TOP
|
特許
|
意匠
|
商標
特許ウォッチ
Twitter
他の特許を見る
10個以上の画像は省略されています。
公開番号
2025134911
公報種別
公開特許公報(A)
公開日
2025-09-17
出願番号
2025105437,2024554730
出願日
2025-06-23,2024-09-11
発明の名称
トリシクロデカンジメタノール組成物、紫外線硬化性組成物、重合体組成物、及びトリシクロデカンジメタノール組成物の製造方法
出願人
三菱ケミカル株式会社
代理人
弁理士法人特許事務所サイクス
主分類
C07C
31/27 20060101AFI20250909BHJP(有機化学)
要約
【課題】保存安定性に優れたトリシクロデカンジメタノール組成物の提供。
【解決手段】一方の鏡像異性体が下記式(I)~(IV)で示されるキラル化合物A~Dを含み、核磁気共鳴スペクトル法により測定される、前記キラル化合物A、B、およびA~Dの合計モル数をそれぞれXa、Xb、Xtとした場合に、Xa/Xt≦0.430、且つ、Xb/Xt≧0.016を満たす、トリシクロデカンジメタノール組成物。
<com:Image com:imageContentCategory="Drawing"> <com:ImageFormatCategory>TIFF</com:ImageFormatCategory> <com:FileName>2025134911000009.tif</com:FileName> <com:HeightMeasure com:measureUnitCode="Mm">65</com:HeightMeasure> <com:WidthMeasure com:measureUnitCode="Mm">170</com:WidthMeasure> </com:Image>
【選択図】なし
特許請求の範囲
【請求項1】
一方の鏡像異性体が下記式(I)で示されるキラル化合物A、一方の鏡像異性体が下記式(II)で示されるキラル化合物B、一方の鏡像異性体が下記式(III)で示されるキラル化合物C、及び一方の鏡像異性体が下記式(IV)で示されるキラル化合物Dを含み、
核磁気共鳴スペクトル法により測定される、前記キラル化合物Aのモル数Xa、前記キラル化合物Bのモル数Xb、並びに、前記キラル化合物A、前記キラル化合物B、前記キラル化合物C、及び前記キラル化合物Dのモル数の合計モル数Xtが、Xa/Xt≦0.430、且つ、Xb/Xt≧0.016を満たす、トリシクロデカンジメタノール組成物。
TIFF
2025134911000008.tif
65
170
続きを表示(約 1,100 文字)
【請求項2】
前記Xb及び前記Xtが、Xb/Xt≧0.020を満たす、請求項1に記載のトリシクロデカンジメタノール組成物。
【請求項3】
前記Xa及び前記Xtが、Xa/Xt≦0.400を満たす、請求項1に記載のトリシクロデカンジメタノール組成物。
【請求項4】
前記Xb及び前記Xtが、Xb/Xt≧0.027を満たす、請求項1に記載のトリシクロデカンジメタノール組成物。
【請求項5】
前記Xa及び前記Xtが、Xa/Xt<0.350を満たす、請求項1に記載のトリシクロデカンジメタノール組成物。
【請求項6】
核磁気共鳴スペクトル法により測定される、前記キラル化合物Cのモル数Xc、及び前記Xtが、Xc/Xt≧0.300を満たす、請求項1に記載のトリシクロデカンジメタノール組成物。
【請求項7】
核磁気共鳴スペクトル法により測定される、前記キラル化合物Dのモル数Xd、及び前記Xtが、Xd/Xt≧0.240を満たす、請求項1に記載のトリシクロデカンジメタノール組成物。
【請求項8】
前記Xa、前記Xb、核磁気共鳴スペクトル法により測定される、前記キラル化合物Cのモル数Xc、及び前記キラル化合物Dのモル数Xdが、Xb/(Xa+Xc+Xd)≧0.010を満たす、請求項1に記載のトリシクロデカンジメタノール組成物。
【請求項9】
前記キラル化合物Bは、ガスクロマトグラフィー(GC)を用いて下記測定条件で前記組成物を測定したときに、保持時間13.65~13.85分の範囲内に検出される、請求項1に記載のトリシクロデカンジメタノール組成物。
(測定条件)
カラム:キャピラリーカラム(長さ30m×内径0.25mm×膜厚1μm)
液相:100%ジメチルポリシロキサン
キャリアーガス:ヘリウム
キャリアーガスカラム流速:1mL/分
スプリット比:1/30
注入量:0.3μL
オーブン温度:160℃(保持時間なし)→5℃/分で昇温→300℃(保持時間2分)
注入口温度:200℃
検出器:フレームイオン化検出器(温度 300℃)
【請求項10】
前記キラル化合物Aは、ガスクロマトグラフィー(GC)を用いて前記測定条件で前記組成物を測定したときに、保持時間13.85~14.05分の範囲内に検出される、請求項9に記載のトリシクロデカンジメタノール組成物。
(【請求項11】以降は省略されています)
発明の詳細な説明
【技術分野】
【0001】
本発明は、トリシクロデカンジメタノール組成物、紫外線硬化性組成物、重合体組成物、及びトリシクロデカンジメタノール組成物の製造方法に関する。
続きを表示(約 1,700 文字)
【背景技術】
【0002】
トリシクロデカンジメタノール(以下、「TCDDM」と略する。)は、脂環式構造を有する二価アルコールである。TCDDMは、触媒存在下、ジシクロペンタジエンに一酸化炭素と水素を作用させるヒドロホルミル化反応でアルデヒド体を得た後、これを水素還元することにより製造される(特許文献1、特許文献2、特許文献3)。
【0003】
成形材料分野、電子材料分野及び表示装置用部材の分野では、透明性、耐熱性及び低吸水性の観点から、脂環式の分子構造を有する材料が使用されている。
近年、脂環式の分子構造を有する材料として、上述したTCDDMを構成成分として含有するポリマーは、TCDDMの脂環式構造に由来して、硬度、透明性、耐熱性及び低吸水性において優れた性能を発現することが知られており、TCDDMは、ポリエステルやポリカーボネート等の成形材料の合成原料として注目されている。
TCDDMを原料として合成されるTCDDMのジアクリル酸エステル誘導体、ジメタクリル酸エステル誘導体、ウレタンアクリレートなどの誘導体は、紫外線硬化性組成物として使用されている。このような紫外線硬化性組成物を用いた硬化物は、TCDDMの脂環式構造に由来して、表面硬度、耐熱性(ガラス転移温度)、耐熱分解性、現像耐性において優れた性能を発現することから、ハードコート、防汚コート、レジスト等の電子材料及び表示装置用部材として注目されている。
【0004】
TCDDMを工業的に製造する方法として、ジシクロペンタジエンをヒドロホルミル化反応、次いで水素還元反応させた後に、蒸留精製してTCDDMを得る方法が挙げられる。
前記ヒドロホルミル化反応において、ジシクロペンタジエンのノルボルナン環の二重結合の反応性は5員環二重結合に比べて高い。このため、1個目のホルミル基がノルボルナン環に付加したあと、2個目のホルミル基が5員環の二重結合に付加する(非特許文献1)。その結果、水素還元反応後に得られたTCDDMは、5員環においてヒドロキシメチル基の結合位置が異なる複数種の異性体を主成分とするTCDDMの混合物(以下、「TCDDM組成物」という。)であることが知られている(非特許文献2)。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0005】
特開2020-132624号公報
特開2021-520401号公報
国際公開第2023/277347号
【非特許文献】
【0006】
日立化成テクニカルレポート,NO.51(2008-7),P7~12
Applied Catalyst,Vol.19,pp259-273(1985)
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0007】
本発明者らは、水素還元反応後に蒸留精製して得られたTCDDM組成物は、該TCDDM組成物の組成によっては、蒸留直後は流動性を有しても、保管中に流動性が低下して取扱性が低下する場合があること、すなわち保存安定性に劣ることを、新たに見出した。
【0008】
TCDDM組成物の流動性が低下した場合、このTCDDM組成物又はTCDDM組成物を含む原料混合物(以下、「TCDDM組成物等」という。)を、ギヤポンプ等で送液することが困難になる、又は、TCDDM組成物等の流動性を改善するために加熱することで、TCDDM組成物等が変質する等の問題がある。
【0009】
しかしながら、特許文献1~3は、TCDDM組成物の組成により、該TCDDM組成物の保存安定性が劣ることや、TCDDM組成物の保存安定性を改善する方法について何ら言及していない。
【0010】
本発明は、保存安定性に優れたTCDDM組成物を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
(【0011】以降は省略されています)
この特許をJ-PlatPat(特許庁公式サイト)で参照する
関連特許
東ソー株式会社
タンパク質の発現方法
10日前
東ソー株式会社
炭素-窒素結合形成方法
2か月前
株式会社トクヤマ
四塩化炭素の製造方法
2か月前
株式会社トクヤマ
シロキサン類の回収方法
2か月前
日産化学株式会社
ピリジン化合物の製造方法
4か月前
株式会社トクヤマ
ビオチン誘導体の製造方法
2か月前
株式会社半導体エネルギー研究所
有機化合物
1か月前
株式会社トクヤマ
ベンザゼピン化合物の製造方法
1か月前
株式会社コスモス
液状炭化水素の増産方法
1か月前
東ソー株式会社
イソシアネート化合物の製造方法
1か月前
株式会社コスモス
液状炭化水素の増産方法
1か月前
株式会社トクヤマ
ホルムアミド化合物の製造方法
1か月前
株式会社トクヤマ
チオラクトン誘導体の製造方法
今日
日本特殊陶業株式会社
メタン製造装置
3か月前
artience株式会社
四塩基酸無水物の製造方法
2か月前
金剛化学株式会社
ボルチオキセチンの製造方法
4か月前
ユニチカ株式会社
ビスマレイミドおよびその製造方法
3か月前
信越化学工業株式会社
新規化合物
2か月前
四国化成工業株式会社
エポキシ化合物およびその利用
4か月前
日産化学株式会社
ピラゾール化合物及び有害生物防除剤
2か月前
日産化学株式会社
ピラゾール化合物及び有害生物防除剤
3か月前
三菱ケミカル株式会社
アルコールの製造方法
18日前
四国化成工業株式会社
テレフタル酸化合物およびその利用
4か月前
四国化成工業株式会社
イソフタル酸化合物およびその利用
4か月前
国立大学法人東京農工大学
深共晶溶媒
1か月前
株式会社トクヤマ
サフィナミド若しくはその塩の製造方法
2か月前
キヤノン株式会社
有機化合物及び有機発光素子
4か月前
東ソー株式会社
免疫グロブリン結合性タンパク質の保存溶液
2か月前
キヤノン株式会社
有機化合物及び有機発光素子
3か月前
JNC株式会社
有機ケイ素化合物およびこれを用いた重合体
1か月前
株式会社カネカ
プロピレンオキサイド(PO)製造システム
4か月前
東ソー株式会社
免疫グロブリン結合性タンパク質の製造方法
10日前
キヤノン株式会社
有機化合物及び有機発光素子
3か月前
旭化成株式会社
トリオキサンの製造方法
3か月前
キヤノン株式会社
有機化合物及び有機発光素子
今日
キヤノン株式会社
有機化合物及び有機発光素子
3か月前
続きを見る
他の特許を見る