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公開番号2025134714
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-09-17
出願番号2025087670,2021163408
出願日2025-05-27,2020-11-26
発明の名称フッ素系炭化水素化合物の脱水方法
出願人ダイキン工業株式会社
代理人弁理士法人三枝国際特許事務所
主分類H01L 21/3065 20060101AFI20250909BHJP(基本的電気素子)
要約【課題】本開示は、HFC-134a等のフッ素系炭化水素化合物を含む組成物を脱水する方法を提供することを目的とする。
【解決手段】フッ素系炭化水素化合物を含む組成物をゼオライトに接触させる工程を含む、脱水方法。
【選択図】なし
特許請求の範囲【請求項１】
フッ素系炭化水素化合物を含む組成物の脱水方法であって、
前記フッ素系炭化水素化合物は、1,1,1,2-テトラフルオロエタン（HFC-134a）、1,1,1,2,2-ペンタフルオロエタン（HFC-125）、ジフルオロメタン（HFC-32）、及び、2,3,3,3-
テトラフルオロプロペン（HFO-1234yf）からなる群から選択される少なくとも一種の化合物であり、
前記フッ素系炭化水素化合物を含む組成物を、シリカアルミナ（SiO
2
／Al
2
O
3
）比が5以上のゼオライトに接触させる工程を含む、脱水方法。
続きを表示（約 1,900 文字）【請求項２】
フッ素系炭化水素化合物を含む組成物の脱水方法であって、
前記フッ素系炭化水素化合物は、1,1,1,2-テトラフルオロエタン（HFC-134a）、1,1,1,2,2-ペンタフルオロエタン（HFC-125）、ジフルオロメタン（HFC-32）、及び、2,3,3,3-
テトラフルオロプロペン（HFO-1234yf）からなる群から選択される少なくとも一種の化合物であり、
前記フッ素系炭化水素化合物を含む組成物を、チャバザイト型ゼオライト、モルデナイト型ゼオライト、ベータ型ゼオライト、及び、Y型ゼオライトからなる群から選択される
少なくとも一種のゼオライトに接触させる工程を含む、脱水方法。
【請求項３】
前記工程は、脱水後の組成物において、水分量を3ppmwt未満とする、請求項1又は2に記載の脱水方法。
【請求項４】
更に、前記フッ素系炭化水素化合物を含む組成物を、前記ゼオライトに接触させて、1,1,2,2-テトラフルオロエタン（HFC-134）を除去する工程を含む、請求項1～3のいずれか
に記載の脱水方法。
【請求項５】
フッ素系炭化水素化合物を含む組成物の製造方法であって、
前記フッ素系炭化水素化合物は、1,1,1,2-テトラフルオロエタン（HFC-134a）、1,1,1,2,2-ペンタフルオロエタン（HFC-125）、ジフルオロメタン（HFC-32）、及び、2,3,3,3-
テトラフルオロプロペン（HFO-1234yf）からなる群から選択される少なくとも一種の化合物であり、
前記フッ素系炭化水素化合物を含む組成物を、シリカアルミナ（SiO
2
／Al
2
O
3
）比が5以上のゼオライトに接触させる工程を含む、製造方法。
【請求項６】
フッ素系炭化水素化合物を含む組成物の製造方法であって、
前記フッ素系炭化水素化合物は、1,1,1,2-テトラフルオロエタン（HFC-134a）、1,1,1,2,2-ペンタフルオロエタン（HFC-125）、ジフルオロメタン（HFC-32）、及び、2,3,3,3-
テトラフルオロプロペン（HFO-1234yf）からなる群から選択される少なくとも一種の化合物であり、
前記フッ素系炭化水素化合物を含む組成物を、チャバザイト型ゼオライト、モルデナイト型ゼオライト、ベータ型ゼオライト、及び、Y型ゼオライトからなる群から選択される
少なくとも一種のゼオライトに接触させる工程を含む、製造方法。
【請求項７】
前記ゼオライトに接触させた後の組成物は、水分量が3ppmwt未満である、請求項5又は6に記載の製造方法。
【請求項８】
更に、前記フッ素系炭化水素化合物を含む組成物を、前記ゼオライトに接触させて、1,1,2,2-テトラフルオロエタン（HFC-134）を除去する工程を含む、請求項5～7のいずれか
に記載の製造方法。
【請求項９】
シリカアルミナ（SiO
2
／Al
2
O
3
）比が5以上のゼオライトに、1,1,1,2-テトラフルオロエタン（HFC-134a）、1,1,1,2,2-ペンタフルオロエタン（HFC-125）、ジフルオロメタン（HFC-32）、及び、2,3,3,3-テトラフルオロプロペン（HFO-1234yf）からなる群から選択さ
れる少なくとも一種のフッ素系炭化水素化合物を含む組成物を接触させて、該フッ素系炭化水素化合物に含まれる不純物を除去する工程を有することを特徴とする高純度フッ素系炭化水素化合物の製造方法。
【請求項１０】
チャバザイト型ゼオライト、モルデナイト型ゼオライト、ベータ型ゼオライト、及び、Y型ゼオライトからなる群から選択される少なくとも一種のゼオライトに、1,1,1,2-テト
ラフルオロエタン（HFC-134a）、1,1,1,2,2-ペンタフルオロエタン（HFC-125）、ジフル
オロメタン（HFC-32）、及び、2,3,3,3-テトラフルオロプロペン（HFO-1234yf）からなる群から選択される少なくとも一種のフッ素系炭化水素化合物を含む組成物を接触させて、該フッ素系炭化水素化合物に含まれる不純物を除去する工程を有することを特徴とする高純度フッ素系炭化水素化合物の製造方法。
（【請求項１１】以降は省略されています）
発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本開示は、フッ素系炭化水素化合物の脱水方法に関する。
続きを表示（約 1,200 文字）【背景技術】
【０００２】
ジフルオロメタン（HFC-32）等のフッ素系炭化水素化合物は、半導体製造プロセスにおけるエッチングガスとして、広く用いられている。
【０００３】
従来、HFC-32等のフッ素系炭化水素化合物は、A型ゼオライトを用いて、水分を吸着さ
せて、脱水されている（例えば、特許文献1）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
特許第5446710号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本開示は、HFC-134a等のフッ素系炭化水素化合物を含む組成物を脱水する方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本開示は、以下の構成を包含する。
【０００７】
項１．
フッ素系炭化水素化合物を含む組成物の脱水方法であって、
前記フッ素系炭化水素化合物は、1,1,1,2-テトラフルオロエタン（HFC-134a）、1,1,1,2,2-ペンタフルオロエタン（HFC-125）、ジフルオロメタン（HFC-32）、及び、2,3,3,3-
テトラフルオロプロペン（HFO-1234yf）からなる群から選択される少なくとも一種の化合物であり、
前記フッ素系炭化水素化合物を含む組成物を、シリカアルミナ（SiO
2
／Al
2
O
3
）比が5以上のゼオライトに接触させる工程を含む、脱水方法。
【０００８】
項２．
フッ素系炭化水素化合物を含む組成物の脱水方法であって、
前記フッ素系炭化水素化合物は、1,1,1,2-テトラフルオロエタン（HFC-134a）、1,1,1,2,2-ペンタフルオロエタン（HFC-125）、ジフルオロメタン（HFC-32）、及び、2,3,3,3-
テトラフルオロプロペン（HFO-1234yf）からなる群から選択される少なくとも一種の化合物であり、
前記フッ素系炭化水素化合物を含む組成物を、チャバザイト型ゼオライト、モルデナイト型ゼオライト、ベータ型ゼオライト、及び、Y型ゼオライトからなる群から選択される
少なくとも一種のゼオライトに接触させる工程を含む、脱水方法。
【０００９】
項３．
前記工程は、脱水後の組成物において、水分量を3ppmwt未満とする、前記項1又は2に記載の脱水方法。
【００１０】
項４．
更に、前記フッ素系炭化水素化合物を含む組成物を、前記ゼオライトに接触させて、1,
1,2,2-テトラフルオロエタン（HFC-134）を除去する工程を含む、前記項1～3のいずれか
に記載の脱水方法。
（【００１１】以降は省略されています）

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