教師データを用いて所定領域のセルにおける対象物の配置・非配置を探索する第4処理と、を実行する。
【選択図】図10

特許請求の範囲【請求項１】
コンピュータに、
所定領域において、対象物の配置・非配置の単位であるセルを複数含む基本構造を用意する第１処理と、
前記基本構造を、それぞれ複数のセルを含む複数の局所領域に分割する第２処理と、
前記複数の局所領域のそれぞれについて、前記基本構造のうち当該局所領域に含まれる前記対象物の配置・非配置の組み合わせパターンである初期構造を、前記初期構造とは異なる前記対象物の配置・非配置の組み合わせパターンとした場合に、前記所定領域の全体としての特性が改善されるよう前記セルにおける配置・非配置の探索を行い、前記特性が改善された改善構造を探索する第３処理と、
前記複数の局所領域のそれぞれについて、前記初期構造および前記改善構造のうちいずれかを指定することで、前記所定領域において前記初期構造と前記改善構造との組み合わせを教師データとして複数作成し、当該複数の教師データを用いて前記所定領域の前記セルにおける前記対象物の配置・非配置を探索する第４処理と、を実行させることを特徴とする探索プログラム。
続きを表示（約 1,200 文字）【請求項２】
前記第４処理で得られた結果を前記基本構造として、前記第３処理および前記第４処理をさらに実行することを特徴とする請求項１に記載の探索プログラム。
【請求項３】
前記第１処理で前記基本構造を用意する際に、前記所定領域の前記セルにおける前記対象物の配置・非配置を指定する複数の教師データを用意し、当該複数の教師データを用いて所定のアルゴリズムで前記特性が良好となるように前記基本構造を探索することを特徴とする請求項１に記載の探索プログラム。
【請求項４】
前記対象物は、導体であり、
前記所定領域の特性は、周波数特性であることを特徴とする請求項１に記載の探索プログラム。
【請求項５】
コンピュータが、
所定領域において、対象物の配置・非配置の単位であるセルを複数含む基本構造を用意する第１処理と、
前記基本構造を、それぞれ複数のセルを含む複数の局所領域に分割する第２処理と、
前記複数の局所領域のそれぞれについて、前記基本構造のうち当該局所領域に含まれる前記対象物の配置・非配置の組み合わせパターンである初期構造を、前記初期構造とは異なる前記対象物の配置・非配置の組み合わせパターンとした場合に、前記所定領域の全体としての特性が改善されるよう前記セルにおける配置・非配置の探索を行い、前記特性が改善された改善構造を探索する第３処理と、
前記複数の局所領域のそれぞれについて、前記初期構造および前記改善構造のうちいずれかを指定することで、前記所定領域において前記初期構造と前記改善構造との組み合わせを教師データとして複数作成し、当該複数の教師データを用いて前記所定領域の前記セルにおける前記対象物の配置・非配置を探索する第４処理と、を実行することを特徴とする探索方法。
【請求項６】
所定領域において、対象物の配置・非配置の単位であるセルを複数含む基本構造を作成する基本構造作成部と、
前記基本構造を、それぞれ複数のセルを含む複数の局所領域に分割する分割部と、
前記複数の局所領域のそれぞれについて、前記基本構造のうち当該局所領域に含まれる前記対象物の配置・非配置の組み合わせパターンである初期構造を、前記初期構造とは異なる前記対象物の配置・非配置の組み合わせパターンとした場合に、前記所定領域の全体としての特性が改善されるよう前記セルにおける配置・非配置の探索を行い、前記特性が改善された改善構造を探索する局所領域探索部と、
前記複数の局所領域のそれぞれについて、前記初期構造および前記改善構造のうちいずれかを指定することで、前記所定領域において前記初期構造と前記改善構造との組み合わせを教師データとして複数作成し、当該複数の教師データを用いて前記所定領域の前記セルにおける前記対象物の配置・非配置を探索する全体探索部と、を備えることを特徴とする情報処理装置。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本件は、探索プログラム、探索方法、および情報処理装置に関する。
続きを表示（約 2,000 文字）【背景技術】
【０００２】
回路基板の導体パターンなどの最適化が望まれている（例えば、特許文献１～３参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
国際公開第２００５／０１５４４９号
米国特許公開第２０２２／０２１５１４６号
米国特許公開第２０１２／０１１０５４０号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、パターンの最適化には時間を要する。また、パターンを最適化しても、所望の特性が得られないおそれがある。
【０００５】
１つの側面では、本件は、短時間で所望のパターンを探索することができる探索プログラム、探索方法、および情報処理装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
１つの態様では、探索プログラムは、コンピュータに、所定領域において、対象物の配置・非配置の単位であるセルを複数含む基本構造を用意する第１処理と、前記基本構造を、それぞれ複数のセルを含む複数の局所領域に分割する第２処理と、前記複数の局所領域のそれぞれについて、前記基本構造のうち当該局所領域に含まれる前記対象物の配置・非配置の組み合わせパターンである初期構造を、前記初期構造とは異なる前記対象物の配置・非配置の組み合わせパターンとした場合に、前記所定領域の全体としての特性が改善されるよう前記セルにおける配置・非配置の探索を行い、前記特性が改善された改善構造を探索する第３処理と、前記複数の局所領域のそれぞれについて、前記初期構造および前記改善構造のうちいずれかを指定することで、前記所定領域において前記初期構造と前記改善構造との組み合わせを教師データとして複数作成し、当該複数の教師データを用いて前記所定領域の前記セルにおける前記対象物の配置・非配置を探索する第４処理と、を実行させる。
【発明の効果】
【０００７】
短時間で所望のパターンを探索することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
（ａ）はバンドパスフィルタ等に用いるアナログ回路基板の一部を例示する斜視図であり、（ｂ）は当該アナログ回路基板の平面図である。
特性値を例示する図である。
（ａ）は情報処理装置の全体構成を例示するブロック図であり、（ｂ）は情報処理装置のハードウェア構成を例示するブロック図である。
情報処理装置が実行する処理を表すフローチャートである。
情報処理装置が実行する処理を表すフローチャートである。
基本構造の分割を例示する図である。
（ａ）～（ｃ）はシミュレーション結果について説明するための図である。
（ａ）～（ｃ）はシミュレーション結果について説明するための図である。
（ａ）および（ｂ）はシミュレーション結果について説明するための図である。
（ａ）～（ｃ）はシミュレーション結果について説明するための図である。
（ａ）～（ｃ）はシミュレーション結果について説明するための図である。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
実施例の説明に先立って、回路基板の最適化の概要について説明する。図１（ａ）は、バンドパスフィルタ等に用いるアナログ回路基板の一部を例示する斜視図である。図１（ｂ）は、当該アナログ回路基板の平面図である。図1（ａ）および図１（ｂ）で例示するように、表面パターン２００の両端に、第１導体２０１と第２導体２０２とが接続されている。第１導体２０１と第２導体２０２との間に電圧が印加されると、第１導体２０１から表面パターン２００を通って第２導体２０２に向かって電流が流れるか、第２導体２０２から表面パターン２００を通って第１導体２０１に向かって電流が流れる。
【００１０】
回路基板では、表面パターン２００のパターン形状（長さ、幅）による抵抗の変化、パターン間の状態による容量変化などが周波数特性に影響を与える。そこで、表面パターン２００のパターン形状の最適化が望まれている。例えば、表面パターン２００が、自身に割り当てられた所定領域の全領域に導体が形成されたパターン（例えば、ベタ塗り）を有する場合には、良好な周波数特性が得られないおそれがある。そこで、表面パターン２００は、上記所定領域において、導体が形成された領域と、導体が形成されていない領域とが混在するパターン形状を有している。導体が形成された領域と、導体が形成されていない領域との最適な配置を探索することで、良好な特性値（例えば、周波数特性：Ｃｏｓｔ値）が得られるようになる。良好な特性値については、一例として図２に例示する。
（【００１１】以降は省略されています）

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