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公開番号2025152853
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-10-10
出願番号2024055000
出願日2024-03-28
発明の名称多層膜、光学部材、撮像機器および多層膜の製造方法
出願人富士フイルム株式会社
代理人弁理士法人太陽国際特許事務所
主分類G02B 1/118 20150101AFI20251002BHJP(光学)
要約【課題】優れた親水性と光触媒性を有する多層膜、光学部材、撮像機器および多層膜の製造方法を提供する。
【解決手段】基板上に設けられる多層膜であって、モスアイ構造を表面に有し親水性を発現する酸化シリコン層と、酸化シリコン層に接して配置された、光触媒機能を発現する酸化チタン層とを備える。
【選択図】図1
特許請求の範囲【請求項１】
基板上に設けられる多層膜であって、
モスアイ構造を表面に有し親水性を発現する酸化シリコン層と、
前記酸化シリコン層に接して配置された、光触媒機能を発現する酸化チタン層とを備える、
多層膜。
続きを表示（約 670 文字）【請求項２】
前記酸化チタン層は、前記酸化シリコン層と前記基板の間に配置される
請求項１に記載の多層膜。
【請求項３】
前記酸化シリコン層は、親水性を発現する官能基を備える
請求項１に記載の多層膜。
【請求項４】
前記モスアイ構造の高さは、１２０ｎｍ～４００ｎｍであり、
周期は８０ｎｍ～２２０ｎｍである、
請求項１に記載の多層膜。
【請求項５】
前記酸化チタン層の膜厚は２５０ｎｍ～５００ｎｍであり、
光触媒活性に必要な紫外線照射エネルギーが７Ｊ/ｃｍ
2
以下である、
請求項１に記載の多層膜。
【請求項６】
水の接触角が５°以下である、請求項１に記載の多層膜。
【請求項７】
ヘイズが３．２％以下である、請求項１に記載の多層膜。
【請求項８】
前記基板と、前記酸化チタン層との間に、反射防止機能を有する中間層を有する、
請求項１に記載の多層膜。
【請求項９】
請求項１から８のいずれか１項に記載の多層膜と、
前記多層膜が表面に設けられた前記基板とを備え、
前記基板が、表面が平坦な平板基板もしくは所定の曲率を有する光学レンズである、光学部材。
【請求項１０】
波長４００ｎｍ～７００ｎｍの光を垂直入射させた場合の反射率が０．０５％以下である、請求項９に記載の光学部材。
（【請求項１１】以降は省略されています）
発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本開示は、多層膜、光学部材、撮像機器および多層膜の製造方法に関する。
続きを表示（約 1,000 文字）【背景技術】
【０００２】
カメラ等に用いられる光学部材は、結露によって光学部材表面に水滴が形成されると、水滴が光を散乱し、カメラにおいては画質を劣化させる。さらに、結露と乾燥を繰り返すと、光学部材表面に汚れが残留し、汚れが光を散乱および遮蔽し、画質を劣化させる。また、汚れは親水性の低下を生じ、水滴が形成されやすくなる。閉じた空間に配置された光学部材においては、水滴と汚れの除去が困難である。対策として、光学部材表面に親水性層を配置し、水滴の形成を抑制するとともに、光触媒層を配置し、汚れに含まれる有機物を分解する手段が有る。また、光学部材は入射光に対する反射率が低いことが望まれる。
【０００３】
特許文献１には、基板の表面上に反射防止層を備え、反射防止層の表面に酸化チタンからなる光触媒層を備え、光触媒層の表面に、酸化シリコンからなり、微細な細孔が形成された、親水性、光触媒性および低反射率の特性を有する多層膜が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
国際公開第２０２０／１２９５５８号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本開示は、優れた親水性と光触媒性を有する多層膜、多層膜を備えた光学部材、および多層膜の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本開示の多層膜は、基板上に、モスアイ構造を表面に有し親水性を発現する酸化シリコン層と、酸化シリコン層に接して配置された、光触媒機能を発現する酸化チタン層とを備えた多層膜である。
【０００７】
本開示の多層膜の酸化チタン層は、酸化シリコン層と基板の間に配置されることが好ましい。
【０００８】
本開示の多層膜の酸化シリコン層は、親水性を発現する官能基を備えることが好ましい。
【０００９】
本開示の多層膜のモスアイ構造の高さは、１２０ｎｍ～４００ｎｍが好ましく、周期は８０ｎｍ～２２０ｎｍであることが好ましい。
【００１０】
本開示の多層膜は、酸化チタン層の膜厚は２５０ｎｍ～５００ｎｍが好ましく、光触媒活性に必要な紫外線照射エネルギーが７Ｊ/ｃｍ
2
以下であることが好ましい。
（【００１１】以降は省略されています）

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