TOP特許意匠商標
特許ウォッチ Twitter
10個以上の画像は省略されています。
公開番号2025148626
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-10-08
出願番号2022134987
出願日2022-08-26
発明の名称複合多孔質体、および複合多孔質体の製造方法
出願人住友電気工業株式会社
代理人個人,個人
主分類B01D 69/12 20060101AFI20251001BHJP(物理的または化学的方法または装置一般)
要約【課題】基材と被覆層との密着性に優れる上に、可とう性に優れる複合多孔質体を提供する。
【解決手段】第一面を有する基材と、前記第一面の少なくとも一部を覆う被覆層と、を備え、前記基材は、ポリテトラフルオロエチレンによって構成された多孔質体であり、前記被覆層は、複数のナノファイバーの積層体を含み、前記多孔質体は、分散して配置された複数のノードと、前記複数のノード同士をつないでいるフィブリルと、を有し、前記第一面が前記複数のノードを含み、前記第一面における前記基材の平均孔径が5nm以上500nm以下であり、前記第一面における前記複数のノードの面積率が30%以上70%以下である、複合多孔質体。
【選択図】図2
特許請求の範囲【請求項1】
第一面を有する基材と、
前記第一面の少なくとも一部を覆う被覆層と、を備え、
前記基材は、ポリテトラフルオロエチレンによって構成された多孔質体であり、
前記被覆層は、複数のナノファイバーの積層体を含み、
前記多孔質体は、
分散して配置された複数のノードと、
前記複数のノード同士をつないでいるフィブリルと、を有し、
前記第一面が前記複数のノードを含み、
前記第一面における前記基材の平均孔径が5nm以上500nm以下であり、
前記第一面における前記複数のノードの面積率が30%以上70%以下である、
複合多孔質体。
続きを表示(約 560 文字)【請求項2】
前記被覆層の平均孔径が1nm以上50nm以下である、請求項1に記載の複合多孔質体。
【請求項3】
前記被覆層の平均厚さが10nm以上1000nm以下である、請求項1または請求項2に記載の複合多孔質体。
【請求項4】
前記被覆層はポリマーを含む、請求項1または請求項2に記載の複合多孔質体。
【請求項5】
前記ポリマーが親水性ポリマーである、請求項4に記載の複合多孔質体。
【請求項6】
前記親水性ポリマーがポリビニルアルコールである、請求項5に記載の複合多孔質体。
【請求項7】
前記複数のナノファイバーのそれぞれは、アルミニウムと酸素と水素とを含む無機材料からなる、請求項1または請求項2に記載の複合多孔質体。
【請求項8】
前記第一面における空孔の平均短径が4nm以上400nm以下である、請求項1または請求項2に記載の複合多孔質体。
【請求項9】
前記第一面の少なくとも一部は親水性素材を含む、請求項1または請求項2に記載の複合多孔質体。
【請求項10】
前記親水性素材が親水性ポリマーである、請求項9に記載の複合多孔質体。
(【請求項11】以降は省略されています)

発明の詳細な説明【技術分野】
【0001】
本発明は、複合多孔質体、および複合多孔質体の製造方法に関するものである。
続きを表示(約 1,900 文字)【背景技術】
【0002】
特許文献1には、フィルターに利用されるアルミナ複合分離膜が開示されている。アルミナ複合分離膜は、多孔質材料からなる支持体と多孔質薄膜層とを含む。多孔質材料は代表的にはアルミナなどの無機酸化物によって構成されている。多孔質薄膜層は、複数の繊維状アルミナ粒子を積層することによって構成されている。特許文献1の実施例に開示される複合多孔質体は、アルミナを主成分とする支持体を備える。アルミナによって構成される支持体および多孔質薄膜層を備えるアルミナ複合分離膜は、強度、耐熱性、および耐薬品性に優れる。以下、アルミナ複合分離膜を複合多孔質体と呼ぶ。特許文献2にも、特許文献1と同様、フィルターに利用されるろ過媒体が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
特開2011-255303号公報
特開2011-183389号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
複合多孔質体の使用態様によっては、複合多孔質体が曲げられることがある。支持体である基材と多孔質薄膜層である被覆層との密着性に乏しい複合多孔質体は、曲げによって被覆層が基材から剥がれ易い。そのため、基材と被覆層との密着性の向上が望まれている。また、可とう性に乏しい複合多孔質体は、曲げによって損傷し易い。そのため、可とう性の向上が望まれている。
【0005】
本開示は、基材と被覆層との密着性に優れる上に、可とう性に優れる複合多孔質体を提供することを目的の一つとする。本開示は、基材と被覆層との密着性に優れる上に、可とう性に優れる複合多孔質体の製造方法を提供することを目的の一つとする。
【課題を解決するための手段】
【0006】
本開示の複合多孔質体は、
第一面を有する基材と、
前記第一面の少なくとも一部を覆う被覆層と、を備え、
前記基材は、ポリテトラフルオロエチレンによって構成された多孔質体であり、
前記被覆層は、複数のナノファイバーの積層体を含み、
前記多孔質体は、
分散して配置された複数のノードと、
前記複数のノード同士をつないでいるフィブリルと、を有し、
前記第一面が前記複数のノードを含み、
前記第一面における前記基材の平均孔径が5nm以上500nm以下であり、
前記第一面における前記複数のノードの面積率が30%以上70%以下である。
【0007】
本開示の複合多孔質体の製造方法は、
ポリテトラフルオロエチレンによって構成された多孔質体からなる基材を用意する工程Aと、
前記基材の第一面を親水化処理する工程Bと、
複数のナノファイバーを含む分散液を前記第一面に塗布する工程Cと、
前記分散液が塗布された前記基材を80℃以上200℃以下の加熱雰囲気下で熱処理する工程Dと、を備え、
前記工程Aで用意された前記多孔質体は、
分散して配置された複数のノードと、
前記複数のノード同士をつないでいるフィブリルと、を有し、
前記第一面が前記複数のノードを含み、
前記第一面における前記基材の平均孔径が5nm以上500nm以下であり、
前記第一面における前記複数のノードの面積率が30%以上70%以下であり、
前記工程Cにおける前記複数のナノファイバーの平均長さは、前記平均孔径の10倍以上である。
【発明の効果】
【0008】
本開示の複合多孔質体は、基材と被覆層との密着性に優れる上に、可とう性に優れる。
【0009】
本開示の複合多孔質体の製造方法は、基材と被覆層との密着性に優れる上に、可とう性に優れる複合多孔質体を製造できる。
【図面の簡単な説明】
【0010】
図1は、実施形態1に係るシート形状の複合多孔質体の概略構成図である。
図2は、図1の複合多孔質体に備わる基材の第一面を模式的に示す平面図である。
図3は、図1の複合多孔質体の構造を模式的に示す説明図である。
図4は、図2の複合多孔質体の被覆層の表面を模式的に示す説明図である。
図5は、実施形態2に係る筒形状の複合多孔質体の概略構成図である。
図6は、試験例に示される通液試験に用いられる試験装置の概略図である。
図7は、試験例に示される曲げ試験の概略説明図である。
【発明を実施するための形態】
(【0011】以降は省略されています)

この特許をJ-PlatPat(特許庁公式サイト)で参照する

関連特許

住友電気工業株式会社
窒化物半導体装置の製造方法
4日前
住友電気工業株式会社
アバランシェフォトダイオード
12日前
住友電気工業株式会社
画像処理装置、画像処理方法及び画像処理プログラム
4日前
住友電気工業株式会社
電力変換システム、制御方法、コンピュータプログラム
4日前
住友電気工業株式会社
マルチコア光ファイバ
4日前
住友電気工業株式会社
高電子移動度トランジスタおよび高電子移動度トランジスタの製造方法
4日前
株式会社オートネットワーク技術研究所
コネクタ
4日前
株式会社オートネットワーク技術研究所
基板用コネクタ
4日前
株式会社オートネットワーク技術研究所
電子部品モジュール
5日前
株式会社オートネットワーク技術研究所
オプション機器追加用内装部材
4日前
株式会社オートネットワーク技術研究所
基板用コネクタ及びコネクタ装置
4日前
株式会社オートネットワーク技術研究所
車載中継装置、中継方法および中継プログラム
4日前
住友電気工業株式会社
システム、サーバ、警告方法、及びコンピュータプログラム
6日前
株式会社オートネットワーク技術研究所
コネクタ
4日前
株式会社オートネットワーク技術研究所
オプション機器組込内装部材、オプション機器及び内装部材
4日前
株式会社西部技研
除湿装置
1か月前
株式会社日本触媒
ドロー溶質
1か月前
プライミクス株式会社
攪拌装置
4日前
日本バイリーン株式会社
フィルタ
18日前
サンノプコ株式会社
消泡剤
1か月前
東レ株式会社
遠心ポッティング方法
25日前
トヨタ自動車株式会社
濾過装置
19日前
株式会社切川物産
撹拌装置
5日前
個人
気液混合装置
1か月前
松岡紙業 株式会社
油吸着体の製造方法
1か月前
栗田工業株式会社
ギ酸の回収方法
5日前
富士電機株式会社
ガス処理システム
28日前
株式会社フクハラ
圧縮空気圧回路ユニット
1か月前
東芝ライテック株式会社
光照射装置
19日前
株式会社明電舎
成膜装置
28日前
日本化薬株式会社
直鎖ブテン製造用触媒及びその使用
25日前
東芝ライテック株式会社
紫外線処理装置
4日前
ノリタケ株式会社
触媒材料およびその利用
1か月前
本田技研工業株式会社
二酸化炭素回収装置
1か月前
本田技研工業株式会社
二酸化炭素回収装置
1か月前
本田技研工業株式会社
二酸化炭素回収装置
1か月前
続きを見る